全文获取类型
收费全文 | 1154篇 |
免费 | 271篇 |
国内免费 | 139篇 |
专业分类
化学 | 227篇 |
晶体学 | 16篇 |
力学 | 65篇 |
综合类 | 17篇 |
数学 | 92篇 |
物理学 | 506篇 |
无线电 | 641篇 |
出版年
2024年 | 6篇 |
2023年 | 26篇 |
2022年 | 38篇 |
2021年 | 19篇 |
2020年 | 34篇 |
2019年 | 29篇 |
2018年 | 32篇 |
2017年 | 22篇 |
2016年 | 26篇 |
2015年 | 32篇 |
2014年 | 63篇 |
2013年 | 49篇 |
2012年 | 45篇 |
2011年 | 52篇 |
2010年 | 69篇 |
2009年 | 99篇 |
2008年 | 86篇 |
2007年 | 78篇 |
2006年 | 84篇 |
2005年 | 127篇 |
2004年 | 66篇 |
2003年 | 36篇 |
2002年 | 36篇 |
2001年 | 32篇 |
2000年 | 32篇 |
1999年 | 36篇 |
1998年 | 29篇 |
1997年 | 37篇 |
1996年 | 32篇 |
1995年 | 21篇 |
1994年 | 33篇 |
1993年 | 24篇 |
1992年 | 16篇 |
1991年 | 25篇 |
1990年 | 28篇 |
1989年 | 32篇 |
1988年 | 3篇 |
1987年 | 7篇 |
1986年 | 4篇 |
1985年 | 3篇 |
1984年 | 2篇 |
1983年 | 3篇 |
1982年 | 3篇 |
1981年 | 3篇 |
1980年 | 2篇 |
1975年 | 1篇 |
1965年 | 1篇 |
1957年 | 1篇 |
排序方式: 共有1564条查询结果,搜索用时 281 毫秒
991.
992.
设计并镀制了193nm Al2O3/MgF2反射膜,对它们在空气中分别进行了250—400℃的高温退火,测量了样品的透射率光谱曲线和绝对反射率光谱曲线.发现样品在高反射区的总的光学损耗随退火温度的升高而下降,而后趋于饱和.采用总积分散射的方法对样品在不同退火温度下的散射损耗进行了分析,发现随着退火温度的升高散射损耗有所增加.因此,总的光学损耗的下降是由于吸收损耗而不是散射损耗起主导作用.对Al2O3材料的单层膜进行了同等条件的退火处理,由它们光学性能的变化推导出它们的折射率和消光系数的变化,从而解释了相应的多层膜光学性能变化的原因.反射膜的反射率在优化联系、镀膜工艺与退火工艺的基础上达98%以上.
关键词:
193nm 反射膜
退火
光学损耗
吸收 相似文献
993.
近年来,知识产权越来越被重视,知识产权及相关保护已成为一个迅速发展和增长的新兴产业,日本的小泉政府甚至提出了以知识产权立国的号召,而中国的知识产权保护虽然有了比较系统的法律法规,但无论是司法实践还是企业的自发运用,我们都有还处于比较幼稚的摸索摹仿阶段,总结和分析一些特点,对于我国知识产权保护市场,特别是在此有着巨大经济利益的半导体领域也许不无裨益, 相似文献
994.
995.
ZrO2/SiO2多层膜由相同沉积条件下的电子束蒸发方法制备而成, 通过改变多层膜中高(ZrO2)、低(SiO2)折射率材料膜厚组合周期数的方法,研究了沉积 在熔石英和BK7玻璃 基底上多层膜中残余应力的变化. 用ZYGO光学干涉仪测量了基底镀膜前后曲率半径的变化, 并确定了薄膜中的残余应力. 结果发现,该多层膜中的残余应力为压应力,随着薄膜中膜厚 组合周期数的增加,压应力值逐渐减小. 而且在相同条件下,石英基底上所沉积多层膜中的 压应力值要小于BK7玻璃基底上所沉积多层膜中的压应力值. 用x射线衍射技术测量分析了膜 厚组合周期数不同的ZrO2/SiO2多层膜微结构,发现随着周期数增 加,多层膜的结晶程 度增强. 同时多层膜的微结构应变表现出了与所测应力不一致的变化趋势,这主要是由多层 膜中,膜层界面之间复杂的相互作用引起的.
关键词:
2/SiO2多层膜')" href="#">ZrO2/SiO2多层膜
残余应力
膜厚组合周期数 相似文献
996.
基于SOI技术对器件特性的良好改善和槽栅MOS器件在深亚微米领域抑制短沟道效应和抗热载流子效应方面的显著优势,对SOI槽栅CMOS器件在0.1 μm尺寸下的电学特性进行了模拟仿真,仿真结果表明,基于SOI衬底的槽栅CMOS器件除了拥有槽栅器件独特优势之外,还很好地抑制了栅极漏电和阈值偏高等体硅槽栅MOS所具有的特性缺陷,得到了更加理想的实验结果. 相似文献
997.
998.
Negative Dispersion Mirrors in Ta2O5/SiO2 for Femtosecond Ti:Sapphire Lasers by Using Gires-Tournois Interferometers
下载免费PDF全文
![点击此处可从《中国物理快报》网站下载免费的PDF全文](/ch/ext_images/free.gif)
We design and experimentally demonstrate some negative dispersion mirrors with optimized Gires-Zournois interferometers. The mirror structure is composed of 38 alternating Ta2 O5 and SiO2 layers and could be regarded as two sections: high-reflectivity section consisting of a series of quarter-wavelength optical thickness stacks and negative-dispersion section consisting of only 13 layers. The designed mirrors exhibit the expected performance.These mirrors were fabricated by using ion beam sputtering. By adopting such mirrors, dispersion of a modelocked femtosecond Ti:sapphire laser has been compensated for mostly. With two series of the mirrors, 32 fs and 15 fs pulses have been obtained respectively. 相似文献
999.
电控双折射盒中指向矢分布的计算 总被引:13,自引:6,他引:7
在液晶弹性理论的基础上计算了电控双折射盒中的指向矢分布和延迟量。讨论了弱锚定边界条件对指向矢分布和延迟量的影响。本文结果对电控双折射盒的设计有一定的参考价值。 相似文献
1000.