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21.
液相添加剂对PTCR陶瓷电性能的影响 总被引:3,自引:2,他引:1
液相添加剂AST(Al2O3+SiO2+TiO2)对BaTiO3陶瓷材料电性能的影响很大,随着Al2O3含量的增加,材料的电性能降低;SiO2、TiO2的物理特性对材料电性能影响较大;过量TiO2对材料PTC效应有重要影响,适当过量TiO2含量,可得到性能优良的PTCR陶瓷。 相似文献
22.
水溶性涂料使用性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
本文通过试验对水溶性涂料的耐盐雾腐蚀性能,耐热性能,高低温冲击性能,耐油性能,涂膜与铁基体,面漆的给合力及涂膜表面电阻进行研究,同时指出了该涂料在军用电子产品上的应用前景。 相似文献
23.
The distortion theorem for biholomorphic convex mappings in bounded symmetric domains are considered. Especially the distortion theorem for biholomorphic convex mappings in classical domain of type IV and two exceptional domains are given. 相似文献
24.
Gong S.S. Burnham M.E. Theodore N.D. Schroder D.K. 《Electron Devices, IEEE Transactions on》1993,40(7):1251-1257
Electrical time-to-breakdown (TTB) measurements have shown the charge to breakdown Q bd of gate oxide capacitors fabricated on n-type well (n-well) substrates always to be higher than that of capacitors on p-type well (p-well) substrates on the same wafer when both are biased into accumulation under normal test conditions. Here the authors correlate the higher n-well Q bd to smooth capacitor oxide/substrate interfaces and minimized grain boundary cusps at the poly-Si gate/oxide interfaces, confirming that Fowler-Nordheim tunneling is the dominant current conduction mechanisms through the oxide. They correlate higher Q bd to higher barrier height for a given substrate type and observe that the slope of the barrier height versus temperature plot is lower for both p-well and n-well cases with electrons tunneling from the silicon substrate. This is attributed to surface roughness at the poly-Si gate/SiO2 interface. A poly-Si gate deposition and annealing process with clean, smooth oxide/substrate interfaces will improve the p-well breakdown characteristics and allow higher Q bd to be achieved 相似文献
25.
本文报道了Pancharatnam位相非线性变化的实验研究,实验结果与理论预言符合得很好。Pancharatnam位相的这种非线性可能在光开关中得到应用。 相似文献
26.
采用固源Si分子束外延,在较高的生长温度于Si(100)衬底上制备出Si1-xGex/Si量子阱发光材料。发光样品的质量和特性通过卢瑟福背散射、X射线双晶衍射及光致发光评估。背散射实验中观察到应变超晶格的反常沟道效应;X射线分析表明材料的生长是共度的、无应力释放的,结晶完整性好。低温光致发光主要是外延合金量子阱中带边激子的无声发射和横光学声子参与的激子复合。并讨论了生长温度对量于阱发光的影响。 相似文献
27.
The classical perturbation theory is extended to the weighted Kronecker product linear systems W(A? B)Wx =h. Upper bounds are derived for the normwise condition number. 相似文献
28.
Q. Gong R. N tzel P.J. van Veldhoven T.J. Eijkemans J.H. Wolter 《Journal of Crystal Growth》2005,280(3-4):413-418
We report on the shape transition from InAs quantum dashes to quantum dots (QDs) on lattice-matched GaInAsP on InP(3 1 1)A substrates. InAs quantum dashes develop during chemical-beam epitaxy of 3.2 monolayers InAs, which transform into round InAs QDs by introducing a growth interruption without arsenic flux after InAs deposition. The shape transition is solely attributed to surface properties, i.e., increase of the surface energy and symmetry under arsenic deficient conditions. The round QD shape is maintained during subsequent GaInAsP overgrowth because the reversed shape transition from dot to dash is kinetically hindered by the decreased ad-atom diffusion under arsenic flux. 相似文献
29.
Yafang Gong 《分析论及其应用》2006,22(4):329-338
Based on Bernstein's Theorem, Kalandia's Lemma describes the error estimate and the smoothness of the remainder under the second part of Hoelder norm when a HSlder function is approximated by its best polynomial approximation. In this paper, Kalandia's Lemma is generalized to the cases that the best polynomial is replaced by one of its four kinds of Chebyshev polynomial expansions, the error estimates of the remainder are given out under Hoeder norm or the weighted HSlder norms. 相似文献
30.