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31.
一个新颖的轮廓线跟踪算法   总被引:1,自引:0,他引:1  
马波  张田文 《信号处理》2004,20(2):174-178
提出了一个新颖的基于隐马尔科夫模型与光流的轮廓线跟踪算法。曲线描绘由B样条形状空间向量来表达,能够捕捉全局和局部变形。提出应用沿曲线的光流计算来预测曲线在下一帧的位置,在预测曲线的基础上,提出应用隐马尔科夫模型来准确定位曲线的位置。隐马尔科夫模型提供了一种有效的概率手段来融合多种量测特征比如边缘,曲线平滑性,区域灰度或颜色统计信息等等,能够更准确的定位曲线位置。基于仿射形状空间的实验了表明本文所提出算法的有效性。  相似文献   
32.
线性调频的脉冲压缩雷达视频信号仿真   总被引:1,自引:0,他引:1  
李耀伟  姜波  张炜 《现代雷达》2004,26(6):8-11
利用数字方法实现线性调频的脉冲压缩雷达视频目标模拟信号具有诸多优点:信号模拟的精度高,灵活性好,幅度、相位补偿方便,可以模拟复杂情况,系统结构简单,可靠性高,可扩展性强。详细介绍了基于FPGA设计线性调频的脉冲压缩雷达视频目标模拟信号的原理、结构、具体实现以及简要的性能分析。结果表明该方案性能良好,具有现实可实现性。  相似文献   
33.
数字下变频器GC1012B原理及配置方法   总被引:1,自引:0,他引:1  
数字下变频技术是软件无线电的一项核心技术,其性能的好坏直接影响数字接收机的精度。GC1012B是美国TI公司推出的新型数字下变频器。文中从GC1012B的结构特点和内部功能框图出发,分析其工作原理,并介绍GC1012B几个主要寄存器的配置方法,从而实现对频率、滤波模式、增益大小等参数的设置。最后给出了一个具体配置实例作为参考。  相似文献   
34.
本文基于微通道板MCP(Microchannel Plate)探测器件设计一套成像系统,用于对波长为30.4nm的极紫外EUV(Extreme Ultraviolet)光进行成像.结果获得了一宽度为3mm的狭缝的像,实验测得490μm的成像系统的空间分辨率,并分析了影响系统分辨率的各种因素及为提高系统分辨率所应采取的措施.  相似文献   
35.
张明  于文  张君  张远仪  王文魁 《物理学报》1996,45(10):1724-1728
利用原位X射线衍射技术得到非晶调制多层膜Nb/Si中的互扩散系数与退火温度的关系,调制周期L=3.2nm的非晶调制多层膜是用粒子溅射方法制备的.温度范围为423—523K的有效互扩散系数通过原位测量多层膜的一级调制峰强度与退火温度之间的关系而得到.利用缺陷陷阱延迟扩散机制解释了所得到的扩散系数与退火温度的关系.建立了可以解释较小前置系数的模型 关键词:  相似文献   
36.
37.
具Hardy-Sobolev临界指数的奇异椭圆方程多解的存在性   总被引:1,自引:0,他引:1  
运用变分方法研究了下面问题-Δpu=μupx(s)s-2u f(x,u),x∈Ω,u=0,x∈Ω,多重解的存在性,其中Ω是一个具有光滑边界的有界区域.  相似文献   
38.
对由SPCM-AQR-14和MCS组成的时间分辨光子计数系统进行了研究,分析了SPCM和MCS的工作原理及主要特性.利用该系统对磷光物质和洋葱的延迟发光进行了测量,对它们的光子计数率曲线进行拟合,发现其光强衰减符合双曲线规律.  相似文献   
39.
The oxidation of SiGe film epitaxial grown on top of SOI wafers has been studied. These SiGe/SOI samples were oxidized at 700, 900, 1100 °C. Germanium atoms were rejected from SiGe film to SOI layer. A new Si1−xGex (x is minimal) layer formed at SiGe/Si interface. As the germanium atoms diffused, the new Si1−xGex (x is minimal) layer moved to Si/SiO2 interface. Propagation of threading dislocation in SiGe film to SOI substrate was hindered by the new SiGe/Si interface. Strain in SOI substrate transferred from SiGe film was released through dislocation nucleation and propagation inner. The relaxation of SiGe film could be described as: strain relaxed through strain equalization and transfer process between SiGe film and SOI substrates. Raman spectroscopy was used to characterize the strain of SiGe film. Microstructure of SiGe/SOI was observed by transmission electron microscope (TEM).  相似文献   
40.
本文在文献[1]研究的基础上,建立了光纤面板的结构模型。利用光学信息理论,研究了光纤面板的传输机理。通过分析、计算光纤面板传输的光学信息量,给出了光纤面板传递最大信息量时的最佳结构参数和扩散参量。  相似文献   
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