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971.
光通信用Er3+∶Yb3+共掺玻璃波导放大器   总被引:2,自引:0,他引:2  
介绍了Er^3 :Yb^3 共掺玻璃波导放大器(EDWA)的原理、结构、制备及其优势与局限,同时还介绍了多种基于EDWA的集成放大器件以及它们在城域网/接入网,CATV等光通信领域的应用。  相似文献   
972.
采用原位拉曼光谱技术研究方波电位循环氧化还原 (ORC)过程中产生的铂氧化物的还原过程 ,其中过氧化物和超氧化物消失的电位在 0 2V左右 ,晶格氧化物和氧化铂则分别消失在 0V和 -0 2 5V左右。我们还初步探讨了不同还原电位下形成的铂电极表面纳米微粒对甲醇电催化活性的影响  相似文献   
973.
纳米气敏传感器研究进展   总被引:7,自引:0,他引:7  
纳米传感器具有传统的传感器所不能比拟的优越性能。本文介绍了目前纳米传感器的发展概况,重点介绍了纳米气敏传感器的发展。  相似文献   
974.
铜钼化合物氢还原制备铜钼复合粉研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
通过对铜钼化合物氢还原过程进行热力学分析,找到了制备均匀细颗粒铜钼复合粉的热力学途径。设计了封闭还原系统,用此系统进行氢气热还原,不仅使氢气得到充分利用,而且容易判断反应终点。通过系统内的特殊装置除水,降低了还原温度,在650℃下还原得到了混合均匀的铜钼复合粉。系统能彻底快速除去反应生成的水分,使反应物的湿度大大降低,确保能得到细颗粒的铜钼复合粉,其平均粒径小于70nm。  相似文献   
975.
胡明  崔梦  田斌  窦燕巍 《压电与声光》2004,26(4):276-279
简要介绍了MEMS的发展状况及CMOS工艺在MEMS中的地位。主要介绍了pre-CMOS,intermediate-CMOS和post-CMOS三种不同的CMOS MEMS工艺。详细讨论了CMOS MEMS今后将面临的挑战及其未来应用领域,最后,根据国内情况对我国CMOS MEMS的发展提出了建议。  相似文献   
976.
在开放的共振Lower ladder型和V型系统中 ,无激光解的失稳既可以通过Pitchfork分岔发生而导致连续无反转激光输出 ,也可以通过Hopf分岔实现而导致自脉动无反转激光输出。分析了非饱和增益系数、腔损耗速率、粒子注入速率比和粒子退出速率等系统参量的变化对两种失稳的影响。  相似文献   
977.
W/O型乳胶粒子表面电性的近代测试技术   总被引:1,自引:0,他引:1  
采取近代表面电学测试技术对乳胶粒子表面电性进行微观测量,取得了一系列反映胶粒表面双电层结构的特征参量,证明表面扩散双电层的存在。为完善W/O型乳胶体系的稳定性理论提供了一定实验依据。  相似文献   
978.
本文基于模糊数学规划及系统优化的观点研究了分组交换网络中分组路径的选择问题。文中给出了该问题的模糊0-1整数规划模型,该模型试图在总换算延迟最小化的目标下,寻求一套最合理的路径选择方案。同时,为了避免链路容量利用处于无益虚糜状态,又尽量不超饱和,模型中还采用了模糊链路容量限制条件。  相似文献   
979.
基于特征的影像匹配是一类极为广泛和重要的方法。已有的研究体现出了特征对于实施最为匹配的影像之一--城区航空影像有着极为明显的优越性。文中给出一种新的匹配目标函数的构建,并基于此提出一种城区航空影像匹配算法,给出了算法的实现过程,并以部分东京城区图进行了试验,结果表明文中的方法具有乘法明了,可靠易行和抗旋转性的优点。  相似文献   
980.
Deep InP gratings are etched by C12/CH4/Ar inductively coupled plasma (ICP) at room temperature. A comparison is made between SiNz mask patterns formed by wet and dry etching. SF6 reactive ion etching is adopted for smooth and vertical sidewall. The etching conditions of C12/CH4/Ar ICP are optimized for high anisotropy, and a 1.7-μm-deep InP grating with an aspect ratio of 10:1 is demonstrated. The technique is then used for the fabrication of 1.55-μm laterally coupled distributed feedback A1GMnAs-InP laser.  相似文献   
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