陈化温度和Fe/Zr配比对SO42-/Fe2O3-ZrO2固体超强酸结构与性能的影响

用低温陈化法制备了SO42 -/Fe2 O3 ZrO2 (简称SFZ)固体超强酸催化剂 ,用红外光谱 (IR)和X光衍射(XRD)对其结构进行了表征 ,并考察了它对合成癸二酸二正丁酯的催化性能 .IR谱显示 ,低温陈化的SFZ样品在10 70cm-1处吸收峰远强于常温陈化样品 .XRD分析则显示 ,在焙烧温度为 6 5 0℃、Fe/Zr为 2∶1时 ,低温陈化的样品出现了亚稳态的ZrO2 四方晶相 .该样品在催化酯化反应中使产率达 90 %以上 ,高于常温陈化样品的 30 % .研究结果表明 :在其他条件不变时 ,低温陈化所出现的亚稳态的ZrO2 四方晶相是表面酸性和催化活性增加的微观原因     

Novel optical film sensor design based on p-polarized reflectance

A new scheme of optical film sensor is presented. The sensor is based on p-polarized reflectance, consisting of a sensing coated substrate, is easily optimized for maximum sensitivity in different applications. The resolutions of refractive index n_f, extinction coefficient k_f and thickness h_f of the sensitive films are predicted to be 10⁻⁷, 10⁻⁵ and 10⁻³ nm, respectively. Experimentally, we selected the sol–gel derived SnO₂ films as gas-sensitive films and conducted preliminary gas-sensing test. The results indicate that novel optical film sensor scheme has higher sensitivity, and the detection sensitivity is available to 10⁻¹ ppm on the condition of optimum optical parameters and incident angle.     

Investigation of charge effects on poling and stability for corona-poled polymer films

The optimal corona-poling temperature of polymer films was accurately determined by measuring the temperature dependence of the in situ second-harmonic (SH) intensity profile under the applied poling electric field. The in situ SH intensity profile was first measured by probing both the surface voltages and the poling currents induced by surface/space charges for the corona-poled polymer films. Moreover, charge effects on the stability of the chromophore orientation were first studied by using the thermally stimulated discharge-current technique. PACS 72.20.Jv; 42.65.Ky; 73.61.Ph; 81.40.Tv     

一种VSAT数据通信网络报文传输协议的分析

本文描述并分析了一种适用于多信道ＶＳＡＴ卫星数据通信网的报文传输协议，特别是考虑了无线信道误码率对传输协议的影响，分析表明利用Ｓ－ＲＥ－ＡＬＯＨＡ作为预订信道的多址方式及按报文占用数据信道方法可以减小报文传输延时并增加系统吞吐量。     

DDI法测薄膜光学常数

双光束双波长激光干涉（ＤＤＩ）法采用自行设计的可调双波长氦氖激光器作光源，可在同一光路中通过两次测量获得薄膜样品两个波长（０．６３３μｍ，３．３９μｍ）下的光学常数，即折射率、消光系数和厚度。论述了测量原理、测量装置和测量结果。     

LB技术制备大面积超薄PMMA抗蚀层的研究

采用自行研制的ＬＢ自动提膜装置，制备出大面积（１０×８ｃｍ２）、高质量的ＰＭＭＡ超薄抗蚀剂膜，并将其用于高分辨率铬掩模版的研制。通过电子束曝光，湿法蚀刻，制作了分辨率优于０．５μｍ，特征线宽０．３８μｍ的４（１００ｍｍ）铬掩模版。     

酞菁钴薄膜的折射率及吸收特性

通过真空镀法在单晶硅片上制备了酞菁钴薄膜，在波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪上研究了ＣｏＰｃ薄膜的椭偏光谱并分析了其电子结构。     

基于锁相同步检测的数字化阻抗测试方法

介绍了一种数字化阻抗测试方法，它采用锁相同步采样、数字化矢量电压电流比法及校准技术测试元器件或线路阻抗。同时介绍了相应实验电路原理，并结合线路接口，进行了通信电缆的线路阻抗测试实验。     

热场致发射电子源曝光系统的技术现状和应用前景

高亮度、长寿命的热场致发射(Thermal field emitter)阴极自七十年代中期已受到人们的关注和重视,历经十多年在理论分析、工艺制备和实验研究上做了大量工作之后,于1988年在电子束曝光机上的应用中取得了突破性进展。用晶向为(100)的钨和具有低逸出功的锆制成的(Zr/O/W)热场致发射阴极在四千小时的使用寿命下亮度值超过六硼化镧阴极一个数量级以上,最近的实验结果表明:在工件台上小束斑下能得到接近两千安培每平方厘米的束流密度,而且四十小时内束流稳定度接近千分之一。显然,这几个表征曝光系统综合技术性能的重要指标,说明多年困扰于各种电子束曝光系统(特别是高斯圆斑电子束系统)在高分辨率情况下生产率较低的技术难题已经得到了比较圆满的解决。 八十年代末期,当热场致发射电子源曝光系统的技术关键解决后,这项技术就成为技术发达国家,特别是美国和日本,在电子束曝光领域进行技术竞争的热点;九一年五月底在美国召开的国际三束会议上有关场致发射阴极和MEBES—4型机已经采用TFE的最新报道充分证实了这项技术在电子束曝光技术应用中的重要地位和发展潜力。     

一些高Tc超导体的弹性性质

 本文用超声相比较方法测定了高T_c超导体La_1.85Sr_0.15CuO₄，La₂CuO₄和YBa₂Cu₃O₇的纵波和横波声速，进而导出了它们的纵向模量、切变模量、杨氏模量、泊松比、德拜温度及定体比热。在La_1.85Sr_0.15CuO₄样品上，还进行了压力实验，发现所有弹性模量都是随压强增加而增加。定体比热c_V和泊松比σ在高压下则略有下降。德拜温度是随压强增加而增加的。