基于软交换技术的三网融合的实现

通过分析软交换技术及目前广电HFC网络的建设,重点阐述了基于软交换网络,利用HFC网络资源,完成Internet网、有线电视网和语音网的三网合一.详细论述了如何利用HFC网络资源,在Cable Modem的配合下为用户同时提供语音、数据、视频及有线电视服务,实现Internet网、有线电视网和语音网资源的一线接入.     

等离子体加载大功率微波器件

评述等离子体加载微波管在理论和实验方面的最新进展。在微波管中数量可控的背景等离子体可改善其特性。研究结果清楚地证明 ,等离子体的存在可以显著增加非相对论微波振荡器和放大器的带宽、效率和功率容量 ,并允许工作于无引导磁场。     

三核铁甲酸簇合物[Fe_3(μ_3-O)(μ-O_2CH)_6(H_2O)_2(O_2CH)]·2H_2O在乙炔、水汽体系中的反应行为

本文研究了[Fe_3(μ_3-O)(μ-O_2CH)_6(H_2O)_2(O_2CH)]·2H_2O(简称)在乙炔、水汽体系中的反应行为。发现当温度高于220℃,脱落部分配体的具有活化乙炔进行加成反应的性能。采用原位红外光谱法和气相色谱法对此反应过程进行了跟踪探索,报道了产物的定性及半定量结果。     

Stereoselective Synthesis of δ-Selanyl Allylic Alcohols by Hydrozirconation of Propargyl Selenides

Hydrozirconation of propargyl selenides afford(E)-3-selanyl vinylzirconocenes chlorides 2.Intermediates 2 reacted with aldehydes to obtain δ-selanyl allylic alcohols.     

Regioselective Oxidation of Phenols to o—Quinones with Dess—Martin Periodinane（DMP）

Regioselective oxidation of phenols to o-quinones with Dess-Martin periodinane is reported.     

SOI新结构——SOI研究的新方向

SOI（silicon-on-insulator：绝缘体上单晶硅薄膜）技术已取得了突破性的进展，但一般SOI结构是以SiO2作为绝缘埋层，以硅作为顶层的半导体材料，这样导致了一些不利的影响，限制了其应用范围。为解决这些问题和满足一些特殊器件／电路的要求，探索研究新的SOI结构成为SOI研究领域新的热点。如SOIM，GPSOI，GeSiOI，SionAlN，SiCOI，GeSiOI，SSOI等。文章将结合作者的部分工作，报道SOI新结构研究的新动向及其应用。     

ULF/ELF波在IAR中传播的色散关系研究

电离层阿尔芬谐振器的存在已被理论和实验所证明。文章通过建立平面分层的电离层模型，对ULF/ELF波在IAR中传播模式进行研究，得到描述ULF/ELF波在IAR不同电离层状态下传播满足的色散关系。结果表明，ULF/ELF波在IAR中的传播和电离层状态密不可分，粒子间的相互碰撞往往对波的传播产生不可忽略的影响，最小截止波频的存在是由于电离层边界条件的限制而不是因为波传播过程中的衰减造成的。     

Symmetry and Hojman Conserved Quantity of Tzénoff Equations for Unilateral Holonomic System

Symmetry of Tzénoff equations for unilateral holonomic system under the infinitesimal transformations equations are given. Sufficient and necessary condition of Lie symmetry deduced by the Mei symmetry is also given.in the condition of special Mei symmetry respectively is obtained.     

非线性Volterra积分方程非平凡解的逼近方法及其应用

本文对一类具有卷积核的非线性Ｖｏｌｔｅｒｒａ型积分方程进行了讨论，给出了关于这类方程的非平凡解的存在性和解的逼近方法的一些结果。通过有关微分方程问题的实例，说明了所给结果的重要应用。     

TiO2薄膜的结构和光学性质的研究

以金属钛为靶材，用反应射频溅射法制备了TiO2薄膜，并在600－900℃下进行了热处理，经XRD测量，在600－800℃下TiO2薄膜为锐钛矿和金红石两种结构的混合态，在900℃下TiO2薄膜为纯金红石结构，研究TiO2薄膜的SEM照片和UV－vis透射光谱发现，不同的热处理温度会影响TiO2薄膜中锐矿和金红石两种结构的比例，从而导致TiO2薄膜的微观形貌，折射率，禁带宽度等性质的变化。