Mo2C膜表面粗糙化规律的计算机模拟

引入晶粒边界修正,改进了Mo2C膜表面粗糙化物理模型,将DT2模型推广到包括有温度的情况,对Mo2C膜表面形态进行计算机模拟并统计模拟图的高度分布,确定表面粗糙度随沉积时间和基底温度的变化规律。结果表明：引入晶粒边界修正大大促进了理论与实验结果的一致,Mo2C膜表面粗糙化属快速粗造化,粗造度随基底温度升高而非线性地增大。     

环糊精诱导二苯甲酮敏化α－溴代萘室温磷光分析法

环糊精诱导二苯甲酮敏化α－溴代萘室温磷光分析法谢剑炜，许金钩，陈国珍，刘长松（厦门大学化学系现代分析化学研究所，厦门，３６１００５）（山西大学化学系，太原）关键词二苯甲酮，敏化室温磷光，α－溴代萘，环糊精胶束、环糊精等有序介质能有效地使能量给体和受体...     

自由基活性聚合及其最新进展

本文介绍了实现自由基活性聚合的动力学、热力学条件及可能的途径。在这些条件下自由基保持稳定的低浓度，增长链自由基与休眠种处于动力学平衡动态，可有效地控制聚合反应，使聚合反应具有聚合物分子量随反应时间、单体转化率成线性增长关系及所得聚合物分子量分布较窄的特征，并且在加入第二单体时可继续生成嵌段共聚物。     

羧基化石墨烯基导电聚吡咯复合材料的超电容性能

制备了羧基化石墨烯基聚吡咯复合物(CG/ppy）修饰电极,用循环伏安法和交流阻抗法研究了修饰电极的电化学行为,并对修饰电极进行了恒流充放电以及循环稳定性测试。 实验结果表明,CG/ppy显著提高了玻碳电极在电解液中的电流响应,降低了玻碳电极在电解液中的电阻,修饰电极的比电容可达584 F/g,且经过1000次循环后比电容仍保持初始值的81%。 首次将羧基化石墨烯基聚吡咯应用于电化学领域,证实了CG/ppy修饰电极在该领域中有潜在的应用价值。     

光化学荧光分析法研究(Ⅵ)——混合色素的光化学速差动力学荧光分析法测定

以光化学荧光衍生化法测定苋菜红(AM)和直接耐晒嫩黄5GL(DY)2种偶氮色素,研究了同时测定这2种色素混合物的光化学速差动力学荧光分析的原理和方法。AM和DY的浓度分别在0～220ng/mL和0～120ng/mL范围内呈良好的线性关系,相关系数皆为0.999,检出限为0.64ng/mLAM和0.045ng/mLDY。相对标准偏差分别为1.6%(n=8)和1.8%(n=7)。该法用于人工合成混合样品的测定效果良好。     

分子电子学的新进展

分子尺度电子学通过构筑基于微尺度电极和单个分子或者少量分子聚集体的"电极-分子-电极"结，研究跨越分子的电荷输运性质.它将分子本征化学特性与器件构筑相结合，考察分子的理化特性与电荷输运的构效关系，揭示微尺度的量子输运动力学原理，并探索基于分子的功能电子器件.是一个集化学、物理学与微电子学为一体的交叉学科.总结整理了分子电子学近些年在器件制备、输运机理及应用方面部分有代表性的进展.     

溶剂热法制备Ag/TiO_2纳米材料及其光催化性能

以乙醇为溶剂,钛酸四丁酯为前驱体,用溶剂热法制备了Ag表面修饰的负载型纳米二氧化钛光催化剂.利用X射线衍射(XRD)、N2吸附-脱附(BET)、透射电子显微镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS)、紫外-可见(UV-Vis)光谱等技术对其进行了系统的表征,以亚甲基蓝(MB)溶液的脱色降解为模型反应,考察了不同Ag含量样品的光催化性能.结果表明:用溶剂热法制备的样品中TiO2皆为锐钛矿相,金属Ag颗粒沉积在TiO2表面,粒径为2nm左右,比表面积较溶胶凝胶法制备的样品大大增加,最高可达151.44m2·g-1;UV-Vis光谱和光催化实验表明:Ag修饰使TiO2对光的吸收能力大大增强,吸收带边红移至可见光区,亚甲基蓝在该复合材料上的光催化降解反应遵循一级反应动力学模型;溶剂热法制备样品的光催化性能明显好于溶胶凝胶法制备的样品,在紫外光和可见光下,Ag摩尔分数为5%的样品表现出最佳的光催化活性.     

多孔电极三相界面形态的研究

研究了多孔气体电极在电池反应中形成的三相界面的形态及其变化规律。传统的电极多采用部分浸没的使用方式,不利于观察。笔者通过改变传统的电极安装方式,将电极在纵向的距离加大,可以任意调节电极纵向高度,有利于观察三相界面的形成形态。通过锌空气电池实验,总结了三相界面形态的形成以及随着反应时间的变化规律,并对三相界面形态的变化使电极内电解液的电导发生变化进而影响电池内电阻进行了理论分析,通过对比实验给出多孔电极润湿性和孔隙结构对三相界面形态的影响。     

聚丙烯片基不同气氛下等离子体改性及DNA原位合成研究

分别采用氮气／氢气、氨气和氧气三种不同气氛的等离子体处理了聚丙烯片基,先使其表面接枝功能性基团,然后分别进行寡核苷酸原位合成．光电子能谱(XPS)证实了在其表面分别接枝了大量氨基和其它含氮基团．荧光扫描分析并比较了在三种方法处理的聚丙烯片基上合成的寡核苷酸与靶序列杂交后的荧光强度．结果表明：三种方法处理的聚丙烯片基都可用于DNA原位合成,但从处理工艺和荧光分析结果来看,以氮气／氢气等离子体处理的聚丙烯片基最佳。