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161.
在语音时域挑选剩余可懂度低的可用置换集合,置换集合是语音TDS系统中不可缺少的重要环节,本文给出了可用置换选取的条件、客观评价标准和方法。 相似文献
162.
本文根据ITU-T最新的Q.2971协议,以及笔者所从事的实际课题,提出一整套B-ISDN第三层UNI信令的软件实现策略,其特点是能同时满足用户对点到点以及点到多点广播这两种通信方式的要求,而且可以动态配置。 相似文献
163.
文章报道了用分子束外延(MBE)法在600℃和650℃下,在Si掺杂的GaAs衬底的(311)A和(311)B面上成功地生长了高质量的AlxGa1-As/GaAs单量子阱材料。计算了光荧光(PL)峰值能量,并与实验作了比较。讨论了(311)A和(311)B面上的不同生长特性。 相似文献
164.
相转移法制备高纯超细TiO2技术研究 总被引:9,自引:0,他引:9
报道了用相转移法制备高纯超细TiO2的新技术;探讨了Ti(Ⅳ)从有机相转移到水相发生水解反应的机理 ;通过TG-DTA分析以及XRD物相分析对水解产物的组成、热分解机理,晶型转变规律进行了研究,建立了水解产物焙烧的最佳温度。 相似文献
165.
本文介绍一个新的建立统计宏模型的系统,它采用新的方法,得到简化的二次多项式,这种形式便于优化处理,适用于容差设计。 相似文献
166.
Chun Hu Ji Zhao Li G.P. Liu P. Worley E. White J. Kjar R. 《Electron Device Letters, IEEE》1995,16(2):61-63
The effects of the plasma etching process induced gate oxide damages on device's low frequency noise behavior are investigated on MOSFET's fabricated with different field plate perimeter to gate area ratio antennas. Abnormal 1/f noise spectrum with a shoulder centered in the frequency range of 100 and to 1 kHz was frequently observed in small geometry devices, and it is attributable to a nonuniform distribution of oxide traps induced by plasma etching process 相似文献
167.
The magnetic properties of polyethersulfone-matrix composites with 3-19 vol.% polycrystalline nickel filaments (0.4 (im diam)
were investigated. These filaments were found to exhibit hysteresis energy loss 10800 J/m3 of nickel and coercive force 16.9 kA/m, compared to corresponding values of 4930 J/m3 and 4.7 kA/m for 2 μ.m diam polycrystalline nickel fibers, 1020 J/m3 and 0.5 kA/m for 20 μm diam polycrystalline nickel fibers, and 1280 J/m3 and 2.3 kA/m for solid polycrystalline nickel. 相似文献
168.
Xiang Lu S. Sundar Kumar Iyer Jin Lee Brian Doyle Zhineng Fan Paul K. Chu Chenming Hu Nathan W. Cheung 《Journal of Electronic Materials》1998,27(9):1059-1066
We have demonstrated feasibility to form silicon-on-insulator (SOI) substrates using plasma immersion ion implantation (PIII)
for both separation by implantation of oxygen and ion-cut. This high throughput technique can substantially lower the high
cost of SOI substrates due to the simpler implanter design as well as ease of maintenance. For separation by plasma implantation
of oxygen wafers, secondary ion mass spectrometry analysis and cross-sectional transmission electron micrographs show continuous
buried oxide formation under a single-crystal silicon overlayer with sharp Si/SiO2 interfaces after oxygen plasma implantation and high-temperature (1300°C) annealing. Ion-cut SOI wafer fabrication technique
is implemented for the first time using PIII. The hydrogen plasma can be optimized so that only one ion species is dominant
in concentration and there are minimal effects by other residual ions on the ion-cut process. The physical mechanism of hydrogen
induced silicon surface layer cleavage has been investigated. An ideal gas law model of the microcavity internal pressure
combined with a two-dimensional finite element fracture mechanics model is used to approximate the fracture driving force
which is sufficient to overcome the silicon fracture resistance. 相似文献
169.
描述了一种延长EPR波谱仪中速调管使用寿命的方法.根据这种方法,只要正确地调谐微波桥的工作状态和适当地调整功率电平器的功率校正电平.即使对于已经严重老化的速调管仍然可以继续使用一段时间,维持仪器的正常运行. 相似文献
170.
Assaderaghi F. Chen J. Solomon R. Chian T.-Y. Ko P.K. Hu C. 《Electron Device Letters, IEEE》1991,12(10):518-520
It has been found that the subthreshold currents of fully depleted silicon-on-insulator (SOI) MOSFETs show a transient behavior under certain front-gate and back-gate voltage conditions. The cause of this anomaly is explained, and applications for the phenomenon are pointed out. Particularly, a simple way to measure the silicon film thickness is suggested 相似文献