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11.
光学材料的激光微加工研究进展与应用前景 总被引:2,自引:1,他引:1
综述了国内外在光学材料激光微加工方面的研究成果和应用状况,并展望了其发展前景。 相似文献
12.
13.
NMOS器件两次沟道注入杂质分布和阈电压计算 总被引:1,自引:1,他引:0
分别考虑了深浅两次沟道区注入杂质在氧化扩散过程中对表面浓度的贡献。对两次注入杂质的扩散分别提取了扩散系数的氧化增强系数、氧化衰减系数和有效杂地系数,给出了表面浓度与工艺参数之间的模拟关系式,以峰值浓度为强反型条件计算了开启电压,文章还给出了开启电压、氧化条件、不同注入组合之间的关系式。 相似文献
14.
ZHAO Shan-Rong CHEN Kai-Xian JIANG Hua-Liang WANG Qin-Mi JI Ru-YunShanghai Institute of Materia Medica Chinese Academy of Sciences Shanghai China 《中国化学》1997,15(1):84-89
We have used quantum mechanical method to study the transition states(TSs) of uridine phosphorolysis reaction. Comparing the four different reaction pathways and the five transition states obtained, we conclude that enzymatic uridine phosphorolysis takes place mainly according to acid-catalyzed SN2 mechanism. The proposed reaction pathway is consistent with many experimental results. 相似文献
15.
16.
17.
基于充放电原理实现的微电容测量电路 总被引:1,自引:0,他引:1
具有抗分布电容以及简单实用等特性的充放电电路是目前微电容测量中广泛采用的一种测量电路。本文对基于充放电原理的微电容测量电路进行了深入研究,并介绍一种基于充放电原理的实用电路。 相似文献
18.
新生MnO2对酸性媒介黑T的吸附 总被引:4,自引:0,他引:4
以化学法合成的新生MnO2为吸附剂,对水中酸性媒介黑T(染料之一)进行了吸附脱色研究,并探讨了影响吸附的因素。结果表明,酸性媒介黑T的脱色率达95%。且PH是影响染料脱色的主要因素。 相似文献
19.
20.
单甲基原位改性SiO2疏水减反膜的制备与性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
在碱性条件下通过TEOS和MTES的共水解缩聚反应制备了单甲基原位改性的SiO2溶胶,并使用提拉法在K9玻璃基片上镀制了疏水减反膜。通过透射电镜(TEM)考察了镀膜溶胶的微结构,分别使用红外光谱(FTIR)分析了薄膜的组分,用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌和起伏状况,用紫外可见光谱(UV-vis)考察了薄膜的减反射性能,用接触角仪测量了薄膜对水的接触角。并使用“R-on-1”的方式测量了薄膜在Nd:YAG激光(1 064 nm,1 ns)作用下的损伤阈值。结果表明,通过共水解缩聚反应可以把甲基引入镀膜溶胶簇团中,改善了溶胶簇团的网络结构,使薄膜得到相当好的疏水性能和更好的抗激光损伤性能,同时薄膜能保持较好的减反射性能。 相似文献