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11.
Sm3+掺杂稀土硼酸盐玻璃的光谱参数计算和荧光光谱分析 总被引:2,自引:1,他引:1
制备了具有高效可见荧光发射的Sm3 掺杂稀土硼酸盐(LBLB)玻璃,对玻璃的吸收和荧光光谱展开了测试与分析.根据Judd-Ofelt理论对吸收光谱进行了拟合,求得Sm3 离子的晶场调节参数Ωt=(2,4,6)分别为6.81×10-20,4.43×10-20和2.58×10-20 cm2,并进一步计算出各能级跃迁的谱线强度、自发辐射跃迁概率、辐射寿命和荧光分支比等光谱参数.紫外光激发下,Sm3 掺杂LBLB玻璃发出明亮的橙红色光.激发光谱表明,氩离子激光器是Sm3 掺杂LBLB玻璃有效的激发光源. 相似文献
12.
ZnO单晶材料以其优良的综合性能在光电子器件方面掀起了研究热潮,因此对ZnO单晶的研究具有重要的理论和实践意义。采用激光辐照的方式,对ZnO单晶进行了光致发光(photoluminescence, PL)光谱实验,分析研究了ZnO单晶在不同温度(低温)和不同激光能量强度照射下其光致发光特性。研究结果表明,ZnO单晶内存在少量杂质及表面氧缺陷,这些结构对其发光特性有一定的影响;在低温条件下,ZnO单晶具有良好的发光特性,且随着温度的提高,发光光谱峰的位置会向长波长方向移动,但强度会减小;当激光光源的强度增大,ZnO单晶的PL发射光谱的强度也会随之增大,且峰的位置和相对强度不变。结合拉曼(Raman)光谱实验,从分子及原子振动、转动类型验证了纤锌矿ZnO单晶的六方晶系结构;配合X射线衍射(X-ray diffraction, XRD)技术,得出ZnO单晶良好的结晶特性以及晶轴取向。 相似文献
13.
本文报道室温下Cd3Al2Ge3O12:Mn2+(简称CAGG:Mn2+)锗酸盐石榴石的漫反射光谱、激发和发射光谱.在UV光激发下,在CAGG中Mn2+离子发射强黄光,这是基质到Mn2+离子无辐射能量传递的结果.Mn2+的黄发射带是由一个弱的红带和一个强的绿带所组成.讨论了这两个Mn2+发射带的起因. 相似文献
14.
15.
首次报告在A3M2Ge3O12∶Cr(A=Cd2+,Ca2+;M=Al3+,Ga3+,Sc3+)锗酸盐石榴石体系中,Cr3+离子室温下的红—近红外(R—NIR)宽发射带光谱性质。随位于八面体格位上的Al3+→Ga3+→Sc3+和十二面体格位上的Cd2+→Ca2+组成顺序变化,室温下,Cr3+离子的4T2→4A2能级跃迁的R-NIR宽发射带,发射峰及光谱的长波和短波边逐渐向低能长波边移动。这是由于晶场强度减弱,阳离子的离子半径增大的结果。在镉(钙)铝和镉(钙)镓锗酸盐体系中,少量Sc3+取代八面体上的Al3+和Ga3+时,可使Cr3+的R-NIR荧光发射强度增强。 相似文献
16.
采用高温固相反应合成了(La1-xEux)(BO2)3,利用X射线粉末衍射方法确定其晶体结构,利用红外光谱探讨了[BO3]单元的聚合情况。根据(La1-xEux)(BO2)3所属空间群中等效点系的对称性分析及Eu^3 的荧光光谱,详细地探讨了Eu^3 的发光性质与其所处格位点对称性的关系。La(BO2)3:Eu^3 体系中,Eu^3 出现较强的^5D0→^7F1磁偶极路迁,因而Eu^3 主要占据点对称性为Ci的格位,出现的其它跃迁是部分Eu^3 占据偏离Ci的格位,而并非占据C2或C1格位,另外,^2D0→^7F4跃迁发射很强,其原因尚不清楚。选择适当的助熔剂可以提高样品的结晶程度,有利于Eu^3 占据严格的Ci格位,增强材料的发光性能。 相似文献
17.
采用高温固相反应合成了 (La1-xEux) (BO2 ) 3 ,利用X射线粉末衍射方法确定其晶体结构 ,利用红外光谱探讨了 [BO3 ]单元的聚合情况。根据 (La1-xEux) (BO2 ) 3 所属空间群中等效点系的对称性分析及Eu3 + 的荧光光谱 ,详细地探讨了Eu3 + 的发光性质与其所处格位点对称性的关系。La(BO2 ) 3 ∶Eu3 + 体系中 ,Eu3 + 出现较强的5D0 →7F1磁偶极跃迁 ,因而Eu3 + 主要占据点对称性为Ci 的格位 ,出现的其它跃迁是部分Eu3 + 占据偏离Ci 的格位 ,而并非占据C2 或C1格位 ,另外 ,5D0 →7F4 跃迁发射很强 ,其原因尚不清楚。选择适当的助熔剂可以提高样品的结晶程度 ,有利于Eu3 + 占据严格的Ci 格位 ,增强材料的发光性能。 相似文献
18.
BaMgF4中Gd3+的光谱以及Gd3+和Tb3+离子之间的能量传递 总被引:2,自引:0,他引:2
本文在室温下研究了BaMgF4氟化物中Gd3+和Tb3+离子的荧光光谱以及它们之间的能量传递。在BaMgF4中Gd3+可以直接将激发能传递给Tb3+离子:在Tb3+(4f75d)-Gd3+(4f)-Tb3+(4f8)能量输运过程中,Gd3+离子可起中间体作用。 相似文献
19.
Recently GaN-based high electron mobility transistors (HEMTs) have
revealed the superior properties of a high breakdown field and high
electron saturation velocity. Reduction of the gate leakage current
is one of the key issues to be solved for their further improvement.
This paper reports that an Al layer as thin as 3 nm was inserted
between the conventional Ni/Au Schottky contact and n-GaN epilayers,
and the Schottky behaviour of Al/Ni/Au contact was investigated
under various annealing conditions by current--voltage (I--V)
measurements. A non-linear fitting method was used to extract the
contact parameters from the I--V characteristic curves.
Experimental results indicate that reduction of the gate leakage
current by as much as four orders of magnitude was successfully
recorded by thermal annealing. And high quality Schottky contact
with a barrier height of 0.875 eV and the lowest reverse-bias
leakage current, respectively, can be obtained under 12 min
annealing at 450°C in N2 ambience. 相似文献
20.