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11.
GaN-MOCVD设备反应室流场的CFD数值仿真 总被引:11,自引:2,他引:9
采用计算流体力学方法对生长半导体材料GaN的重要设备MOCVD(金属有机物化学气相沉积)反应室中的流场结构进行了三维数值仿真.数值模拟采用基于非交错网格系统的SIMPLE算法,用有限体积方法对控制方程进行离散,并采用改进的压力-速度耦合方法进行求解.数值仿真给出了具有复杂几何结构和运动方式的GaN-MOCVD反应室中的流场结构,研究了改变几何尺寸和运行参数对MOCVD反应室流场结构的影响,对正在试制开发中的MOCVD设备的几何结构的改进和运行参数的优化提出了指导性建议. 相似文献
12.
13.
基于模式理论光栅椭偏参数反演的数值模拟 总被引:5,自引:2,他引:3
将一种广泛用于求解系统优化问题的方法——正单纯形法,求解光栅的椭偏方程。首先,利用求解光栅的傅立叶模式理论对TE和TM波的复反射系数进行求解。然后计算出其相应的椭偏参数(△,Ψ),并在该值的基础上加入不同偏差的随机高斯噪声,将加入噪声后的值(△m,Ψm)作为模拟测量值。最后使用优化算法进行反演。通过对几种常用面形光栅椭偏参数的数值模拟,一方面表明傅立叶模式理论计算光栅的椭偏参数不仅精度高。而且速度快;另一方面表明利用正单纯形法得到的光栅参数值很接近于正演时假设的参数值,从而从理论上证明了利用椭偏法测量光栅各种光学参数的可行性。 相似文献
14.
本文阐述了网络远程维护人员进行网络维护时比较有用的三种有效方法的原理及其设置 ,较好地解决了故障排除的时间和网络维护成本的矛盾。 相似文献
15.
16.
荧光显示管直丝氧化物阴极有效逸出功的计算 总被引:1,自引:1,他引:0
阴极的逸出功是表征阴极发射能力的物理量,求定荧光显示管直丝氧化物阴极有效逸出功时,因其零场发射电流密度难于准确取值,温度无法直接测量,显得困难,须予解决,为此提出了一种计算阴极有产逸出功的办法,对某显示管的发射欠佳和“低温高效”的两种氧化物阴极的有效逸出功进行计算,有效逸出功率是靠测量相关物理量再同计算得出,精度不很高,文中所用办法也不例外,但所得结果能反映阴极发射能力,所需仪器少,是实用方法。 相似文献
17.
制作压力传感器时,在二氧化硅层上淀积多晶硅膜,既可利用优良的机械特性,又可保证压敏电阻与衬底间具有良好的绝缘性,由此可大大提高器件的温度特性。介绍了一种多晶硅压力传感器的原理和设计。实验结果表明,这类传感器具有灵敏度好,精度高等特点,电路工作范围为0-250℃,且具有良好的温度稳定性。 相似文献
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