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951.
依据SMM-601型超导量子干涉显微镜检测部分构建计算模型,采用电磁场有限元方法分析了残余应力引起的非磁性金属材料铍电导率变化对超导量子干涉仪(SQUID)检测信号的影响,并讨论了该方法实际应用于非磁性金属材料残余应力检测的条件和可能性。 相似文献
952.
953.
Effect of Interfacial Adsorption on the Stability of Thin Polymer Films in a Solvent-induced Process
The stability of ultrathin polymer films plays a crucial role in their technological applications. Here, we systematically investigated the influence of interfacial adsorption in physical aging and the stability of thin polymer films in the solvent-induced process. We further identify the stability mechanism from the theory of thin film stability. Our results show that the aging temperature and film thickness can strongly influence the stability of thin PS films in acetone vapor. Physical aging can greatly improve the stability of thin polymer films when the aging temperature T_(aging1)T_g. A thinner PS film more quickly reaches a stable state via physical aging. At short aging time, the formation of the adsorbed layer can reduce the polar interaction; however, it slightly influences the stability of thin polymer films in the solvent-induced process. At later aging stage,the conformational rearrangement of the polymer chains induced by the interfacial effect at the aging temperature T_(aging1) plays an important role in stabilizing the thin polymer films. However, at T_(aging2)T_g, the process of physical aging slightly influences the stability of the thin polymer films.The formation of the adsorbed layer at T_(aging2) can reduce the short-range polar interaction of the thin film system and cannot suppress the instability of thin polymer films in the solvent-induced process. These results provide further insight into the stable mechanism of thin polymer films in the solvent-induced process. 相似文献
954.
A citric acid ligand assisted self-assembly method is used for the synthesis of ternary mesoporous cerium lanthanum solid solution doped with metal elements (Co, Zr, Mg). Their textural property was characterized by X-ray diffraction, transmission electron microscopy, N2 adsorption-desorption, X-ray photoelectron spectroscopy and TPD techniques, and so on. The results of catalytic testing for synthesis of dimethyl carbonate (DMC) from CH3OH and CO2 indicated that the DMC yield reached 316 mmol/g on Ce-La-Co solid solution when the reaction temperature was 413 K and the reaction pressure was 8.0 MPa. It was found that Co had synergistic effect with La and Ce, doping of Co on the mesoporous Ce-La solid solution was helpful to increase the surface area of the catalyst, promote CO2 adsorption and activation, and improve the redox performance of solid solution catalyst. The conversion of Co2+ to Co3+ resulted in the continuous redox cycle between Ce4+ and Ce3+, and the oxygen vacancy content of the catalyst was increased. Studies have shown that the catalytic performance of Ce-La-Co solid solution is positively correlated with oxygen vacancy content. On this basis, the reaction mechanism of DMC synthesis from CO2 and CH3OH on the catalyst was speculated. 相似文献
955.
956.
957.
高功率半导体激光端面泵浦方形掺Nd3+离子激光晶体热形变研究 总被引:5,自引:4,他引:1
为了解决高功率半导体激光器端面泵浦激光晶体引起的热效应问题,激光晶体泵浦端面的热形变必须进行准确的计算.通过对于全固态激光器中激光晶体的工作特点分析,建立了矩形截面激光晶体热分析模型.基于热传导方程,提出了泊松方程的一种新解,并获得了矩形截面激光晶体端面热形变分布的一般解析表达式.同时讨论了半导体激光器偏心泵浦激光晶体给端面热形变带来的影响.与有限元分析方法以及其他数值分析方法相比,解析分析方法不会给计算引入任何的误差.热形变的解析分析为解决激光晶体的热效应问题以及提高激光器的性能提供了理论的依据. 相似文献
958.
双向分束角对称的偏光分束镜设计与性能分析 总被引:4,自引:4,他引:0
为了获得分束角对称的偏光分束棱镜,在双Wollaston棱镜结构的基础上,通过合理设计棱镜左右两端晶体光轴的取向,使棱镜整体呈中心切面对称;在保证对正向入射的光对称分束的同时,对反向入射光同样可以对称分束,达到了双向对称分束的目的;在此基础上给出了晶体光轴的旋转角δ与棱镜结构角S以及与波长的关系;并分析了对633 nm设计的棱镜用于其他波长时分束角的对称性.结果表明:在±300 nm的光谱范围内,分束角的不对称度均小于0.24°. 相似文献
959.
D形光纤Bragg光栅弯曲灵敏度的理论和实验研究 总被引:2,自引:1,他引:1
用材料力学理论分析了D形光纤Bragg光栅(D-shaped fiber Bragg grating,D-FBG)以及常规光纤Bragg光栅由弯曲引起的轴向应变,得到了光栅Bragg波长漂移的弯曲敏感特性.实验结果和理论计算结果基本相符.与常规FBG相比,该D-FBG的弯曲灵敏度要高近80倍.因此D-FBG可以直接应用于弯曲形变的测量,以及间接应用于压力、加速度等物理量的测量.理论分析和实验结果对采用该类型光纤光栅的器件和传感系统的设计具有参考意义. 相似文献
960.
随着光刻特征尺寸的不断减小,硅片表面不平度对光刻性能的影响越来越显著.该文提出了一种新的硅片表面不平度的原位检测技术本文在分析特殊测试标记成像规律的基础上,讨论了测试标记的对准位置偏移量与硅片表面起伏高度的变化规律,提出了一种新的硅片表面不平度原位检测技术.实验表明,该技术可实现硅片表面不平度及硅片表面形貌的高准确度原位测量.该技术考虑了光刻机承片台吸附力的非均匀性对硅片表面不平度的影响,更真实反映曝光工作状态下的硅片表面不平度大小.与现有的原位检测方法相比,硅片表面不平度的测量空间分辨率提高了1.67%倍,可实现硅片表面形貌的原位检测. 相似文献