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981.
外磁场作用下液晶中向列序的计算 总被引:1,自引:0,他引:1
在格胞理论的基础上计算外磁场作用下液晶中的向列序,考虑分子短程关联后,序参数和内能对磁场强度的依赖关系与计算机模拟结果较好地符合。克服了平均场理论遇到的困难。 相似文献
982.
983.
简述了电子镇流器的工作原理,分析了几种电容器失效的模式并进行了机理推测,通过试验分析和实体分析,得出失效的主要原因有:电容器的Res值偏大、纹波电流过载、有害杂质的破坏、铝箔变性、阴极箔水合作用及电网电压异常波动等因素,最后提出了改进电容器性能的措施。 相似文献
984.
985.
986.
WDM技术在无源光网络中的应用 总被引:2,自引:0,他引:2
WDM技术是一种解决光接入网带宽需求急剧增长的有效的宽带接入技术。本文介绍了无源光网络的特点和WDM技术的优势,并对现有光接入网引入WDM的关键问题和可行技术进行探讨。 相似文献
987.
988.
设计并镀制了193nm Al2O3/MgF2反射膜,对它们在空气中分别进行了250—400℃的高温退火,测量了样品的透射率光谱曲线和绝对反射率光谱曲线.发现样品在高反射区的总的光学损耗随退火温度的升高而下降,而后趋于饱和.采用总积分散射的方法对样品在不同退火温度下的散射损耗进行了分析,发现随着退火温度的升高散射损耗有所增加.因此,总的光学损耗的下降是由于吸收损耗而不是散射损耗起主导作用.对Al2O3材料的单层膜进行了同等条件的退火处理,由它们光学性能的变化推导出它们的折射率和消光系数的变化,从而解释了相应的多层膜光学性能变化的原因.反射膜的反射率在优化联系、镀膜工艺与退火工艺的基础上达98%以上.
关键词:
193nm 反射膜
退火
光学损耗
吸收 相似文献
989.
近年来,知识产权越来越被重视,知识产权及相关保护已成为一个迅速发展和增长的新兴产业,日本的小泉政府甚至提出了以知识产权立国的号召,而中国的知识产权保护虽然有了比较系统的法律法规,但无论是司法实践还是企业的自发运用,我们都有还处于比较幼稚的摸索摹仿阶段,总结和分析一些特点,对于我国知识产权保护市场,特别是在此有着巨大经济利益的半导体领域也许不无裨益, 相似文献
990.