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11.
A novel and effective approach to sensitively determine serotonin, known as 5-hydroxytryptamine (5-HT), has been proposed based on a 5,5-ditetradecyl-2-(2-trimethylammonioethyl)-1,3-dioxane bromide (DTDB) self-assembled lipid bilayer membrane modified glassy carbon electrode (DTDB/GCE). A DTDB/GCE shows the strong electrocatalysis for the oxidation of 5-HT, with the peak potential shifted to less positive value of 0.376 V vs. SCE, and effectively eliminates the interference from ascorbic acid (AA), even in the presence of 100-fold concentration of AA. Differential pulse voltammetry (DPV) gave a linear current for 5-HT from 2.0 x 10(-7) to 1.0 x 10(-5) M. At the DTDB/GCE, the oxidation of 5-HT was controlled by the adsorption process; for 5-HT coexisting with DA, the competitive adsorption was observed. 相似文献
12.
液相添加剂对PTCR陶瓷电性能的影响 总被引:3,自引:2,他引:1
液相添加剂AST(Al2O3+SiO2+TiO2)对BaTiO3陶瓷材料电性能的影响很大,随着Al2O3含量的增加,材料的电性能降低;SiO2、TiO2的物理特性对材料电性能影响较大;过量TiO2对材料PTC效应有重要影响,适当过量TiO2含量,可得到性能优良的PTCR陶瓷。 相似文献
13.
Gong S.S. Burnham M.E. Theodore N.D. Schroder D.K. 《Electron Devices, IEEE Transactions on》1993,40(7):1251-1257
Electrical time-to-breakdown (TTB) measurements have shown the charge to breakdown Q bd of gate oxide capacitors fabricated on n-type well (n-well) substrates always to be higher than that of capacitors on p-type well (p-well) substrates on the same wafer when both are biased into accumulation under normal test conditions. Here the authors correlate the higher n-well Q bd to smooth capacitor oxide/substrate interfaces and minimized grain boundary cusps at the poly-Si gate/oxide interfaces, confirming that Fowler-Nordheim tunneling is the dominant current conduction mechanisms through the oxide. They correlate higher Q bd to higher barrier height for a given substrate type and observe that the slope of the barrier height versus temperature plot is lower for both p-well and n-well cases with electrons tunneling from the silicon substrate. This is attributed to surface roughness at the poly-Si gate/SiO2 interface. A poly-Si gate deposition and annealing process with clean, smooth oxide/substrate interfaces will improve the p-well breakdown characteristics and allow higher Q bd to be achieved 相似文献
14.
15.
Q. Gong R. N tzel P.J. van Veldhoven T.J. Eijkemans J.H. Wolter 《Journal of Crystal Growth》2005,280(3-4):413-418
We report on the shape transition from InAs quantum dashes to quantum dots (QDs) on lattice-matched GaInAsP on InP(3 1 1)A substrates. InAs quantum dashes develop during chemical-beam epitaxy of 3.2 monolayers InAs, which transform into round InAs QDs by introducing a growth interruption without arsenic flux after InAs deposition. The shape transition is solely attributed to surface properties, i.e., increase of the surface energy and symmetry under arsenic deficient conditions. The round QD shape is maintained during subsequent GaInAsP overgrowth because the reversed shape transition from dot to dash is kinetically hindered by the decreased ad-atom diffusion under arsenic flux. 相似文献
16.
本文给出了多层介质膜反射率与入射角的关系的计算机程序,并列出了部份常用激光膜片反射率-角度曲线。 相似文献
17.
介绍了一种非接触式用于测量少子寿命的微波反射法,并与通常的光电导衰退法进行了比较。 相似文献
18.
19.
20.