燃烧合成前驱物制备超细AlN-SiC复合粉末

以硅溶胶(SiO2·nH2O)、葡萄糖(C6H12O6·H2O)、硝酸铝(Al(NO3)3)和尿素(CO(NH2)2)为原料,采用低温燃烧合成方法,制备出粒度细小、混合均匀的(Al2O3+SiO2+C)前驱物,然后将前驱物采用两步碳热还原反应制备AlN-SiC复合粉末.研究结果表明:(Al2O3+SiO2+C)前驱物具有较高的反应活性,还原反应速率快,前驱物首先在1600℃通氩气保温3h然后再于1600℃通氮气保温3h可实现完全转化,制备的AlN-SiC复合粉末主要由尺寸为80～100 nm的球形颗粒组成.     

基于THz-QCL自混合干涉的运动传感

基于自混合干涉效应的太赫兹量子级联激光器(THz-QCL)相干测量系统是一种极其灵敏的传感系统。相比于传统的激光测速技术,自混合干涉具有光路自准直、无需额外光电探测器和混频器等优势,使系统的结构更加紧凑;而且,使用太赫兹波进行相干测量,有望提升测速上限。本文采用THz-QCL的自混合干涉技术,研究了系统对于两独立运动目标物的非线性动力学响应特性,给出了自混合信号的多普勒频谱,并通过频谱分析,获得了两目标物的运动速率及方向。研究结果证实了利用THz-QCL自混合干涉系统对目标物进行运动传感的可行性,为高速运动的多目标物测速提供了新的技术手段。     

CO2激光辐照下光学薄膜的温度场与热畸变

介绍了光学薄膜温度场的基本理论,利用交替隐型技术,对10.6μm激光辐照下介质薄膜的温度场分布进行了数值模拟和理论分析。在此基础上,利用夏克-哈特曼波前传感器对介质基底样品、不同厚度的介质单层膜样品以及不同膜系的YbF3/ZnSe介质多层膜样品在10.6μmCO2激光辐照下的热畸变进行了实验研究。研究结果表明,激光辐照下光学薄膜样品的温度场分布与辐照激光的光场分布、激光功率以及激光的辐照时间等因素有关。对于10.6μm激光而言,Ge最适宜做基底材料。     

实现票据电子化的技术研究分析

近年来随着IT技术的发展,越来越多的行业正在进行电子化、信息化的产业升级。但与消费者密切相关的票据凭证依然以传统的纸质支票为主,由于纸质票据需要打印、人工配送等环节,因此在流通上存在一定的不便利,尤其是对于互联网、移动支付的交易领域。本文针对纸质票据存在的问题,在满足现有各参与方需求的前提下,提出了电子票据系统的设计思路,并分析电子票据系统应具备的主要功能和对应的技术要求,为未来票据电子化的实现提供参考。     

溶胶-凝胶旋涂法制备In掺杂ZnO薄膜结构和光学性能的研究

采用溶胶-凝胶(sol-gel)旋涂法在常规玻璃衬底 上生长了In掺杂浓度分别为1at%、2at%、3at%、4at%、5at%的ZnO薄膜。借助X射线衍射仪(X RD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外- 可见分光光度计(UV-Vis)对样品的晶粒生长、结构以及光学性能进行表征。结果如下:所 制 备的薄膜均沿(002)方向择优生长,且随着In³⁺掺杂浓度增加 ,衍射峰的峰型及半高宽均呈 先降低后升高的趋势;In³⁺掺入后,ZnO薄膜晶粒由原来的六边形状发展成类似蠕虫 状,同 时粒径变小且大小不一;与本征样品相比,掺杂后的ZnO光透过率提高了10%,且吸收边向短 波长方向偏移,同时随着In³⁺的掺入,薄膜的光学带隙值从3.49 eV增加到3.80 eV。当In³⁺掺 杂浓度为4at%时,薄膜(002)峰的峰形最为尖锐、峰值最大,晶粒较为均匀、 晶格间距更小,光透过率最高,光学带隙值相对较大为3.77 eV。     

利用柔性注意力分割模型的X频段航海雷达图像海面溢油检测

X频段航海雷达图像广泛应用于溢油探测中,但是目前仅用于判断是否有溢油,对油污区域的精确计算较少。针对上述问题,引入了基于柔性注意力机制的图像分割的模型。首先建立以基于特征金字塔的目标检测模型为主干模型的语义分割模型,将多尺度特征进行充分融合,包括高层次的语义信息和低层次的位置信息;然后针对每一个特征层分别引入通道注意力机制,计算特征层中通道之间的权重关系,提高模型对溢油特征提取的表达能力,同时采用像素级别的语义分割打分函数作为评价分割区域质量的指标。对大连区域海面溢油数据集进行检测的实验结果表明,该方法能够提高溢油区域的分割精度,同时与PSPNet、DeepLab V3+和Attention U-net等分割模型相比,基于像素级别的分割准确率提高至85.77%。     

微波集成介质振荡器的时域有限差分模拟

 本文将Gunn二极管的非线性集中模型编入时域有限差分算法,模拟了微波集成介质腔稳Gunn振荡器的瞬态特性.     

一种小型视频点播系统中的多客户管理方案

针对小型视频点播系统，本文提出了一种有效的多客户管理方案，包括许可控制算法、分层设计方法和客户机拉模式方法。实验证明，该方案简单实用，并且一般的PC机就可以胜任30点的小型视频点播服务器。     

硬盘微晶玻璃基板化学机械抛光研究

利用自制的抛光液对硬盘微晶玻璃基板进行化学机械抛光.研究了抛光压力、SiO2浓度、pH和氧化剂过硫酸铵浓度等因素对材料去除速率MRR和表面粗糙度Ra的影响,系统分析了微晶玻璃抛光工艺过程中的影响因素,优化抛光工艺条件,利用原子力显微镜检测抛光后微晶玻璃的表面粗糙度.结果表明:当抛光盘转速为100 r/min、抛光液流量为25 mL/min、抛光压力为9.4 kPa、SiO2浓度为8wt;、pH=8、过硫酸铵浓度为2wt;时,能够得到较高的去除速率(MRR=86.2 nm/min)和较低表面粗糙度(Ra=0.1 nm).     

选相原位法合成立方氮化硼的关键影响因素

利用选相原位法在水溶液中成功制备出了立方氮化硼晶体，对反应条件进行了优化。结果表明，利用选相原位法合成立方氮化硼的最佳实验条件是：反应压力为10.0 MPa，在氯离子加入下利用混合氮源进行反应。在该条件下得到了纯相的立方氮化硼晶体。