用e+e－→h′s反应中类双喷注事例研究部分子末态的色联接

借助JETSET事例产生器对e⁺e^－→h′s反应中的类双喷注事例进行研究.研究发现,在QCD微扰与非微扰的界面上,部分子系统的色中性流和色分离单态两种不同色联接方式导致了强子末态某些可观测量的显著差别.因此,它们可以用于判别部分子的色联接方式.     

Nd:YAG纳米粉体的制备和光谱性质

采用共沉淀方法，以碳酸氢铵（NthHC03）为沉淀剂制备得到Nd：YAG前驱物，将其在不同的温度下煅烧并采用红外光谱（FT-IR）、X射线衍射（XRD）、透射电镜（TEM）、荧光光谱分析等技术对样品进行了表征。在900～1000℃下煅烧前驱物，出现YAP和YAM中间相并对共沉淀法中间相出现的原因进行了分析；获得纯YAG晶相的煅烧温度为1100℃，晶粒粒度分布约为40～80nm，具有良好的分散性。光谱研究表明Nd：YAG纳米粉体的发光性能良好，其红外光谱及荧光光谱与单晶无明显的差异。     

EADS正在研制短脉冲多普勒激光雷达

据《国际飞行》2 0 0 3年11月报道,EADS正在研制一种短脉冲多普勒激光雷达系统,据悉,该系统能够探测洁净空气中的大气湍流和飞机尾流旋涡。该项工作是空中客车公司的Awiator(飞机机翼和先进技术操作)项目的继续。Awiator项目包括,利用激光雷达测量机载尘粒反射的激光脉冲的多普     

Kuramoto-Sivashinsky与Karda-Parisi-Zhang模型中生长界面分形特性研究

在（2＋1）维情况下，利用数值模拟研究了Kuramoto-Sivashinsky (K-S)与Karda-Parisi-Z hang (KPZ)模型所决定的非平衡态界面生长演化过程.结果表明，KPZ与K-S模型都表现出明 显的时间和空间标度特性.相对于KPZ模型而言，K-S模型所对应的表面具有更明显的颗粒特 征，当生长时间较长时，生长界面呈现蜂窝状结构.通过数值相关分析得到了生长界面的粗 糙度指数、生长指数和动态标度指数等参数.从两种模型对应的表面形貌特征和表面参数来 看，在(2+1)维情况下，KPZ与K-S模型所决定的表面具有完全不同的动态标度行为，属于不 同的两类物理模型. 关键词： Kuramoto-Sivashinsky (K-S)模型 Karda-Parisi-Zhang(KPZ)模型 分形 数值模拟     

Effects of oxygen partial pressure on optical absorption edge and UV emission energy of ZnO films

ZnO, with a band-gap of 3.37 eV and a large exciton binding energy (about 60 meV) at room temperature, is a promising material for optoelectronic devices, field- emission displays, and gas sensors. Recently, the interest in short wavelength display device is on the increase. In this regard, ZnO is a promising material[1-6]. High quality ZnO films have been prepared by many methods such as sputtering[7], reactive thermal and electron-beam evaporation[8], pulse laser deposition[9], chemical v…     

磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的模型分析

阐述了磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的机理;探讨了磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的理论模型,给出了渐变折射率薄膜的折射率与反应气体分压的关系,在一定的沉积参数下,由要得到的膜层折射率随膜层几何厚度的变化规律可推导出反应气体分压比随时间的变化规律;最后以制备折射率线性变化的薄膜为例说明了如何推导得到反应气体分压比随时间的变化规律. 关键词： 渐变折射率 磁控反应溅射 模型     

Wideband Antireflection Film Fabricated by Glancing Angle Deposition

Graded-index ZrO2 films has been fabricated on K9 glass by glancing angle deposition. Because the index mismatch at the interface has been reduced, the film results in wideband high-transmission antireflection. From 400nm to 1200nm, the film reflection is lower than 0.8% and the lowest value is 0.2% at 432nm.     

光波在具有柱状结构的双折射薄膜中的传输特性

根据电磁场理论的矩阵分析方法推导了光波在具有柱状结构的双轴薄膜中的反射系数、透射系数和相位关系等光学特性.这些关系包含了界面处的多点反射,可以推广到一般的各向异性的多层膜系统.给出了各向同性入射媒质-双轴各向异性膜层-各向同性基底薄膜系统的计算结果,验证了该计算方法的可行性,为双折射多层膜结构及其器件的理论分析和设计提供了理论参考.