激光开槽技术在毫米波产品中的应用

在毫米波产品设计中,芯片的安装方式及连接路径是影响产品性能的一个重要因素.目前的手工操作方法不能满足高性能产品设计的需要,同时也是批量化生产的工艺技术瓶颈.介绍了一种新型的在电路基片上制作芯片安装槽的激光开槽工艺技术.对机械透铣和激光蚀刻两种工艺技术进行了比较.通过研究和试验,确定了激光设备的工艺参数,在电路基片上制作出精确的芯片安装槽.经应用表明,芯片安装缝隙达到了0.1mm的水平,在键合引线处产生的插损和驻波显著降低.这种技术大幅提高了毫米波产品的装配成品率和生产效率,减小了键合引线引起的寄生效应影响,保证了毫米波产品的设计需要.     

基于灰色关联度的提升小波域图像融合算法

针对多聚焦图像,提出了一种基于提升静态小波变换(Lifting Stationary Wavelet Transform,LSWT)和灰色关联度相结合的图像融合算法.首先将待融合的两幅图像分别进行提升静态小波变换,低频分量采用平均法融合.其次针对低频分量和各个方向的高频分量,分别计算以每个像素为中心的方块的能量和均值.然后按照一定的融合规则,分别得到高频分量融合后的值.最后进行提升小波逆变换,得到融合后的图像.实验结果显示,该方法融合效果较好,优于传统算法.     

线缆护层挤出方式及挤出模具的设计

在线缆制造过程中,线缆护层的挤出占据了十分重要的地位.线缆护层挤出方式以及挤出模具对挤出护层质量至关重要.目前挤出方式有很多种,但都是由三种基本挤出方式单独作用或组合而成.介绍了线缆的三种基本挤出方式的优缺点及其适用范围,以及挤出模具的设计原理,给出了部分材料的拉伸比和拉伸平衡比.并以挤管式模具设计为例,详细介绍了模具设计方法及其相关典型参数,最后简要介绍了模具的装配规则.     

基于FPGA的自适应旁瓣对消原理及其实现

自适应旁瓣对消(ASLC)是雷达抗有源干扰的有效方法。它采用空间滤波技术，通过辅助接收通道在干扰方向形成波束图的零点，实现对干扰信号的抑制。本文介绍了自适应旁瓣对消的原理，然后给出了基于FPGA的ASLC实现方案，最后通过仿真和试验结果，分析了自适应旁瓣对消的性能。     

输送机交流调速控制系统研究

在火电厂输煤传送系统中,需要采用变频器改变交流电机频率,实现交流电机调速。文中针对输煤传送系统中传统的直流电机维护困难、成本高、对环境要求严格的问题,采用交流电机输送,节约维护成本。系统利用PLC和变频器协同控制,将检测量反馈至PLC,实现PLC对变频器的逻辑控制。更进一步地在控制系统中,采用空间矢量调制算法,对调速系统进行了建模与仿真,结果表明,改进的调速系统更精确、抗干扰能力更强,实现了良好的调速性能。     

分析宽频带、双极化、恒束宽四脊喇叭的混合方法

介绍了作为反射面天线馈源的宽频带、双极化、恒波束四脊喇叭，运用有限元和模式匹配相结合的混合法详细且计算了四脊喇叭的广义散射矩阵。然后运用口面积分计算了四脊喇叭的辐射远场，给出了四脊喇叭和用四脊喇叭做馈源的反射面天线的实测结果。     

基于改进反余切函数的近似L0范数的重构算法

重构算法是压缩感知理论应用于实际的关键。其中 ,近似L0范数算法是通过选取一个 连续的平滑函数近似逼近L0范数,从而将离散的最小化L0范数问题转为平滑函数求最优值问 题。针对现有算法精度不高的缺点,采用了一种逼近程度更高的改进反余切函数族来近 似L0范数,并采用修正阻尼牛顿法求解。该算法结合了近似零范数算法的高收敛性和牛顿法 的高效寻优,获得了精度较高的重构信号。仿真实验表明,在不同压缩比下,该算法在一维 信号重建和二维图像重建的过程中,较SL0算法、NSL0算法和AL0算法的信噪比和重构精度都 有了较大的提升,提高了同等条件下信号恢复的质量,有效地改善了重建效果。     

负色散镜的设计、制备及在掺钛蓝宝石激光谐振腔内的使用

根据钛宝石激光器的要求设计了性能优良的两种负色散镜(NDM1和NDM2)。NDM1同时引入啁啾效应和G-T效应产生大的群延迟色散量以减少光在负色散镜上的反射次数。NDM2仅引入G-T效应产生较小的群延迟色散以补偿腔内自相位调制带来的部分啁啾。选用离子束溅射法制备了这两种负色散镜。用分光光度计测试了它们的透射率。结果表明,所制备的负色散镜的性能与设计性能非常接近。使用这两种负色散镜进行掺钛蓝宝石激光谐振腔内色散补偿实现了飞秒脉冲锁模,获得了15 fs的超短脉冲。     

虚拟现实系统中的视觉延迟研究

视觉延迟将致虚拟现实系统的沉浸感遭到破坏，并导致用户产生运动高，对产生视觉延迟的检测延迟和成像延迟进行了研究。     

Multifunctional Fluorene‐Based Oligomers with Novel Spiro‐Annulated Triarylamine: Efficient,Stable Deep‐Blue Electroluminescence,Good Hole Injection,and Transporting Materials with Very High Tg

A series of fluorene‐based oligomers with novel spiro‐annulated triarylamine structures, namely DFSTPA, TFSTPA, and TFSDTC, are synthesized by a Suzuki cross‐coupling reaction. The spiro‐configuration molecular structures lead to very high glass transition temperatures (197–253 °C) and weak intermolecular interactions, and consequently the structures retain good morphological stability and high fluorescence quantum efficiencies(0.69–0.98). This molecular design simultaneously solves the spectral stability problems and hole‐injection and transport issues for fluorene‐based blue‐light‐emitting materials. Simple double‐layer electroluminescence (EL) devices with a configuration of ITO/TFSTPA (device A) or TFSDTC (device B)/ TPBI/LiF/Al, where TFSTPA and TFSDTC serve as hole‐transporting blue‐light‐emitting materials, show a deep‐blue emission with a peak around 432 nm, and CIE coordinates of (0.17, 0.12) for TFSTPA and (0.16, 0.07) for TFSDTC, respectively, which are very close to the National Television System Committee (NTSC) standard for blue (0.15, 0.07). The maximum current efficiency/external quantum efficiencies are 1.63 cd A^?1/1.6% for device A and 1.91 cd A^?1/2.7% for device B, respectively. In addition, a device with the structure ITO/DFSTPA/Alq₃/LiF/Al, where DFSTPA acts as both the hole‐injection and ‐transporting material, is shown to achieve a good performance, with a maximum luminance of 14 047 cd m^?2, and a maximum current efficiency of 5.56 cd A^?1. These values are significantly higher than those of devices based on commonly usedN,N′‐di(1‐naphthyl)‐N,N′‐diphenyl‐[1,1′‐biphenyl]‐4,4′‐diamine (NPB) as the hole‐transporting layer (11 738 cd m^?2 and 3.97 cd A^?1) under identical device conditions.