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极紫外光刻(EUVL)技术是实现45 nm特征尺寸的候选技术之一,产业化设备要求300 mm硅片的产率大于每小时80片(80 wafer/h),此时入射到掩模版上的极紫外光功率密度很高,掩模版上的吸收层和Mo/Si多层膜将分别吸收100%和35%的入射光能量,从而导致其热变形,引起光刻性能下降,因此必须分析和控制掩模热变形。利用有限元方法分析掩模版在不同功率密度下的热变形,结果表明,抗蚀剂灵敏度为7 mJ/cm2和5 mJ/cm2时,入射到掩模版上的光功率密度分别为259.24 W/cm2和184.38 W/cm2,掩模版图形区域x-y平面内最大变形分别为1.11 nm和0.71 nm,z方向最大变形分别为0.26 nm和0.19 nm。 相似文献
164.
本文重点描述了应用Fe/Mo/Al2O3载体载入式催化剂,以CO为碳源,通过氧炔焰形成热解火焰合成单壁、双壁和三壁碳纳米管的实验过程.研究了合成温度,取样时间以及碳源气体CO流最对最终产物的影响.结果表明,830℃的合成温度可以满足合成单壁、双壁和三壁碳纳米管所需要的高温环境,消除载体催化剂聚合物对碳纳米管的包裹,大幅提高合成产物的产量;10 min的取样时间以及0.4 L/min的CO流量可以良好分散载体催化剂聚合物团簇,进而优化产物形态和进一步提高产量. 相似文献
165.
为了测量材料在高温甚至超高温下的力学性能,采用数字图像相关方法,并研究其在高温下的最优成像。采取不同的散斑制作方法,同时加入不同颜色的高温漆,在不同的温度节点,外加不同光源及相应的滤波片,采集并观察图像是否具有良好的对比度。普通的单色光源在800℃以后会逐渐失效,无法获取图像,而紫外光在1 200℃时依然可以获取较好的图像,且直接利用试件本身颜色作为底色效果更佳。采用紫外光照明可以实现DIC在高温环境下的测量。同时利用黑色或者蓝色散斑直接喷涂在试件上有着最佳的对比度,要优于常规的散斑制作方法。 相似文献
166.
在对采纳者决策过程分析的基础上,将网络结构和采纳者偏好作为核心参数,构建基于采纳者决策过程的创新扩散系统动力学模型。对模型进行仿真发现,在采纳者趋同化偏好条件下,网络平均度、网络重连概率与采纳者偏好强度的变动趋势与创新扩散效率的变动趋势相同,而在采纳者差异化偏好条件下则与创新扩散效率变动趋势相反。网络平均路径长度对创新扩散的影响方向与采纳者偏好特征无关,提高网络平均路径长度会始终降低创新扩散的效率。采纳者的趋同化偏好能够放大创新扩散对网络结构变量与采纳者偏好强度变量的敏感程度,采纳者差异化偏好则会缩小创新扩散对网络结构变量与采纳者偏好强度变量的敏感程度。研究结果对于制定创新推广策略具有一定的指导意义。 相似文献
167.
通过蚀刻铜箔结合导通孔连接的方法在四层PCB中制得了大小从120 nH到1 400 nH的三维螺旋隐埋电感,品质因数分别为6~31(测量频率为1 MHz)。所制得隐埋电感既包括垂直轴线,也包括水平轴线三维螺旋隐埋电感线圈;既包括平面螺旋电感和三维螺旋线圈,又包括两者的复合。另外通过对比研究不同物理参数对垂直轴线三维隐埋电感的影响,结果发现在相同周长的情况下,圆形电感略优于方形电感;电感大小和线圈的面积及圈数成正比,与线圈间距成反比;品质因数随着线圈的面积、圈数和线圈间距的变化而略有变化。 相似文献
168.
针对分布式寄存器文件应用于高性能超长指令字(VLIW)数字信号处理器而造成的分支流水线与写回控制信号的同步问题,提出了一种面向分布式本地寄存器文件的写回策略。其中包括指令执行周期的产生,写回信号缓存以及写回控制单元。采用了面积功耗性能评估方法,结果证明了该策略能充分发挥分布式寄存器文件在功耗方面的优势,相对于运用集中式寄存器文件可以减少50%的功耗,同时对于传统流水线写回控制方法可以节省60%的面积开销。 相似文献
169.
"PLC原理及应用"是电气工程及自动化专业必修的专业课程。本文介绍了"PLC原理及应用"精品课程在师资队伍培养、教材建设、教学内容、教学方法、实践教学和教学管理等方面进行的探索和研究成果。我们以精品课程建设为契机,不断提高师资教学水平,从而实现提高教学质量的目的。 相似文献
170.