单峰映射允许揉搓序列的维数和测度

本文证明了单峰映射的允许揉搓序列组成的集合在符号空间∑_2中的 Hausdorff 维数为1,1维 Hausdorff 测度为零。     

定域SOI区熔再结晶研究

用高频感应石墨条作为红外辐射热源,对淀积在二氧化硅衬底上的多晶硅进行了区熔再结晶.再结晶后硅膜晶粒宽度可达几百微米甚至几毫米以上,长度可在区熔扫描方向延伸到样品尺度.在晶粒中存在大量间隔约10-50μm的亚晶界.采用热沉技术及多晶硅膜厚调制技术对亚晶界进行了定域限制,达到了非常好的效果.TEM分析表明再结晶后硅膜呈[100]晶向.SEM观察表明再结晶后样品具有平整的表面及界面.Raman谱测量表明区熔再结晶后硅膜中张应力很小,约为0.9×10~9 dyne/cm~2.     

注入锁定型半导体激光放大器的响应特性研究

本文讨论了注入锁定(IL)型半导体激光放大器的功率响应、频率响应特性,分析了锁定相位、注入光功率等对这些特性的影响。     

云母1/4波片偏振干涉谱的研究

本文利用岛津UV301－PC分光光计，测定了云母1／4波片的偏振干波谱，该光谱和以往文献中的显著不同。本文对此进行了分析和解释，并由此得出了在考虑吸收的情况下的爱里方程表达形式。该将有助于测定某些晶体的吸光度。     

孔径合成二步大视角彩虹全息术

提出一种一步法拍摄大视角彩虹全息图的新方法。以多个准直透镜提供大孔径的参考光束,并使全息干板成一角度围住记录物体,记录大视角的主全息图。利用三个φ=180mm的准直透镜获得了视角为110°的彩虹全息图。     

氨甲环酸中痕量铂和钡的ICP-AES测定

本文对ICP-AES法测定氨甲环酸中痕量Pt和Ba的方法进行了研究，着重对氨甲环酸试样的不同分解方法进行了比较，用酸直接分解试样，方法简便，快速，试剂空白低，方法的回收率大于96.2%，相对标准偏差小于5%，准确度及精密度均符合要求，可用于氨甲环酸的生产控制和成品的检验分析。     

光纤受激调制不稳定性的谱理论

利用多重尺度微扰法,直接从包含非线性极化项的麦克斯韦方程组出发,得到了在频域描述光纤中的受激调制不稳定性的谐波耦合方程组,在此基础上,得出了受激调制不稳定性的谱分布的一些数字结果。     

CO_2激光边带光谱仪用于SF_6分子v_3带Q支吸收谱的研究

用绝对频率精度优于1.2MHz的CO_2激光边带光谱仪记录了SF_6分子v_3带Q支的多普勒受限吸收谱,光谱范围在CO_2激光10P(16)支线中心两侧,距支线中心8.0～12.4 GHz。用内插法以<6MHz的均方误差测量了百余条跃迁谱线的频率,并标识出Q_Z、Q_R、Q_X、Q_W、Q_A等亚支的谱线,量子数J从26到83。用最小二乘法拟合实验数据得到了v_3带的部分光谱常数。     

衍射光学元件的反应离子束蚀刻研究

本文提出了一种制作衍射光学元件的新方法——-反应离子束蚀刻法.对此技术研究的结果表明:反应离子束蚀刻法具有高蚀刻速率、蚀刻过程各向异性好、蚀刻参数控制灵活等特点,对于衍射光学元件和微光学元件的精细结构制作十分有利.本文详细总结了反应离子束蚀刻过程中各工艺参数对蚀刻速率的影响,并在红外材料上制作了Dammann分束光栅.     

碲材料中钠,钾杂质成份的测定

本文揭示了钠、钾受基体元素碲干扰的现象和分析系统中酸度对钠、钾吸光度的影响,在理论上探讨了碲对钠、钾干扰的原因,利用加入盐酸和铝元素的方法分别排除碲对钾、钠的干扰,提出一个方便,实用的测定方法,回收率和RSD分别为95-102%和7.4%。