弱谐波情况下透射光栅衍射效率标定方法

同步辐射光源中的高次谐波会使透射光栅衍射效率标定精度变差。为了校正光源中的高次谐波对透射光栅衍射效率标定的影响,提出了一种光源存在弱谐波情况下的透射光栅衍射效率标定方法,通过使用谐波X射线的衍射效率修正基波衍射效率标定中谐波的影响,从而得到更为准确的透射光栅衍射效率。使用该标定方法在北京同步辐射光源上开展了透射光栅相对衍射效率标定工作。实验结果表明：在100~800 eV存在高次谐波能段,修正后透射光栅一级与零级的相对衍射效率与理论模拟结果吻合较好,修正后光栅二级与一级的相对衍射效率更接近理论模拟结果,但与理论模拟结果仍有较大偏差,该偏差主要来源光栅较弱的二级衍射。     

基于“桶中能量法”的相位共轭保真度测量研究

给出了基于“桶中能量法”的相位共轭保真度测量原理、方法与结果。通过对适当大小的空间滤波针孔能量透过率的直接测量可以得到相位共轭保真度并简单实现系数 标定, 给出了针孔大小的选择原则、系数标定方法和共轭保真度的计算公式以及单池受激 布里渊散射相位共轭镜在几种条件下的实验结果, 指明了这种方法的重要性与不足之处。     

大别山碧溪岭及南山岭两岩体中橄榄石的显微构造特征

大别山南山岭和碧溪岭石榴橄榄岩中的橄榄石具有不同的显微构造特征,前者基本不发育位错,而后者的位错比较普遍。碧溪岭橄榄石的微观晶形可分为球形颗粒和多面块体两类。球形颗粒内位错密度极低,是局部重结晶作用的结果,表明样品曾受到瞬间高温的作用;而多面块体内则分布着较高密度（～2×10^8／cm^2）的位错,其中有些微区的位错已显著扩展,形成层错,而另外一些区域中位错依然保持全位错的构形,表明各微区的层错能可能不同。层错能的差异最可能源于各微区成分的不同,实验结果显示Mg含量较高的微区,易形成层错。多面块体内的位错有明显运动迹象,表明样品曾受到长期、和缓的温度与差应力的联合作用。据此推测,碧溪岭地区板块间曾发生长期的相互挤压作用和不均匀的塑性变形,并最终发生瞬时激烈碰撞,由此产生的热量导致一些变形严重的微区发生重结晶形成球形颗粒,而未发生重结晶区域的位错则基本保持碰撞之前的组态。本文为碧溪岭地区板块俯冲和折返的超高压变质过程和演化历史及南山岭岩体形成于碰撞造山后的认识提供了流变学的证据。     

利用紫外光刻技术进行SU8胶的研究

SU 8光刻胶优异的性能在MEMS技术的发展重得到了广泛的应用 ,已经成为MEMS研究中必不可少的方法之一。SU 8光刻胶能够进行厚度达毫米的结构研究工作 ,另一方面SU 8结构具有很好的侧面垂直结构 ,通过控制工艺参数 ,能够获得满意的SU 8胶结构。SU 8光刻胶已应用于LIGA技术的标准化掩模制造工艺和一些器件的研究工作。在SU8胶研究过程中 ,克服了许多技术难题 ,使得这一技术能够应用到实际的需要中。     

利用电子商务平台促进河池经济产业发展

现如今,网络技术日趋成熟,电子商务得以在各个领域广泛应用,越来越多的电子商务平台涌现,从而大力促进了城市的经济建设.本文首先简要介绍电子商务平台的相关概念,然后概述电子商务平台建设的重要意义和优势作用,最后结合实际,通过分析电子商务平台在河池市的发展现状,论述其对本市经济产业发展所起到的推动作用.     

微流路生物芯片的研制

运用光刻、刻蚀技术在载玻片上刻蚀出条宽 70 μm、深 30 μm、长 7cm的沟槽 ,与另一载玻片键合 ,形成一微流路沟道 ,研制出了用于生物电泳技术的微流路生物芯片。在该芯片的研制中 ,克服了湿法腐蚀、断线、键合等技术难题。该芯片已经交付合作单位使用 ,能够满足应用中的基本性能要求     

利用TSW2500短波发射机实现DRM广播

本文介绍了利用瑞士TSW2500型发射机进行数字化广播改造的方法,通过改造,使现有的模拟广播发射机成为具有模拟和数字广播双重功能的发射机。     

光束通过含环形光阑的光学系统的传输特性研究

采用将环形光阑的窗口函数展开的傅里叶级数与复高斯函数的乘积的方法,推导出平面波经过含环形光阑光学系统的近似解析传输公式。利用该公式对光束通过含环形光阑的光学系统的传输进行了数值模拟,计算并分析了不同遮拦比下轴上光强分布和横向光强分布的特点。结果表明：轴上光强分布和横向光强分布与环形光阑的遮拦比有关。该研究方法和结果可推广到其他光阑,对控制光束和光学系统设计具有一定的参考价值。     

不同译码器结构对Turbo码性能的影响

文章给出了两种译码顺序不同的Ｔｕｒｂｏ码译码器,并通过软判决维特比算法作译码业比较两种结构的译码效果。     

利用背面曝光技术制造大高宽比SU8结构的一种新方法

提出了一种解决大高宽比SU8结构的新方法.该方法是将SU8胶涂在一块掩模上,紫外光从掩模的背面照射,这样SU8胶的曝光将从底部开始,不需要进行过曝光来保证底部胶的曝光剂量,从而很容易控制曝光剂量和SU8胶结构的内应力.实验结果表明,该方法能够得到高宽比为32的SU8结构,而文献报道的SU8胶结构的高宽比最大仅为18.