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21.
设计开发了一种无需溶剂,通过热处理固相转化制备沸石咪唑酯骨架材料(ZIFs)的简易方法.该方法无需溶剂及其它预处理,只需将金属源与有机配体固相混合后于低温(200℃)热处理即可实现多孔晶体材料的制备.所合成材料H-ZIF-67为具有方纳石拓扑结构的纳米晶体,与传统方式合成的ZIFs材料一致.粉末X射线衍射(PXRD)分析结果表明产物的晶体结构与标准ZIFs谱图一致.通过扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、N2吸附-脱附分析、热重分析(TGA)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)等手段对合成的材料进行了表征,发现H-ZIF-67材料具有与ZIFs材料类似的特性.该方法经济、高效,摒弃了传统方法合成ZIFs材料周期长、处理过程复杂的弊端,为ZIFs材料的量产提供了新思路. 相似文献
23.
针对当前"电气控制与PLC技术"课程教学存在的课内外脱节、师生进度状态分离的问题,本文利用"雨课堂"微信公众号平台引入线上即时讨论、知识测评和进度反馈机制、教师主动接收反馈信息、及时动态调整教学、并将其融入到CDIO,形成动态反馈调整的改进型CDIO模式.以新兴智造专业群学生进行教学实施,结果表明该模式加强了课内课外学习的连接,增强了师生进度的协调,提高了学生学习主动性,教学效果良好. 相似文献
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基于Monte Carlo方法,跟踪一大批入射粒子的运动,模拟1~10 Me V质子辐照下质子与CuCrZr合金的相互作用,计算出合金的阻止本领、能量传递、能量损失、射程、空位分布情况以及合金的辐照损伤分别与辐照深度、质子能量的关系,通过模拟CuCrZr合金在聚变反应中的工作环境,分析热沉材料的失效机理.研究结果表明:质子能量在1~10 Me V时,质子与CuCrZr合金发生非弹性碰撞,能量损失以电离能损失为主,表现出很好的抗辐照性能;质子在合金中的峰值深度随质子能量增加而增加,且近似指数关系,峰值深度为2~250μm;入射质子能量达到Me V级别时,溅射产额为零,CuCrZr合金可以很好的避免器壁的侵蚀;合金中空位的个数与入射质子能量呈线性关系,合金中空位和质子在合金中的分布具有同步性;质子损伤效率在合金深度方向呈现高斯分布,损伤最大值位置与辐照深度接近,随着入射质子能量的增加损伤效率最大值不断减小. 相似文献
29.
用传统的抛光法精确塑造光学元件 得到低波前畸变是一项极其困难的任务 特别是那些大于cm或小于 cm的光学元件。无论大的还是小的光学元件 波前测量都很困难。 如果可以同时制造和测量光学元件就方便多了。对中等大小的光学元件也很方便 但在处理中等大小光学元件时 有好几种方案。 大阪大学激光工程研究所的Jitsuno及其同事已开发一种技术 可同时进行整形和相位测量 波前畸变很小。这种技术称作激光烧蚀成形 它用nm ArF准分子激光来塑造光学器件 用相移干涉仪现场检测像差。 研究者试图用这种方法来塑造 《激光与光电子学进展》2001,(3):59-60
用传统的抛光法精确塑造光学元件,得到低波前畸变是一项极其困难的任务,特别是那些大于50 cm或小于1 cm的光学元件。无论大的还是小的光学元件,波前测量都很困难。
如果可以同时制造和测量光学元件就方便多了。对中等大小的光学元件也很方便,但在处理中等大小光学元件时,有好几种方案。
大阪大学激光工程研究所的Jitsuno及其同事已开发一种技术,可同时进行整形和相位测量,波前畸变很小。这种技术称作激光烧蚀成形,它用193 nm ArF准分子激光来塑造光学器件,用相移干涉仪现场检测像差。
研究者试图用这种方法来塑造玻璃和石英,但碎片使表面粗糙,难以接受。但对于塑料,烧蚀下的材料与大气中的O2反应,碎片量可忽略不计。把塑料的均匀烧蚀性能与玻璃的优秀光学性能结合,在玻璃基质上镀一层50 μm厚的紫外线干燥树脂。
实验者使用准分子激光器,在直径为5 cm的玻璃-塑料混合基质上产生平面和球面。使用的光通量为45 mJ/cm2,使表面粗糙度降至最低。
激光烧蚀整形可以在安装以后重新形成激光二极管的微透镜,以补偿位置误差
平面的波前畸变开始点为3.0 λ,激光烧蚀后,在90%的表面上降至0.17 λ。球面开始点为2.5 λ,用整形法产生波前少于0.2 λ的非球面部件。激光器在17 Hz下操作,过程耗时4小时。一台性能良好的标准抛光机要花费6小时方能使玻璃基质达到同样的水平。
激光烧蚀整形能达到的精确度和表面粗糙度使其在通用光学器件方面有广泛用途,亦可用于折射光学器件的背面整形,可能特别适用于激光二极管的微透镜或单模光纤,因为在装配以补偿位置误差后,它还可以重塑表面。
研究者发表其结果后,一直在这一领域进行实验。因为在激光二极管中有波前误差,转而使用Shack-Hartman传感器,这种传感器在聚甲基丙烯酸酯中产生的表面波纹更加敏感。最近,他们借助一台新的脉冲CO2激光器,成功地用烧蚀法平滑表面。经证明单模光纤更容易,但表面粗糙度仍不令人满意。 相似文献
30.
日本ウシオ电机株式会社批量生产标准样机 开发了一种重复率kHz输出 W的ArF准分子激光器。其稳定性±.%线宽. pm脉宽ns 性能达到世界最高水平。 ArF激光波长为 nm 可用作生产线幅.~. μm半导体的光刻用光源。 该公司还利用相同的ArF激光器 在世界上首次实现重复率 kHz输出W的基本性能。 《激光与光电子学进展》2001,(4):64
日本ウシオ电机株式会社批量生产标准样机,开发了一种重复率2 kHz、输出10 W的ArF准分子激光器。其稳定性±0.25%、线宽0.4 pm、脉宽50 ns,性能达到世界最高水平。
ArF激光波长为193 nm,可用作生产线幅0.10~0.13 μm半导体的光刻用光源。
该公司还利用相同的ArF激光器,在世界上首次实现重复率4 kHz、输出20 W的基本性能。
(以上由江涛供稿) 相似文献