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该文从理论上计算得到了ZnO(a面)/蓝宝石(r面)结构的声表面波相速度和机电耦合系数色散曲线。依据该色散曲线设计了ZnO(a面)/蓝宝石(r面)结构声表面波滤波器。采用在蓝宝石衬底上先制备ZnO薄膜然后再制作芯片结构的方案研制出了声表面波器件样品。研制过程中生长出了a面结构的ZnO薄膜,其中厚膜样品测试得到了3种声波模式,即模式0、1及2,模式0、1和2的频率分别为1 073.79 MHz,1 290.63 MHz和1 572.3 MHz, 因此,间接测得了模式0、1和2的相速度分别为3 865.67 m/s, 4 646.25 m/s和5 660.27 m/s。 相似文献
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我们采用了在衬底表面和与衬底表面垂直方向施加电场的方法,研究了三片高耦合切型LiNbO_3的可变延时特性。发现了旋转16.5°LiNbO_3切片具有与38X型材料相等的线性延时系数。但在实际应用中,其效应太小。本器件是由位于声通道上导电电极构成的SAW延迟线组成。当改变加于电极和衬底背面的不锈钢接地之间的电压时,其速度变化呈线性的。当衬底厚0.16mm时,观察到速度相对变化为9×10~(-7)/V,相当于灵敏度γ=1.36×10~(-10)m/V。这是至今我们所知的灵敏度最高的器件。与我们早期的38X切型LiNbO_3的灵敏度1.4×10~(-10)m/V相当,且线性度很好,通过二阶导数推得它对时间的曲线斜率为10~(-3)。平面型时间延迟器件灵敏度的简单模型与实验条件有关。我们对两种几何结构的色散进行了计算,结果表明:对许多应用来说,这种差别是微不足道的。 相似文献
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采用中频(MF,40 kHz)双S枪磁控反应溅射制备出了氮化铝(AlN)压电薄膜;采用直流磁控溅射法制作了Mo电极薄膜;采用脉冲DC磁控溅射Au、Cr、Al靶分别制作Au/Cr底电极薄膜及Al/Cr顶电极薄膜。通过对AlN压电薄膜、Mo及Au电极薄膜进行了X线衍射(XRD)分析,结果表明,复合AlN压电薄膜(002)面、Mo薄膜(110)面及Au薄膜(111)面择优取向优良,说明选用Al/Cr/AlN/Au/Cr/YAG复合结构压电薄膜能研制出Ku波段及K波段声体波微波延迟线(BAWDL),其Ku及K波段BAWDL器件插入损耗分别低至43.7 dB、54.6 dB。 相似文献
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本文介绍用于激励剪切振动模式的ZnO压电薄膜的制备方法、性能及应用前景.采用辅助阳极环,改变基片角度等的RF平面磁控溅射技术,在低气压、高速率的溅射条件下,制备出了c轴偏离基片法线40°,声速为2830m/s,机电耦合系数达到29—32%的ZnO压电薄膜.为制作微波复合谐振器和微波声换能器提供了性能优良的新型压电薄膜材料. 相似文献
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本文对集成光学中制作平面光波导用的LiNbO_3薄膜制备及其光参数的测量方法进行了介绍。RF二极管溅射沉积的LiNbO_3单晶薄膜的寻常光及非寻常光折射率高达:n_0=2.32±0.02;n_e=2.18±0.04(He-Ne激光)。用LiNbO_3膜可制作出光传输损耗不超过1dB/cm(He-Ne激光)的薄膜光波导。用外扩散LiNbO_3平面光波导可制作出高效率、宽带的电光相位调制器。其调制率η与电压之比为0.13V~(-1),50Ω负载时最大带宽为3.2GHz。η=1rad时,每单位带宽的调制功率为0.19mW/MHz。另外,用内扩散工艺制作的Ti:LiNbO_3光波导可制作出集成声光调制器。与块体型声光双稳态器件相比,其体积尺寸以及功耗要小得多。最后,对迄今为止获得的研究结果进行了简要的讨论分析。 相似文献
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