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91.
A planar double-gate SOI MOSFET (DG-SOI) with thin channel and thick source/drain (S/D) was successfully fabricated. Using both experimental data and simulation results, the S/D asymmetric effect induced by gate misalignment was studied. For a misaligned DG-SOI, there is gate nonoverlapped region on one side and extra gate overlapped region on the other side. The nonoverlapped region introduces extra series resistance and weakly controlled channel, while the extra overlapped region introduces additional overlap capacitance and gate leakage current. We compared two cases: bottom gate shift to source side (DG/spl I.bar/S) and bottom gate shift to drain side (DG/spl I.bar/D). At the same gate misalignment value, DG/spl I.bar/S resulted in a larger drain-induced barrier lowering effect and smaller overlap capacitance at drain side than DG/spl I.bar/D. Because of reduced drain-side capacitance, the speed of three-stage ring oscillator of DG/spl I.bar/S, with 20% gate misalignment length (L/sub mis/) over gate length (L/sub g/), or L/sub mis//L/sub g/=20%, was faster than that of two-gate aligned DG-SOI. 相似文献
92.
93.
94.
弱拓扑和强可容许拓扑之间的一个关系 总被引:2,自引:0,他引:2
本文对局部凸空间X及其对偶X′,建立了弱拓扑σ(X,X′)和强拓扑β(X,X′)之间的一个新关系,改进了有关(X,X′)--可容许拓扑全体上的不变性结果。 相似文献
95.
两部美国大学物理教材对我们教学改革的启示 总被引:9,自引:1,他引:8
介绍了美国两部大学物理教材的特点,分析了美国教材在教学内容、教学方法、教学手段现代化方面的特色,为我们的教学改革提供一些可供借鉴的经验。 相似文献
96.
97.
SUN Qiyu 《数学年刊B辑(英文版)》2003,24(3):367-386
In this paper, the author at first develops a method to study convergence of the cascade algorithm in a Banach space without stable assumption on the initial (see Theorem 2.1), and then applies the previous result on the convergence to characterizing compactly supported refinable distributions in fractional Sobolev spaces and Holder continuous spaces (see Theorems 3.1, 3.3, and 3.4). Finally the author applies the above characterization to choosing appropriate initial to guarantee the convergence of the cascade algorithm (see Theorem 4.2). 相似文献
98.
在国家863CIMS目标产品CAPPFramework系统的基础上,研究了面向对象的信息建模技术、信息模型驱动的所见即所得工艺设计技术、工作流技术.并在此基础上进行集成化、智能化计算机辅助工艺设计(CAPP)的应用与开发,实现了工艺设计的自动化,基本达到了在信息集成基础上的工艺设计与工艺信息管理一体化的目的,对企业的CAPP实施具有一定的参考价值. 相似文献
99.
Characterizations of Tb:Zn2SiO4 films on silicon wafer prepared by sol-gel dip-coating and solid-phase reaction
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Terbium-doped Zn_2SiO_4 films were successfully prepared on Si wafers by a simple sol-gel dip-coating and solid-phase reaction method of ZnO and SiO_2. X-ray diffraction (XRD) and UV-Vis absorption results revealed that films processed below 850℃ were ZnO in wurzite structure, and films processed above 850℃ were Zn_2SiO_4 in wellimite structure. Photoluminescence measurements of the Tb-doped Zn_2SiO_4 films showed two strong emission bands at 490 and 545nm. The photoluminescence lifetime was 4.6ms. 相似文献
100.