全文获取类型
收费全文 | 6963篇 |
免费 | 496篇 |
国内免费 | 613篇 |
专业分类
化学 | 3420篇 |
晶体学 | 22篇 |
力学 | 152篇 |
综合类 | 38篇 |
数学 | 277篇 |
物理学 | 2110篇 |
无线电 | 2053篇 |
出版年
2024年 | 29篇 |
2023年 | 79篇 |
2022年 | 109篇 |
2021年 | 81篇 |
2020年 | 74篇 |
2019年 | 92篇 |
2018年 | 68篇 |
2017年 | 79篇 |
2016年 | 66篇 |
2015年 | 97篇 |
2014年 | 187篇 |
2013年 | 139篇 |
2012年 | 421篇 |
2011年 | 518篇 |
2010年 | 197篇 |
2009年 | 180篇 |
2008年 | 476篇 |
2007年 | 458篇 |
2006年 | 493篇 |
2005年 | 494篇 |
2004年 | 437篇 |
2003年 | 324篇 |
2002年 | 273篇 |
2001年 | 216篇 |
2000年 | 271篇 |
1999年 | 137篇 |
1998年 | 128篇 |
1997年 | 161篇 |
1996年 | 211篇 |
1995年 | 147篇 |
1994年 | 168篇 |
1993年 | 213篇 |
1992年 | 164篇 |
1991年 | 124篇 |
1990年 | 133篇 |
1989年 | 128篇 |
1988年 | 53篇 |
1987年 | 80篇 |
1986年 | 68篇 |
1985年 | 78篇 |
1984年 | 29篇 |
1983年 | 42篇 |
1982年 | 25篇 |
1981年 | 24篇 |
1980年 | 11篇 |
1977年 | 7篇 |
1972年 | 5篇 |
1964年 | 5篇 |
1963年 | 5篇 |
1948年 | 8篇 |
排序方式: 共有8072条查询结果,搜索用时 7 毫秒
991.
对纳米硅薄膜高电导机制的探讨 总被引:8,自引:1,他引:7
使用超高真空PECVD薄膜沉积系统制备的纳米桂薄膜(nc-Si:H)具有高电导特性。为了探讨其导电机制,先使用K.Yoshida早期提出的两相无序结构有效电导模型分别对晶粒电导和界面电导进行了理论计算。指出,nc-Si:H股中高电导主要来自于细微晶粒的传导,界面可视之为非导体。另一方面,实验证实nc-Si:H股的电导率随平均品粒尺寸减少而增大,具有明显的小尺寸效应。文中首次提出,nc-Si:H膜的微晶粒具有异质结量子点(HQD)特性,并按此模型对nc-Si:H膜的电导率实验曲线进行了讨论。理论与实验结果符合得很好.又得出,硅薄膜结构在其晶态体积百分比Xc=0.30和0.70处呈现出两个明显的相变点。 相似文献
992.
993.
本文叙述了一个求解线性规划问题的梯度投影法,导出了投影矩阵的递推公式,利用此公式可大大减少每次迭代所需的计算量。实例计算表明,本文给出的算法是一有效的算法,在某些方面它要优于Karmarkar算法和单纯形法。 相似文献
994.
995.
996.
使用纳米硅薄膜技术改进现有硅器件的性能 总被引:1,自引:0,他引:1
使用PECVD薄膜沉积技术制成的具有新结构特征的纳米硅薄膜(nc-Si∶H)拥有一系列物性.以纳米硅膜为母体研制成异质结二极管,发现它具有一系列优于单晶硅二极管的独特性能.探讨了使用纳米硅薄膜制造的其它硅器件的可能性,如肖特基器件、TFT晶体管等. 相似文献
997.
998.
999.
1000.