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61.
机械力化学作用对低介硅灰石瓷料的相变和相组成的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用X射线衍射仪(XRD)、差热分析(DTA)手段详细研究了由氧化物粉末制备硅灰石陶瓷时,机械力化学作用及后续热处理对硅灰石陶瓷相组成和相变过程的影响,分析了机械力化学在球磨过程中的作用机理主要是细化晶粒、使晶格畸变、晶格缺陷增多、非晶化和诱导低温化学反应。结果表明:高能球磨中的机械力化学作用能够有效地降低硅灰石陶瓷的烧成温度(11160~11220℃)。探明了经高能球磨的样品在烧成过程中的晶相转变规律。瓷料最终的晶相为单一的-硅灰石(高温变体)。  相似文献   
62.
采用TSMC 0.25μm CMOS技术设计实现了高速低功耗光纤通信用限幅放大器.该放大器采用有源电感负载技术和放大器直接耦合技术以提高增益,拓展带宽,降低功耗并保持了良好的噪声性能.电路采用3.3V单电源供电,电路增益可达50dB,输入动态范围小于5mVpp,最高工作速率可达7Gb/s,均方根抖动小于0.03UI.此外核心电路功耗小于40mW,芯片面积仅为0.70mm×0.70mm.可满足2.5,3.125和5Gb/s三个速率级的光纤通信系统的要求.  相似文献   
63.
玻璃微珠的表面化学镀银及红外辐射性能研究   总被引:6,自引:1,他引:5  
采用化学镀方法在玻璃微珠表面镀银,考察了预处理条件、反应温度和反应时间等因素对玻璃微珠表面镀银的影响,并通过扫描电镜和X-射线衍射分析仪,对镀银后玻璃微珠的表面形貌和结构进行了观察和表征。将镀银玻璃微珠用于涂料中,考察了玻璃微珠在涂料中的应用及其红外辐射率的变化,探讨了化学镀条件对涂料红外辐射率的影响,结果表明,在控制反应温度和浓度的条件下,可使镀银玻璃微珠的红外辐射率由原来的1.02降为0.70,将其应用于涂料后,涂层的红外辐射率为0.80。  相似文献   
64.
具有控制项的限定记忆卡尔曼滤波器   总被引:1,自引:0,他引:1  
在已有的限定记忆卡尔曼滤波器的基础上 ,将确定性先验信息作为控制项加以应用 ,推导出了完整的限定记忆卡尔曼滤波公式 ,从而在记忆长度确定的情况下 ,有效地减小了模型不准的误差 ,降低了滤波总误差。仿真同样表明了该方法的有效性  相似文献   
65.
介绍了一种新型的通信传媒设备,详细介绍了该接收机的工作机理、结构、功能特点以及软硬件的设计思路。  相似文献   
66.
基站智能天线多波束合成技术   总被引:5,自引:2,他引:3       下载免费PDF全文
采用数字波束形成的技术,给出了基站智能天线多波束合成的有效算法。对圆环阵分布的基站天线多波束方向图进行了综合,得到了空间隔离度很好的多个波束,并将副瓣控制在30dB以下,结果令人满意。该方法可用于任意单元构成的不均匀阵列天线,还可用于波束展宽及扇形波束的合成。  相似文献   
67.
线性调频信号检测方法的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
在线性调频信号体制雷达的数字脉冲压缩系统中对数字脉压后的脉冲串进行DFT相参处理时,若采样时刻偏离脉压回波的峰值时刻,不同的采样频率使得DFT相参积累后的信噪比会有不同程度的损失。本文详细分析了采样频率分别为20MHz和10MHz时对信号相参积累的影响,并对幅值检测和M/N检测两种检测方法的检测性能进行了比较,仿真结果表明,M/N检测优于幅值检测。  相似文献   
68.
孙天竹  郭军 《信息技术》2004,28(9):73-74,85
介绍了在常规模式下开发信息系统项目的不利因素,提出了在信息系统工程项目开发中引入工程监理的信息系统开发模式,对信息系统工程监理的概念、主要工作任务进行了说明,中心论述了在引入了信息系统工程监理机制的开发中的建设方、承建方和监理方的三者关系。  相似文献   
69.
引入激光回馈的双光束干涉效应的研究   总被引:4,自引:4,他引:0  
刘刚  张书练  朱钧  李岩 《激光技术》2003,27(5):470-472
提出了一种引入He-Ne激光回馈的双光束干涉系统,并在理论和实验两方面进行了研究。实验中对系统中的干涉信号及激光器尾光功率变化同时进行探测。发现当干涉仪的主回馈镜移动时,激光器尾光信号是正弦形波形,而干涉仪输出的是以双峰为一个周期的信号,双峰中一峰总是高于另一峰,并且当主回馈镜移动方向改变时,同一周期中两峰出现的顺序也随之改变。对实验现象进行了理论分析,并模拟出干涉信号及激光自身功率的变化曲线。理论分析及模拟结果与实验结果完全吻合。讨论了利用发现的现象进行测量的可行性,所提出的测量方法易于实现。  相似文献   
70.
不同表面预处理对有机电致发光显示器性能的影响   总被引:1,自引:1,他引:0  
从生产角度研究了基板表面的预处理工艺对OLED性能的影响,分别用UVOzone、氧Plasma以及两者相结合的方式对基板进行表面处理,并按照生产工艺制作器件,从接触角、方阻以及光电特性等测试结果对各种表面处理的样品进行比较。结果表明以上处理都改善了器件性能,不同程度提高了器件的清洁度、亮度和发光效率,其中UVOzone和氧Plasma结合的方式处理效果最为显著,器件在10V时亮度达到79920cd/m2,比其他两种处理方式亮度提高约25%。  相似文献   
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