首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   15920篇
  免费   2740篇
  国内免费   3813篇
化学   6829篇
晶体学   414篇
力学   699篇
综合类   286篇
数学   1440篇
物理学   4273篇
无线电   8532篇
  2024年   79篇
  2023年   292篇
  2022年   700篇
  2021年   626篇
  2020年   515篇
  2019年   495篇
  2018年   439篇
  2017年   665篇
  2016年   520篇
  2015年   767篇
  2014年   1000篇
  2013年   1146篇
  2012年   1336篇
  2011年   1361篇
  2010年   1367篇
  2009年   1417篇
  2008年   1494篇
  2007年   1339篇
  2006年   1330篇
  2005年   1096篇
  2004年   869篇
  2003年   594篇
  2002年   566篇
  2001年   565篇
  2000年   574篇
  1999年   297篇
  1998年   125篇
  1997年   98篇
  1996年   103篇
  1995年   82篇
  1994年   80篇
  1993年   89篇
  1992年   81篇
  1991年   42篇
  1990年   47篇
  1989年   41篇
  1988年   44篇
  1987年   27篇
  1986年   23篇
  1985年   15篇
  1984年   20篇
  1983年   18篇
  1982年   22篇
  1981年   14篇
  1980年   14篇
  1979年   10篇
  1978年   10篇
  1977年   5篇
  1971年   3篇
  1959年   5篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 31 毫秒
121.
研究了原子化器温度、载气流速、KBH4 浓度等条件对流动注射 氢化物发生 原子吸收光谱法 (FI-HG -AAS)测定硒时的影响。建立了FI-HG -AAS测定大米中硒的分析方法。在优化的工作条件下 ,测定硒的最低检测浓度为 0 3 3 μg·L- 1,线性范围为 0~ 5 0 μg·L- 1,相对标准偏差小于 4% ,加标回收率为 94%~ 1 0 2 %。本法克服了传统的间断氢化物发生 原子吸收光谱法分析速度慢、样品耗量大、操作繁琐且因手工进样在进样速度和进样体积上容易带来误差等缺点。方法操作简便、快速 ,灵敏度及自动化程度高 ,已广泛应用于大米及富硒大米中微量硒的测定  相似文献   
122.
耦合双原子Jaynes-Cummings模型的腔场谱H   总被引:14,自引:8,他引:6  
研究了处于激发态的两原子与高Q腔场相互作用单光子过程的腔场谱,给出了初始光场为光子数态、相干态、压缩真空态时的腔场谱数值计算结果,分析了原子间偶极-偶极相互作用强度gα对腔场谱结构的影响.发现真空场Rabi峰,当gα较弱时为4峰,gα较强时为3峰结构;弱场数态(n>0)时为5峰,强场时为3峰结构.相干态和压缩真空态时,谱结构与光子数分布有关,一般为复杂的多峰结构.结果表明,gα对峰位峰高都有影响,破坏了谱结构的对称性,但这种影响只在真空场和弱场时才较明显.  相似文献   
123.
124.
VHF-PECVD制备微晶硅材料的均匀性及其结构特性的分析   总被引:1,自引:1,他引:0  
采用VHF-PECVD技术在多功能系统(cluster tool)中制备了系列硅薄膜,研究薄膜的均匀性及电学特性和结构特性。结果表明:气压和功率的合理匹配对薄膜的均匀性有很大的影响;材料的喇曼测试和电学测试结果表明微晶硅薄膜存在着纵向的结构不均匀,在将材料应用于器件上时,必须要考虑优化合适的工艺条件;硅烷浓度大,相应制备薄膜的晶化程度减弱,即薄膜中非晶成分增多。  相似文献   
125.
Hexagonal microtube ZnO was firstly grown on single crystal p-Si (111) substrates by hydrothermal method, and fabricated Ag/n-ZnO and Au/n-ZnO Schottky junction. Schottky effective barrier heights were calculated by I-V measurement. It is confirmed that the presence of a large amount of surface states related possibly to lattice imperfections existed near the surface leads to the pinning of the surface Fermi level at 0.35 eV below the conduction-band edge. Then the fabricated Schottky barrier junctions are evaluated for their use as UV photodetectors.  相似文献   
126.
A new ternary complex [Ni(phen)(pmal)]·8H2O (phen = 1,10-phenanthroline,pmal2- = phenethyl malonic acid) has been synthesized by the reaction of nickel acetate, phen and phenethyl malonic acid. Elemental analysis, IR spectra and X-ray single-crystal diffraction were carried out to determine the composition and crystal structure. Crystal data for this complex: triclinic system, space group P1, a = 10.387(5), b = 13.112(6), c = 14.229(6) (A), α = 76.176(7), β =83.778(8), y = 71.770(6)°, C35H42N4O12Ni, Mr= 769.44, Z = 2, F(000) = 808, V = 1786.1 (A)3, Dc =1.431 g/cm3, μ = 0.612 mm-1, the final R = 0.0653 and wR = 0.1033 for 9379 (Rint = 0.0244)independent reflections and 4730 observed reflections (I > 2σ(I)). Structural analysis shows that the coordination geometry of Ni(Ⅱ) is a distorted octahedron. A novel two-dimensional structure is constructed from (H2O)4 and (H2O)12 water clusters, and the complex forms a 3-D network supramolecular structure by hydrogen bonds and π-π stacking of neighboring phens.  相似文献   
127.
Eu,Dy共掺杂SrAl2O4长余辉材料制备新工艺   总被引:6,自引:6,他引:0       下载免费PDF全文
活化Al-Sr合金粉末水解制备SrAl2O4长余辉材料的前驱体,并采用高温固相反应法制备出Eu,Dy共掺杂的SrAl2O4长余辉材料,对其微观结构和发光特性进行了研究。实验结果表明:前驱体中Al、Sr元素在微观状态下分布均匀,所制成的长余辉发光材料的发射主峰位于520nm附近,为典型的Eu2+离子4f5d-4f的特征发射,初始亮度达到18cd/m2,余辉时间长达46h。  相似文献   
128.
本文给出A 调和方程弱解的逆H lder不等式及其若干应用 .  相似文献   
129.
Carleson测度与Bloch的刻画   总被引:1,自引:0,他引:1  
高进寿  贾厚玉 《数学杂志》2002,22(3):323-328
在文中,对于C^n中有界强拟凸域。我们得到Carleson测度,消没Carleson测度的刻画。利用Carleson测度,我们还得到Bloch,小Bloch的刻画。  相似文献   
130.
文章讨论了PAGER控制器芯片(ZQD021)的系统设计,该控制器内部集成了FLASH,SRAM,POCSAG协议解码器和嵌入式MCU CORE。重点分析了芯片的可测性设计(DFT),内嵌FLASH设计,低功耗设计,其设计方法和思路对消费类和嵌入式控制芯片的设计有一定的借鉴意义。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号