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集CMOS与双极器件之优点于一体的BiCMOS,将逐渐成为90年代ULSI的主流技术。本文从工艺、器件结构和兼容设计等不同侧面,阐述了BiCMOS技术所具有的突出特点及其典型应用,同时还介绍了最新发展的低温BiCMOS技术和面临的关键问题。 相似文献
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本文概述性地探讨了低温SOIMOS器件的基本特性,如电流-电压特性、迁移率、阈值电压及亚阈值特性等,并介绍了该器件中所存在的一些效应。 相似文献
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本文用标准硅栅CMOS工艺研制了CMOS磁敏器件,用霍尔角解释了器件工作原理,所提出的理论与实验结果相符合。在此基础上给出了高灵敏度器件的几何结构,并提出了实际应用CMOS磁敏器件的设计方案。 相似文献
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分析了SPICEⅡ程序模拟耗尽型MOS器件所遇到的限制及其原因,用线性区阈电压和饱和区阈电压描述耗尽型器件线性区和饱和区特性,讨论了饱和区阈电压与线性区阈电压之差随衬偏电压变化的关系,建立了耗尽型MOS器件模型及其参数提取的新方法.模拟结果与实验基本吻合. 相似文献
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A unified model of low temperature current gain of polysilicon emitter bipolar transistors based on effective recombination method is presented, incorporating band-gap narrowing, carrier freezing-out, tunneling of holes through polysilicon/silicon interface oxide layer and reduced mobility mechanism in polysilicon. The modeling results based on this model are in good agreement with experimental data. 相似文献
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报道一种新型 X波段 0 .2 5 μm PHEMT全单片集成低噪声子系统。该子系统由开关衰减电路、采样检波电路和低噪声放大器三部分组成。开关插入损耗仅 0 .5 d B,放大器噪声系数小于 1 .5 d B。当开关控制电压为-2 V,输入电平 <-7d Bm时 ,此系统相当于一个低噪声放大器。在 8.5~ 1 0 .5 GHz频率内 ,整个系统增益大于2 4d B,噪声系数小于 2 .0 d B,输入输出 VSWR<1 .5 ;但当输入电平 >-7d Bm时 ,采样检波电路开始工作 ,打开主放大器前的开关衰减器 ,限制输入功率进入 LNA。输入功率越大 ,反射越大。在开关控制电压为 +2 V时 ,无论输入功率多大 ,开关关闭通道 相似文献
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为保证 ECL具有更好的电路性能,低温下制备 SiGe HBT作为基本器件的 SiGe ECL电路更适于低温应用,且传输延迟时间更小.1引言 SiGe ECL电路是目前国际研究前言,在高速 CPU、卫星通讯等领域有较高应用价值,在国内军事领域也将会有应用前景[1] 采用SiDe HBT作为ECL电路单管可实现更低延迟时间单元电路[2].为保证ECL单元电路具有较快速度,SiDe HBT需采用超薄基区、低发射区掺杂高基区掺杂等新型结构[3,4]. 从基尔霍夫方程出发,可对ECL对管延迟时间作较为精确的推导.t… 相似文献