热处理对超疏水性含氟丙烯酸酯共聚物膜表面性能的影响

以微乳液聚合法和溶液聚合法制备丙烯酸全氟烷基乙基酯和甲基丙烯酸甲酯的共聚物, 以1,1,2-三氟三氯乙烷为溶剂, 采用溶剂挥发成膜法直接制备出超疏水膜, 并研究120 ℃热处理对超疏水膜表面性能的影响. 对于用乳液聚合方法制备的超疏水膜, 随着热处理时间的延长, 滚动角表现出先逐渐增大直至完全不能滚动, 然后重新回复到极小滚动角的特殊变化过程, 而静态接触角只是略微减小, 完全不同于热处理对平滑的含氟聚合物表面接触角的影响. 扫描电镜结果显示, 聚合物膜表面形貌对应出现从微/纳复合粗糙结构到微孔粗化并重新形成微/纳复合多层粗糙结构的变化.     

基于高分子软物质特性构建嵌段共聚物的非平衡相

利用高分子的弱影响强响应、熵致相变和多分散等软物质特性,以嵌段共聚物为例介绍了高分子非平衡相构建的研究结果:实现了特定化学组成的嵌段共聚物显示出多种有序相形貌,讨论了不依赖于嵌段组成的非平衡相的形成原因及演变规律.期望单一组成的高分子构成的多样性有序相结构能经济地满足高分子材料的多需求性.     

硅衬底上聚丙烯酰胺/氧化锌纳米线薄膜蓝色发光二极管

采用高分子络合软模板法利用高分子络合和低温氧化烧结反应,在硅衬底上自组装生长出顶面平滑具有六角柱形结构的ZnO纳米线,并基于此聚丙烯酰胺/ZnO纳米线体系构筑了聚合物基ZnO纳米线发光二极管器件,在相对低的阈值电压下实现了常温常压下电场驱动的蓝色发射光,并且其发光颜色可由其应用的激励电压方便地调控.几乎垂直排列的ZnO纳米线/高分子薄膜在器件中被作为发射层.该方法使用聚合物作为LED器件的粘结剂和发光层的分散介质,稳定了硅衬底上埋置在聚合物薄膜中的ZnO纳米线准阵列并对ZnO纳米晶的表面起钝化作用,防止发光猝灭.结果表明,新技术是一种低成本制备ZnO基紫外/蓝色发光材料的工艺,并且减少了以往工艺中要求ZnO薄膜p型掺杂的麻烦.     

动态液相微萃取-气相色谱法测定水样中残留有机磷农药

应用动态液相微萃取与气相色谱联用技术测定了水样中3种有机磷农药(敌敌畏、甲基对硫磷、对硫磷).考察了萃取溶剂、溶剂体积、萃取次数、水样pH值以及离子强度对液相微萃取的影响.该方法甲基对硫磷、对硫磷的线性范围在30～70μg·L-1之间,敌敌畏的线性范围在40～70μg·L-1之间,回收率在84.9%～103.0%之间,相对标准偏差(n=7)在5.1%～9.4%之间,检出限(3S/N)为26.5～35.7μg·L-1.     

阻抑动力学分光光度法测定微量碘

基于在稀磷酸介质中,痕量碘离子对亚硝酸根催化溴酸钾氧化甲基红的的阻抑作用,提出了测定痕量碘离子的阻抑动力学分光光度分析的方法.测定碘离子的线性范围在0.66 mg·L-1以内,检出限(3Sb/K)为7.5×10-6g·L-1.用于海带及食盐中微量碘的测定,测定结果的相对标准偏差(n=6)在1.4%～2.2%之间,测得方法的回收率为99.7%～100.1%.     

Salen型双肟锌(Ⅱ)超分子配合物的合成及晶体结构

合成了一种含有Salen型双肟螯合配体4,4′,6,6′-四氯-2,2′-[乙二氧双(氮次甲基)]二酚(H₂L)的超分子锌(Ⅱ)配合物[ZnL(H₂O)₂]_n,并通过元素分析,红外光谱和X-射线单晶结构测定等对其结构进行了表征。该配合物由1个锌(Ⅱ)离子、1个L^2-配位单元和2个配位水分子组成。在配合物[ZnL(H₂O)₂]中,Salen-     

Zn取代类水滑石衍生复合氧化物上N2O的催化分解

恒定二价与三价阳离子比为3((nZn+nMg)/nAl=3),采用共沉淀法制备不同Zn含量的系列类水滑石前驱物ZnxMg3-xAl-HT (x=0,0.5,1.0,1.5,2.0,2.5,3.0),经焙烧得到其衍生复合氧化物催化剂ZnxMg3-xAlO,用于N2O的直接催化分解.采用X射线衍射(XRD)、比表面积分析(Brunauer-Emmett-Teller)、热分析(TG-DSC)和傅里叶变换红外(FT-IR)光谱等表征手段考察了Zn含量对材料前驱物及其衍生复合氧化物组成和结构的影响,研究了系列ZnxMg3-xAlO催化剂的N2O催化分解性能,同时探讨了反应条件,如N2O浓度、空速、O2和H2O等因素对催化剂活性的影响.结果表明,所有前驱物材料均能形成完整的层状水滑石结构;经高温焙烧后形成了以Zn-Al尖晶石为主相的复合氧化物,且Zn掺杂有助于促进尖晶石相的生成;Zn含量对材料的热稳定性、比表面积和N2O催化分解活性有显著的影响;随着Zn含量增加,催化剂比表面积下降,但其不是影响催化剂活性的主要因素;650℃焙烧后的Zn2.0Mg1.0AlO催化剂具有较好的N2O催化分解活性;N2O浓度、空速及O2对催化剂活性的影响较小,而H2O则对活性有较大的影响.     

Resistance distance and Laplacian spectrum

The resistance distance r _ij between two vertices v _i and v _j of a (connected, molecular) graph G is equal to the resistance between the respective two points of an electrical network, constructed so as to correspond to G, such that the resistance of any two adjacent points is unity. We show how the matrix elements r _ij can be expressed in terms of the Laplacian eigenvalues and eigenvectors of G. In addition, we determine certain properties of the resistance matrix R=||r _ij ||. AcknowledgementsThis research was supported by the Natural Science Foundation of China and Fujian Province, and by the Ministry of Sciences, Technologies and Development of Serbia, within Project no. 1389. The authors thank Douglas J. Klein (Galveston) for useful comments.     

二氧化钒和三氧化二钒研究进展

VO₂和V₂O₃是优异的光、电、磁热敏材料，在多种技术领域中具有广阔的应用前景，已成为国内外新颖功能材料研究的热点之一。本文综述了VO₂和V₂O₃的粉体、陶瓷和薄膜的研究进展，并对相关问题进行讨论。