交直流薄膜耐压测试仪的研制

电气用塑料薄膜要求进行耐电压测试,研制的交直流两用薄膜耐压测试仪,耐压测试室正面设有推拉门且设计了专门的操作台,提高了实验人员工作舒适度;升压变压器次级通过电阻间接接地,避免分布电容将高电压感应到低压线路以及免高压对控制线路的干扰,同时又提高实验人员的安全性;PLC与3位BCD拨码开关组成的升压速度设定系统,既经济又精确直观,同时节省了PLC输入/输出点数。     

宽角度入射400～700 nm波段减反射薄膜的研究

利用非均匀膜系理论设计宽角度多层减反射薄膜的方法,从理论分析了宽角度情况下的偏振光产生透过率不同的原因,选取了MgF2、HfO2和TiO2 3种材料作为折射率材料,选取BK7作为基底材料,模拟设计了光谱区在400～700 nm波段、入射角为0～70°的多层减反射薄膜,其P光和S光透过率达90%以上.     

永磁式直流测速发电机的特点

随着新型永磁材料的不断产生和应用,永磁式直流电动机也越来越被广泛地应用于各行各业。永磁式直流测速发电机在低速控制系统中被作为反馈元件或稳速元件。它除具有一般测速发电机的优点以外,还具有结构简单、紧凑,反馈灵敏度高,低速精确度高,输出斜率大,线性误差小,可靠性好,寿命长等特点。介绍了永磁直流测速发电机的设计及其主要特点。     

企业信息系统中高级发布/订阅层的实现

基于消息的企业应用程序之间的交互越加受到关注，它主要使用发布，订阅机制实现数据（消息）的交换。但是大多数的发布，订阅通知服务均假定在同一命名空间，不支持异构空间的应用之间的数据交换。首先简要描述了用于消息的分布式异构应用程序之间的作为高层发布机制基于概念的方法，然后讨论了设计和应用该发布机制的相关问题，以及如何将该机制集成于J2EE平台的方法。     

InGaN/GaN多量子阱蓝光LED的p-GaN盖层的MOCVD生长研究

利用金属有机物化学气相淀积（MOCVD）生长了InGaN／GaN多量子阱（MQW）蓝光发光二极管（LED）,研究了不同Cp2Mg流量下生长的p-GaN盖层对器件电学特性的影响。结果表明,随着Cp2Mg流量的提高,漏电流升高,并且到达一临界点会迅速恶化;正向压降则先降低,后升高。进而研究相同生长条件下生长的p-GaN薄膜的电学特性、表面形貌及晶体质量,结果表明,生长p-GaN盖层时,Cp2Mg流量过低,盖层的空穴浓度低,电学特性不好;Cp2Mg流量过高,则会产生大量的缺陷,盖层晶体质量与表面形貌变差,使得空穴浓度降低,电学特性变差。因此,生长p-GaN盖层时,为使器件的正向压降与反向漏电流均达到要求,Cp2Mg流量应精确控制。     

轴棱锥非圆对称加工误差对贝塞耳光束质量的影响

在惠更斯-菲涅耳衍射积分理论和稳相法的基础上,分析了轴棱锥非圆对称加工误差对其所产生的零阶贝塞耳光束(J0光束)质量的影响,对CCD拍摄的贝塞耳光斑图样进行了数值模拟。计算结果指出,当轴棱锥的截面为圆对称的理想加工时,轴棱锥产生的光场分布为近似理想的零阶贝塞耳光。当存在非圆对称加工误差,且截面为椭圆形时,衍射光斑将偏离J0光.随着椭圆半长短轴之差的增大,偏离程度增大。实验结果和理论模拟吻合得很好。     

激光远场直接探测系统探测器阵列靶板的设计

设计了一种激光远场直接探测系统,对系统中的两个关键问题进行了讨论,一、在探测 器阵列靶板尺寸的确定问题上讨论了激光的衍射效应和大气湍流的影响;二、在探测器阵列靶板分辨率的确定问题上讨论了激光的衍射效应和大气湍流的影响;对第二问题讨论了对其有影响的三个方面:大气湍流引起激光碎斑尺寸,由采样定理决定的空间采样率,由阵列探测器的频谱函数引起的损失。这些影响都是在设计时必须予以充分考虑的因素。     

PML吸收边界条件在波导不连续性问题中的应用

采用矢量有限元方法结合PML吸收边界条件分析波导不连续性问题。利用PML吸收边界条件截断计算区域,可以减少内存消耗;采用模式正交性计算波导结构的S参数,可以获得更加精确的解。在结果验证阶段,分别对PML参数设置、厚度选择、波导介质不连续性以及波导结构不连续性模型进行分析,将计算结果与文献对比,验证了PML吸收边界条件的有限元法分析波导不连续性问题的准确性。     

一种具有两个传输零点的新型带通滤波器

在分析带通滤波器等效电路类型与特点的基础上,提出了一种简单的且具有两个传输零点的新型带通滤波器结构,有效解决了低介电常数多芯片组件(MCM)集成带通滤波器的性能与面积的问题.通过实际设计加工测试了一款中心频率为1.61GHz、带宽为260MHz的带通滤波器,插入损耗为0.71dB,驻波1.2,测试结果与仿真结果一致,器件整体尺寸为3.2mm×2.4mm×0.6mm.     

电子束曝光机激光工件台系统研制

介绍了nm级电子束曝光机激光定位精密工件台系统的结构组成、各部分技术措施及总体性能指标。该工件台采用HP5527激光干涉测量系统,测量分辨率达0.6nm,结构上成功将导向与承载分离,对承片台、机械手等进行重大创新。无论是整机性能还是关键技术单元均处于国内领先水平,是一台性能优良、高精度的电子束曝光机工件台。