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61.
赵伟  邵军力  陈国友  刘荣 《电信科学》1999,15(12):15-17
本介绍了传真机通过Interent传送信息的实现,包括其技术原理,典型应用等。  相似文献   
62.
军事防御、灾害监测与救援等危险/恶劣环境监测是无线传感器网络的典型应用。在此面向危险/恶劣环境监测需求,设计并构建移动多Sink无线传感器网络监测系统,实现环境信息感知、便携式移动指挥、事件定位、移动用户生理监护、多模态(语音、图像、文字等)交互等功能。实验测试结果表明,当网络中存在2个移动Sink节点时,网络平均延时小于100 ms,网络丢包率小于6%,可满足网络实时性要求不高的应用。  相似文献   
63.
基底亚表面裂纹对减反射膜激光损伤阈值的影响   总被引:1,自引:2,他引:1  
利用化学沥滤技术,分析了亚表面裂纹对基底表面和减反射膜激光损伤阈值(LIDT)的影响。通过去除或保留研磨裂纹,获得了亚表面裂纹数密度有明显区别的两类基底。为了凸出亚表面裂纹层的作用,基底采用化学沥滤去除另外一种可能的影响因素,即再沉积层中的抛光杂质。然后采用电子束蒸发镀制HfO2/SiO2减反射膜。355nm激光损伤阈值测试结果和损伤形貌分析证实了基底亚表面裂纹对减反射膜抗激光损伤能力的负面影响。根据熔石英基底抛光表面的烘烤现象,提出了亚表面缺陷影响膜层激光损伤的耦合模型。  相似文献   
64.
提出了屏蔽电缆转移阻抗时域测量的一种新方法。建立的时域测量系统由高压脉冲源、三同轴装置、阻抗匹配网络、数字存储示波器以及同轴衰减器组成,能够通过时域测量获得电缆表面转移阻抗曲线,同时可直接评估电缆芯线的电磁脉冲响应。与频域测量获得的转移阻抗比较表明,时域测量是准确的;建立的参数化模型能够准确估计屏蔽电缆的电磁脉冲响应,多组验证数据表明,模型使用效果良好。  相似文献   
65.
拉曼-纳斯衍射声光Q开关的实验研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
实验研究了拉曼-纳斯(R-N)衍射的声光相瓦作用长度与声波光波参数之间的关系,确定了最佳声光相互作用长度.在此基础上,分别设计以水和TeO2晶体为声光介质的R-N衍射Q开关器件,测量了器件的衍射效率、衍射角和插入损耗等参数.应用TeO2晶体开关器件调制长脉冲Nd:YAG/KTP激光器,当重复频率为10 kHz时得到了脉...  相似文献   
66.
线性共蒸法制备渐变折射率薄膜的光学特性分析   总被引:3,自引:0,他引:3  
利用德鲁德理论和洛伦兹一洛伦茨理论,从介电常数分析人手,探讨了混合介质膜的折射率表达式,给出利用双源共蒸法镀制的渐变折射率薄膜在混合介质膜的总沉积速率恒定、两种膜料的单分子大小近似相等和沉积速率均为线性变化时的折射率表达式;从正变和负变、单周期和多周期、不同的周期数和不同的单周期厚度几个方面对渐变折射率薄膜的光学特性进行了模拟分析和讨论;对渐变折射率薄膜的实现、应用以及实验制备中有待进一步解决和处理的问题进行了讨论。  相似文献   
67.
设计一种峰值保持电路,可用于高重频、窄脉冲DPL激光的脉冲能量测量.该电路主要由电荷积分电路、低通滤波电路、峰值保持电路及时间延迟电路组成.给出典型的实验波形和测试结果.实验结果表明,电路的线性动态范围约140倍.使用该检测电路可有效降低后端A/D转换器的采样频率,减小数据量,增强电路的稳定性,降低系统成本.  相似文献   
68.
三种不同后处理方式对ZrO2薄膜性能的影响   总被引:1,自引:1,他引:1  
王聪娟  晋云霞  邵建达  范正修 《中国激光》2008,35(10):1600-1604
采用有氧热处理、激光预处理和离子后处理三种方式对电子束蒸发(EBE)制备的单层ZrO2薄膜进行了后处理,并分别对样品的光学性能和抗激光损伤阈值(LIDT)特性进行了研究.实验结果表明,热处理方式可以有效排除膜层内吸附的水气,弥补薄膜制备过程中的氧损失,使得光谱短移、吸收减小、损伤阈值增高;激光预处理过程可以在一定程度上减少缺陷、提高损伤阂值,但对膜层的光谱和吸收情况没有明显的改善作用;而离子后处理能够提高膜层的堆积密度、减少缺陷、降低吸收从而提高损伤阚值.由于三种方式处理机制不同,在实际应用中应根据膜层的性能选择合适的处理方式.  相似文献   
69.
针对人工蜂群算法存在的收敛速度较慢,易陷入局部最优解的问题,提出一种改进的人工蜂群优化算法,并应用于数字图像相关的整像素位移搜索中。该算法借助相关度值的变化来动态调整跟随蜂的搜索步长,平衡其全局和局部的搜索能力;侦察蜂利用遗传算法的交叉运算产生新解,改善全局搜索能力。实验结果表明,改进的算法能有效地提高收敛速度,改善整像素位移搜索的性能。  相似文献   
70.
研究了电场在介质膜光栅结构中的增强效应对其抗激光损伤阈值的影响.使用傅里叶模式方法计算了电场在介质膜光栅浮雕结构内的分布.数值分析表明:电场在介质膜光栅中增强的最大值为入射光的2倍,其最大的位置出现在相对于入射光对面的光栅槽侧壁。实验测试介质膜光栅样品在1 064 nm和12 ns, 51.2°和TE偏振光入射时,其抗激光损伤阈值为6.61 J/cm2.对损伤形貌进行扫描电镜精确分析,发现介质膜光栅的初始损伤产生于电场在介质膜光栅内增强最大的位置处.  相似文献   
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