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11.
提出了一种新颖的GaAs基p沟异质结场效应管(pHFET)概念,器件采用了In0.5Ga0.5P/GaAs异质系统及二维空穴气(2DHG)原理以改善GaAs的空穴输运特性,据此原理研制的器件可在室温下工作,其实结果为:室温下,饱和电流Idss=61mA/mm,跨导gm=41mS/mm,77K下,饱和电流Idss=94mA/mm,跨导gm=61mS/mm,预计该器件在微波和数字电路中极佳的电流密度及高频增益,因而具有良好的应用潜力。 相似文献
12.
讨论了功率单片在片脉冲测试中在片校准技术、脉冲功率测试技术等难题,并在讨论以上问题的基础上,实现工程化应用,该测试技术能够有效覆盖至40GHz。在建立的脉冲大功率在片测试系统上对输出功率典型值5W的GaAs功率单片放大器进行测试验证,测试结果和装架测试结果相比较,输出功率误差<0.2dB。 相似文献
13.
提出了一种改进的遗传算法,应用于提取GaAs MESFET小信号等效电路参数.改进的算法采用浮点编码连续突变,多种遗传操作合作运行,并应用子代优化策略克服了传统遗传算法可能出现的种群退化现象,该算法可快速搜索到全局最优解而不受初始值限制.在0.1~10GHz范围内实现了精确、快速地提取GaAs MESFET小信号等效电路参数,并可合理外推至20GHz,整个过程无需人工干预.算法用Matlab语言实现,可方便地应用于HBT和HEMT以及无源元件电容、电感的参数提取. 相似文献
14.
介绍了一种适用于砷化镓数字电路的Bp—SAG工艺。在该工艺基础上研制的GaAs数字二分频电路,最大工作频率达到2.25GHz,等效门延迟为92ps。 相似文献
15.
用改进的遗传算法精确提取GaAs MESFET小信号等效电路参数 总被引:2,自引:0,他引:2
提出了一种改进的遗传算法 ,应用于提取 Ga As MESFET小信号等效电路参数 .改进的算法采用浮点编码连续突变 ,多种遗传操作合作运行 ,并应用子代优化策略克服了传统遗传算法可能出现的种群退化现象 ,该算法可快速搜索到全局最优解而不受初始值限制 .在 0 .1~ 1 0 GHz范围内实现了精确、快速地提取 Ga As MESFET小信号等效电路参数 ,并可合理外推至 2 0 GHz,整个过程无需人工干预 .算法用 Matlab语言实现 ,可方便地应用于 HBT和HEMT以及无源元件电容、电感的参数提取 相似文献
16.
热退火技术是集成电路制造过程中用来改善材料性能的重要手段。系统分析了两种不同的退火条件(氨气氛围和氧气氛围)对TiN/HfO2/SiO2/Si结构中电荷分布的影响,给出了不同退火条件下SiO2/Si和HfO2/SiO2界面的界面电荷密度、HfO2的体电荷密度以及HfO2/SiO2界面的界面偶极子的数值。研究结果表明,在氨气和氧气氛围中退火会使HfO2/SiO2界面的界面电荷密度减小、界面偶极子增加,而SiO2/Si界面的界面电荷密度几乎不受退火影响。最后研究了不同退火氛围对电容平带电压的影响,发现两种不同的退火条件都会导致TiN/HfO2/SiO2/Si电容结构平带电压的正向漂移,基于退火对其电荷分布的影响研究,此正向漂移主要来源于退火导致的HfO2/SiO2界面的界面偶极子的增加。 相似文献
17.
以FeCl3和四甲基庚二酮(HDPM)为原料,在醇/水混合溶剂中合成β-二酮金属有机化合物Fe(DPM)3。利用红外吸收光谱、元素分析、原子吸收光谱、差热-热重和质谱分析等技术,分析了Fe(DPM)3的结构、纯度、热稳定性、挥发性以及热分解机理。结果显示,合成的Fe(DPM)3在空气气氛和氮气气氛下均具有良好的挥发性,气化失重率达到98%以上,空气气氛中氧的存在对Fe(DPM)3的气化和分解具有一定的促进作用;质谱分析结果表明:在Fe(DPM)3的分解过程中,首先有一个DPM配体解离,然后在剩余两个DPM配体中先解离出-C(CH3)3基团,随后分裂出剩下的-OCCH2COC(CH3)3基团,最后得到+Fe(DPM)碎片。本文同时以新合成的Fe(DPM)3作为前驱物,采用气溶胶辅助的金属有机化学气相沉积(Aerosol Assisted MOCVD,AA-MOCVD)技术在α-Al2O3衬底上成功沉积制备了α-Fe2O3薄膜。 相似文献
18.
19.
农村有线广播原有线路传输音质差、故障多、不安全、成本高,因此入户率和通向率逐年降低,现在利用“村村通”的良好契机,与有线电视网共缆传输调频广播就可以从根本上解决这个问题。 相似文献
20.