基于夹层结构的偏振无关1×2定向耦合型解复用器的设计

提出一种基于夹层结构的偏振无关1×2定向耦合型解复用器,用于分离1310 nm和1550 nm两个波长.通过合理选择夹层结构芯区的折射率及波导间隙,可以调节同一波长两个正交偏振模的耦合长度相等,实现偏振无关;通过合理选择夹层结构波导宽度,可以使两个波长分别从不同输出波导端口输出,实现解复用功能.运用三维有限时域差分法进...     

酯基功能化离子液体作为钢/钢摩擦副润滑剂的摩擦学性能研究

合成了含酯基官能团的咪唑类离子液体;研究了其物化性质及热稳定性;通过与非功能化的烷基咪唑离子液体对比,在SRV摩擦磨损试验机上研究了常温及高温条件下酯基功能化离子液体作为钢/钢摩擦副润滑剂的摩擦学性能;用SEM和XPS对磨斑表面进行了分析.结果表明:酯基功能化离子液体具有很高的热稳定性;酯基团的引入使得离子液体的黏度有所增加,导致其在较低载荷下的减摩性能降低,但引入的酯基官能团增强了离子液体对金属表面的化学吸附力,使其抗磨性能显著提高,在高载荷下离子液体分解所产生的活性元素氟与摩擦副表面的金属发生摩擦化学反应,生成以氟化亚铁和氧化铁为主体的边界润滑膜,从而降低了摩擦和磨损.同时发现含有TF₂N^-阴离子的功能化离子液体较含有BF^-₄阴离子的功能化离子液体具有更好的抗磨性能;含有较长N-烷基链的功能化离子液体的抗磨减摩性能较好.     

对数平均与高考压轴题

1引言关于两个正数a,b的平均数,《普通高中课程标准实验教科书》中的算术平均与几何平均是我们熟知的两种平均,在中学数学中常见的平均有:（1）A（a,b）=a+b/2为a,b两个数的算术平均;（2）G（a,b）=ab^1/2为a,b两个数的几何平均;     

不同压力下螯合剂浓度在碱性Cu CMP中的影响

We propose the action mechanism of Cu chemical mechanical planarization(CMP) in an alkaline solution.Meanwhile,the effect of abrasive mass fraction on the copper removal rate and within wafer non-uniformity(WIWNU) have been researched.In addition,we have also investigated the synergistic effect between the applied pressure and the FA/O chelating agent on the copper removal rate and WIWNU in the CMP process.Based on the experimental results,we chose several concentrations of the FA/O chelating agent,which added in the slurry can obtain a relatively high removal rate and a low WIWNU after polishing,to investigate the planarization performance of the copper slurry under different applied pressure conditions.The results demonstrate that the copper removal rate can reach 6125 °/min when the abrasive concentration is 3 wt.%.From the planarization experimental results,we can see that the residual step height is 562 ° after excessive copper of the wafer surface is eliminated.It denotes that a good polishing result is acquired when the FA/O chelating agent concentration and applied pressure are fixed at 3 vol% and 1 psi,respectively.All the results set forth here are very valuable for the research and development of alkaline slurry.     

银催化重氮酯与苯胺,亚胺的三组分反应（英文）

过渡金属催化重氮化合物的卡宾转移反应是有机合成反应的重要研究对象.在这一类反应中,包括环丙烷化、X-H(X=C,N,O,Si,S)插入以及羰基/亚胺叶立德环加成等反应得到了广泛的研究.2003年,胡文浩和Doyle课题组报道了一种新型的反应,即亚胺捕获看似不稳定的氨基叶立德中间体,合成具有高非对映选择性的1,2-二胺化合物.之后,他们又报道了一系列有关氨基叶立德和氧叶立德的研究,与不同的捕获剂,如酮,醛,β,γ-不饱和α羰基羧酸酯和偶氮二酸酸酯等发生反应,生成多种多样的产物类型,基本上都是采用Rh(Ⅲ)催化剂.迄今为止,没有采用其他类型的过渡金属催化剂的报道.最近,本课题组研究发现,银盐可以作为重氮化合物卡宾转移反应的催化剂,实现了重氮化合物与醛的[2+1]环加成反应合成环氧乙烷类化合物,及重氮化合物与醛、炔/烯三组分的[2+2+1]环加成反应合成二氢呋喃/四氢呋喃类化合物,在这些反应中,加入不同的配体可以调节Ag(Ⅰ)催化剂的催化活性,从而实现不同的反应过程.基于此,本文将探索Ag(Ⅰ)做催化剂催化重氮化合物与芳基胺及亚胺的三组分反应合成一系列1,2-二胺类化合物.研究发现,采用AgOTf/双噁唑啉配体配体作为催化剂组合,可以顺利地实现Ag(Ⅰ)催化重氮酯、芳基胺及亚胺的三组分反应.尝试了不同的配体,包括膦配体、卡宾配体以及双噁唑啉配体,最后发现,双噁唑啉配体配位的Ag(Ⅰ)催化反应的效果最好,极大地提高了Ag(Ⅰ)催化剂的催化活性,其具体的作用机理值得进一步研究.反应中,Ag(Ⅰ)催化剂的Lewis酸性对二胺产物的非对映选择性有较大的影响.其中,在对硝基苯基亚胺的反应中,产物的非对映选择性很高,大于铑催化反应的结果;而在其他类型亚胺的反应中,反应的非对映选择性较差.另一方面,由于Ag(Ⅰ)的Lewis酸性,反应过程中发生亚胺与芳基胺的氨基交换反应,从而导致氨基交换的二胺副产物的生成.本文对不同反应底物的各种效应进行了比较详细的研究.     

激光拔甲30例报告

比较CO2激光治疗和常规手术治疗,激光疗效满意。激光治疗方法简便,损伤小,安全,术后反应轻。     

防蓝光显示技术进展

近年来,蓝光对人眼的危害逐渐被人们所认识和关注。蓝光危害风险不仅存在于照明光源中,还存在于显示产品中。减少蓝光的含量是降低蓝光危害的直接方法。而蓝光是显示产品光谱中必不可少的组成波段,同时也是满足显示产品色温和色域需求,完美展现丰富多彩的真实世界的必需颜色。因此如何在不降低正常显示标准下,发展抗蓝光危害的技术是显示技术的一个重要研究方向。目前,国内外众多研究者围绕蓝光生物安全性及防蓝光显示技术进行了较深入的研究。本文首先阐述了蓝光危害的作用机制、危害分类和评估方法、标准,分析了显示产品中影响蓝光危害程度的多种影响因素。介绍了目前防蓝光显示技术新进展,并对防蓝光显示技术进展进行了总结和展望。     

PbS插层K2Ti4O9催化剂：制备及光催化制氢活性

利用高温固相反应、离子交换、层间插入反应和硫化处理制备了PbS插层的K2Ti4O9催化剂。利用XRD、TEM、SEM、XRF、PL和紫外-可见漫反射光谱对催化剂进行了表征,考察了催化剂紫外光和可见光光催化制氢活性。结果表明,制备的PbS插层K2Ti4O9催化剂对可见光的吸收范围较宽,其吸收边界约为710 nm,在紫外光和可见光下3 h累积产氢量可达到115.46 mmol.gcat-1和0.92 mmol.gcat-1,与CdS插层K2Ti4O9催化剂相比具有更高的催化活性。     

红外光谱中溶剂效应机理研究(IV) 溶剂受电子位阻效应常数的确定

In the previous paper(Ⅲ), the following equation of solvent effect in organic chemistry was suggested:
Ei=a﹒Ai(1-Va﹒VAi)+d﹒Di(1-Vd﹒VDi)+E0
Where Ei is a physical or chemical property of the substrate in the solvent i and E0 is that in n-hexane. Ai and Di are constants of electron acception and donation effect of the solvent i respectively. VAi and VDi are constants of electron acception and donation space effect of the solvent i respectively, a and d are the sensitivities of E of the substrate vs the change of Ai and Di. Va and Vd are the constants of electron acception and donation space effect of the substrate respectively. In IR spectra E could be substituted by the wavenumber(ν). Ai and VAi have been established for 18 organic solvents (n-C6H14, n-C7H16, cyclohexane, CCl4, Ph-Me, ClCH:CCl2, Et2O, CHCl3, C6H6, CH2Cl2, ClCH2CH2Cl, Ph-NO2, THF, 1,4-dioxane, Et-NO2. MeCO2Et, Me-NO2, Me-CN).
In this paper Di and VDi have been established for these solvents. The equation also has been tested by the νC-X(X=Cl, Br) of five alkylhalides (t-BuCl, n-C5H11Cl, t-BuBr, Et-Br, EtC(H)BrMe) and νC=O of three carboxyl compounds (t-BuCOMe, Me2CO, MHB) and seven organotin compounds [(Ph2MeSiCH2)3SnO2C-C6H4-X-p(X=H-, CH3-, CH3O-, NO2-, F-. Cl-, I-)].
The relationship (ν=ρ﹒σ+ν0) between νC=O of organotin compounds and Hammett constants(σ) of the substituted groups in different solvents was studied and a relationship betweenρ and Ai, VAi, Di, VDi of the solvents was found.