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11.
Jonn M. Rassias 《数学研究及应用》1987,7(1):77-80
It is well known that F. G. Tricomi (1923) is the originator of the theoryof boundary value problems for mixed type equations by establishing the Thicomi equation: y·uxx+uyy=0 which is hyperbolic for y < 0, elliptic for y=0. and parabolic for y= 0 and then applied it in the theory of transonic flows.Then A.V.Bitsadze together with M. A . Lavrent′ev (1950) established the Bitsadze Lavre nt′ev equation: sgn( y ) ·uxx+uyy=0 where sgn(y) = 1 for y > 0, = -1 for y<0, 0 for y=0 with the discontinuous coefficient sgn( y ) of uxx, while in the case of Tricomi equation the corre sponding coefficient y is continuous. In this paper we establish the mixed Bitsadze Lavrent′ev Tricomi equation. Lu=K(y)·uxx+sgn(x) ·uyy+r(x,y)·u=f(x,y), where the coefficient K=K(y) of uxx is increasing continuous and coefficient M=sgn(x) of uyy discontinuous, r=r(x,y) is once continuously differentiable, f=f(x,y) continuous. Finally we prove the uniqueness of quasi regular solutions and observe that these new results can bbe applied in fluid dynamics. 相似文献
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材料高压下的状态方程(EOS)在天体物理、材料科学和惯性约束聚变(ICF)等研究领域中都是十分重要的。2004年在“神光”-Ⅱ装置上进行了单路倍频激光直接驱动的Al-Cu阻抗匹配靶实验和Cu-Al阻抗反匹配实验,目的是提高冲击波速度的测量精度和准确性,同时校验测量方法的实用性和可靠性。 相似文献
14.
非理想的纠缠资源和非标准的量子隐形传态操作导致非理想的量子态传输.本文从Nielsen-Caves理论出发,导出了非理想的量子隐形传态过程对应的量子信道的明显表达式.这给我们提供了对量子隐形传态的新认识,即量子隐形传态过程可等效地看作量子态依次通过三个量子信道的过程,这三个信道分别对应于发送者的测量、纠缠态和接收者的操作.特别地,我们建立了纠缠态与量子信道之间的一一对应关系,即一个纠缠态对应于这样一个量子信道,如果把描述该量子信道的Kraus算符用Pauli算符展开,则得到的参数矩阵就是该纠缠态的密度算符在Bell基下的矩阵.我们还导出了量子隐形传态保真度的明显表达式.我们的结果解析地揭示了输出态和保真度对纠缠资源和量子隐形传态操作的依赖关系. 相似文献
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四、带通滤波器由本文第二部分可知,SAW带通滤波器设计的主要问题是推导合适的脉冲函数h(t),h(t)通过傅里叶变换与滤波器频率响应H(f)联系起来.通常,h(t)为无限值,所以必须对它截断,带通滤波器的实现.有限脉冲响应函数(其傅里叶变换给所需的“理想”频率响应以最佳近似值)的推导过程曾经是七十年代的主要研究课题.根据研究,几种非常有用的计算机辅助设计程序在目前已普遍采 相似文献
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17.
利用场发射显微镜和四极质谱计研究了充入高纯O2的四极质谱和O2对单壁碳纳米管场发射的影响.单壁碳纳米管经过约1000℃的热处理得到清洁态场发射像后,充入O2,分别测量了O2吸附和脱附后场发射的I V特性.实验观测到在单壁碳纳米管上O2的吸附使场发射电流减小,说明逸出功增加.在10-4Pa的O2压强下对单壁碳纳米管进行约1000℃的热处理,可以产生氧化刻蚀作用,观测到场发射像的变化,并测量了氧化刻蚀产生的I V特性变化.
关键词:
单壁碳纳米管
场发射显微镜
场发射
四极质谱 相似文献
18.
为阐述放射性9C束流应用于治癌的物理基础, 运用一个球形生物组织等效正比计数器测量了9C束流不同贯穿深度上的线能谱, 得到了沿束流贯穿深度上的剂量平均线能分布. 将实验测量得到的线能谱转换成为不同传能线密度在吸收剂量中所占份额的分布, 得到了该9C束流在不同贯穿深度上的剂量平均传能线密度分布. 将生物组织等效正比计数器测量得到的与先前通过平行板正比计数器测量得到的该9C束流的剂量平均传能线密度分布进行比较, 发现: 在束流入射通道上, 两者测量数据符合很好, 而在束流Bragg峰附近9C离子的沉积区域, 由组织等效正比计数器测量得到的剂量平均传能线密度值大于由平行板正比计数器测量得到的值. 相似文献
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20.
本文描述了在VLSI研制中通过氮注入形成氮化硅层。在形成各种氮化物层的过程中,注入分子氮能量范围为5到60keV,随后在1000℃的氮中退火。描述在炉中退火前后所形成的氮化物层特性,在不同的IR、SIMS和椭圆对称测量情况中找出局部氧化掩模的有效注入条件。相对于整个注入能量范围,注入氮的最初IR峰值为815cm~(-1)。对于退火后的高能量注入来说该位置会漂移到一个较高的波长数,低能量注入峰值接近于830cm~(-1),上述均与LPCVD为氧化物峰值相比而言。此研究结果认为,低能氧化物的化学成分几乎是可用定量计算的。退火过程中浓度分布向着表面漂移,并将增高峰值区氧的浓度。从氮化物分布剖面看最大值是在表面,而在<10keV时消失。在1000℃的蒸汽中生长5300(?)氧化层进行测试这些氮化物掩模特性。剂量为5×10~(16)N_2~+/cm~(-2)离子的氮化物在注入能量低于40keV会形成有效的氧化掩模。在此实验条件下,在10keV下所形成的氮化层可认为是一个有效的氧化掩模,足以适应选择性地腐蚀SiO_2,减小“鸟嘴”尺寸为常规LOCOS的四分之一。 相似文献