新型衍射光学元件实现三维立体显示的原理及设计

基于部分像素衍射屏的原理,提出一种结构更为简单,更易实现的新型衍射元件（ＤＯＥ０。给出这种衍射元件的设计方法,与以往的衍射屏进行了比较。并用人工拍摄和机器光刻两种制作出演示ＤＯＥ。给出了验证其有效性的设计实例。     

激光与分子相互作用制备量子态

激光与三能级分子相互作用时分子的状态依赖于激光的位相和振幅,针对具体模型制备具有确定测量几率的量子态     

一种三维全息图的数字化实现方法

提出一种实现三维显示的新方法,从两步法彩虹全息基本原理出发,通过分区域分幅的方式对多视角图形的波前进行数字化编码,获得夫琅和费光场分布,在位相型硅基液晶空间光调制器上按视角顺序输入该信息,利用透镜的傅里叶变换特性再现多视角子图像,干涉法逐区域拼接获得完整三维图像.最后通过实验获得了三维图像样品,验证了该方法.本方法可成为三维显示的重要技术手段.     

透平叶片制造技术

柔性制造技术，对于多种品种和中小批量的生产具有相当的灵活性，从前国内外透平叶片制造技术的现状可以看出，柔性制造技术正在逐步取代传统的透平叶片制造方式。本文对透平叶片的结构以及制造工艺进行了分析研究并归纳总结。从理论上将复杂的透平叶片制造分解煤右干个制造单元，通过对若干个制造单元的有机组合，达到其柔性制造的目的，这对于利用我们现有的设备，人员，加速透平叶片的开发制造具有重要的现实意义。     

激光直写技术的研究现状及其进展

介绍了激光直写技术的最新发展现状，系统的功能、结构和工作方式，对当前该系统存在的一些问题进行了归纳分析，探讨了系统的应用范围和今后的发展方向．     

一种二元整形元件激光直写方法的实验研究

为了实现具有复杂位相结构的二元光束整形元件,提出了采用方光点的激光直写系统来逐点光刻浮雕位相结构的方法,通过双远心投影缩微光路获得5-20 μm方点,光点尺寸对应于最小位相单元,从而获得了位相结构的高质量直写.分析了高斯光点和方光点位相单元结构对二元整形元件衍射效率的影响,方形两台阶二元整形元件的+1级衍射效率达到31%,给出了实验结果.     

采用空间光调制器的光变图像光刻系统

用激光干涉型光学头产生干涉条纹,采用空间光调制器(SLM)进行子图输入实现光学可变图像(DVD)的快速光刻,分辨率可达5080dpi,平均运行效率达8O00 dots s(1270pdpi)以上。研制了大幅面激光光刻系统,给出了实验结果。     

纳秒激光刻蚀玻璃基质铬薄膜直写微光栅结构

利用波长为351 nm的半导体泵浦全固态脉冲激光器,采用双光束干涉方法,对蒸镀在石英玻璃衬底上的铬薄膜直接刻蚀形成微光栅结构的方法进行了实验研究.通过实验,分析了激光能量和脉冲数与微光栅结构槽形和一级衍射效率之间的关系.利用光学显微镜和原子力显微镜检测分析光栅槽形,测得槽深为253 nm的最佳微光栅结构,并测得其在波长为532 nm的激光的一级衍射效率为6.5%.结果表明:在激光能量为1 150 μJ时,适当增加曝光脉冲数有利于提高制备光栅的槽深和一级衍射效率.     

多光束纳秒紫外激光制作硅表面微结构

使用波长351 nm的半导体泵浦全固态脉冲激光器作为光源,经过位相光栅分束,形成干涉光场,在硅表面直接刻蚀微结构,制作了周期为0.55 μm,槽深可达55 nm的一维微光栅和周期为1.25 μm,刻蚀深度45 nm的正交微光栅结构.给出了微光栅形貌结构的扫描电子显微镜和原子力显微镜的测量结果.正交微光栅的一级衍射效率在1.8%～6.3%之间.该研究是改变硅表面微结构,优化硅材料特性的一种新方法,并扩展了大功率激光刻蚀在表面微加工领域的应用.     

Be掺杂对InGaAsN/GaAs量子阱性能的提高

InGaAsN/GaAs量子阱中进行铍(Be)元素重掺杂能显著提高其光学性质,并且发光波长发生了红移.X射线衍射摇摆曲线清楚地证实了铍掺杂抑制了InGaAsN(Be)/GaAs量子阱在退火过程中的应力释放.对比退火前,退火后的没有进行铍掺杂的量子阱样品的量子阱的X射线摇摆曲线衍射峰明显向GaAs衬底峰偏移;而对于掺铍的量子阱样品而言,这样的偏移要小很多.