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111.
用中子活化法相对于54Fe(n,P)54Mn反应,在13.50—14.80MeV中子能区测量了Ba(n,x)134Cs,134Ba(n,2n)133Ba,140Ce(n,2n)139Ce,142Ce(n,2n)141Ce和23Na(n,2n)22Na的反应截面.并将所测的结果和其他作者的结果进行了比较,中子能量是用90Zr(n,2n)89m+gZr反应和93Nb(n,2n)92mNb反应截面比法测定的。  相似文献   
112.
薄Si膜对基底表面粗糙度的影响   总被引:8,自引:3,他引:5  
利用ZYGO光学干涉测量仪,散射积分测量法观测了光学元件表面均方根粗糙度.详细分析了薄Si膜对基底均方根粗糙度的影响,由此认为薄膜并不总是复制基底表面的粗糙度,结果出现了薄膜降低表面粗糙度的现象.提出了一定厚度范围的薄Si膜的表面粗糙度存在着一个稳定值的新设想.  相似文献   
113.
By constructing close-one-cochain density Ω^12n in the gauge group space we get the Wess-Zumino-Witten (WZW) effective Lagrangian on high-dimensional noncommutative space.Especially consistent anomalies derived from this WZW effective action in noncommutative four-dimensional space coincide with those obtained by L.Bonora etc.(het-th/0002210).  相似文献   
114.
用扩展边界条件方法对分形粗糙良导体面及介质面的电磁散射问题进行了分析。用推广的Floquet模式,在分界面处将场分量用Fourier级数展开,根据边界条件及扩展边界条件得到了水平极化和垂直极化散射场的幅度分量的表达式。用其它近似方法(Kirchhoff和Rayleigh方法)及能量守恒准则验证了此方法的有效性。  相似文献   
115.
布里奇曼法生长碲镉汞晶体的固液界面形态研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
文中综述了布里奇曼法及加速坩埚旋转技术的布里奇曼法生工碲镉汞晶体过程中固液界面形态的研究结果,简单讨论了固液界面形态对组分分布的影响,并将两种技术所得的组分分布结果进行了比较,在分析影响固液界面形态因素的基础上,认为加速坩埚旋转技术是目前改善固液界面形态的有效方法。  相似文献   
116.
X波段及DBS接收用PHEMT单片低噪声放大器   总被引:3,自引:0,他引:3  
报道了X波段及DBS接收用单片低噪声放大器的研制结果。利用CAD软件对单片电路进行优化设计,设计工作包括MBE材料、PHEMT器件和单片电路三部分。在研制过程中,开展了关键工艺的专题研究。研究结果为:单级单片放大器在10:5-11.6GHz范围内,NF≤1.82dB,G≥7.72dB;在11.7-12.2GHz范围内,NF≤1.80dB,G≥6.8dB;双级放大器在10.4-11.1GHz范围内,NF≤1.96dB,G≥15.3dB,最低噪声系数为1.63dB,最高增益为16.07dB。  相似文献   
117.
研究了Eu(2+):BaFxCl2在紫外线辐照下的光激励发光。通过改变激励方式及激励光的扫描方向,给出了Eu(2+):BaFxCl2-x光激励发光过程中,两种F色心的浓度比值与光激励截面比值的测定方法。利用这种测定方法,进一步研究了两种F色心的浓度比值和光激励截面比值与F/CI比值的关系。  相似文献   
118.
为了扩展以简谐振子为基矢的常规壳模型(SM)计算到晕核,提出了自相似结构壳模型(SSM).通过对简谐振子动能项和势能项的重度规以及单粒子平均场模拟,可以得到SSM中的单粒子轨道有态相关的圆频率,在SSM中,晕核大的均方根半径、厚的中子皮以及Borromean晕核和的束缚态性质能够再现出来。  相似文献   
119.
分子振动态及其跃迁的激光相干控制   总被引:2,自引:0,他引:2  
讨论了激光合成相干叠加态的原理及其性质 ,针对 XY2 型分子 ,证明了合成局域模振动的可行性 ,然后给出相干叠加态的跃迁几率特征 ,发现它仍表现出相干的特性 ,对之进行分析研究表明 ,分子的振动态具有可控性 ,态跃迁几率具有可控性。  相似文献   
120.
The purpose of this paper is to study the relationship between the oxygen concentration and brightness degradation in ZnS:TbOF green thin-film electroluminescent (EL) devices. The characteristics including crystallinity, optical, and electrical properties were discussed. The brightness-voltage (B-V) measurement results shelved that with higher oxygen-content in ZnS:TbOF phosphor layer, lower brightness was measured. It was consistent with the poor crystallinity, worse photoluminescent intensity, and easier to get moisture in the oxygen-rich (O/Tb>1) phosphor film. Furthermore, deep level transient spectroscopy (DLTS) measurements identified that when the O/Tb ratio was greater than 1, the oxygen-related deep hole traps EH1 and/or EH2 could be detected in the ZnS:TbOF phosphor layer. These E H1 and/or EH2 traps were believed to be the main killers for the brightness of the device since they capture most of the holes from the generated electron-hole pairs. This evidence strongly supports that the modified energy transfer model is more dominant than direct impact excitation during the luminescent process  相似文献   
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