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利用溶胶凝胶法在SiO2Si衬底上沉积高取向的V2O5薄膜,在压强低于2Pa,温度高于400℃的条件下,对V2O5薄膜进行真空烘烤,获得了电阻率变化3个数量级以上、弛豫宽度为62℃的VO2多晶薄膜.以X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)图和电阻率转换特性等实验结果为依据,详细分析了溶胶凝胶薄膜在真空烘烤时从V2O5向VO2的转化,它经历了从VnO2n+1(n=2,3,4,6)到VO2的过程.实验证明,根据选择合适的成膜热处理条件和真空烘烤条件是实现溶胶凝胶V2O5结构向VO2结构成功转换的关键
关键词:
溶胶-凝胶法 氧化钒薄膜 VO2膜转换特性 相似文献
884.
The paper presents an analytical study of blood flow through a stenosed artery using a suitable mathematical model. The artery is modelled as an anisotropic viscoelastic cylindrical tube containing a non-Newtonian viscous incompressible fluid representing blood. The blood flow is assumed to be characterized by the Herschel–Bulkley model. The effect of the surrounding connective tissues on the motion of the arterial wall has been incorporated. Initially, the relevant solutions of the boundary value problem are obtained in the Laplace transform space, through the use of a suitable finite difference technique. Laplace inversion is carried out by employing suitable numerical techniques. Finally, the variations of the vascular wall displacements, the velocity distribution of the blood flow, the flux, the resistance to flow and the wall shear stress in the stenotic region are quantified through numerical computations and presented graphically. 相似文献
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Summary Cold neutrons at the external neutron guide laboratory (ELLA) of the KFA Jülich are used to demonstrate their profitable application
for multielement characterization of biological materials. The set-up and experimental conditions of the Prompt Gamma Cold
Neutron Activation Analysis (PGCNAA) device is described in detail. Results for C, H, N, S, K, B, and Cd using synthetic standards
and the “ratio” technique for calculation are reported for several reference materials and prove the method to be reliable
and complementary with respect to the elements being determined by INAA.
IAEA fellow at the KFA from 6. 3. 91 to 2. 9. 91 on contract No. VIE/9016R. 相似文献
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化学镀镍合金在电子工业中的应用 总被引:5,自引:0,他引:5
对化学镀镍合金铁工艺和性能特性及其在电子工业中的应有委展现状作了评述。化学镀镍合金具有镀层均匀,适用基材广,结合力高,硬度高,优良的耐磨、耐蚀性,可焊性好和特殊的电磁性能等特性,在电子工业中获得了广泛的应用。文中着重介绍了化学镀镍合金在磁盘、电磁屏蔽、微电路、半导体、连接器及薄膜电阻上的应用情况。这些案例说明,合理应用化学镀镍合金技术,有利于提高电子元器件的质量,降低成本,促进技术进步。 相似文献
887.
本文从ASIC的基本特点出发,阐述了建立ASIC标准加工线(Foundry)的重要性;国内集成电路产业已经具备建立Foundry的基础,建立有中国特色的Foundry是可以有所作为的。文章介绍了作者在建立军用Foundry方面的探索和初步成果。 相似文献
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A detailed study of the oxidation of plasma deposited amorphous silicon (a-Si : H) using infrared phase modulated ellipsometry (IRPME) is presented. a-Si : H is found to be resistant against air oxidation confirming previous measurements. A 5–6 Å thick oxide layer at the surface of a-Si : H is observed after a few months of exposure to air. The extreme sensitivity of IRPME is emphasized. In particular Si-O-Si and (On)Si-H stretching vibrations are identified at the film surface at the submonolayer level. The oxidation mechanisms are discussed. The weak reactivity of a-Si : H with atmosphere is correlated with the presence of a hydrogen rich thin layer at the top surface. 相似文献