高光洁度玻璃基片的表面散射和体散射测量

提出了一种利用总积分散射（TIS）测量K9玻璃基片表面散射和体散射的实验方法。首先采用磁控溅射技术在基片表面沉积厚度为几十nm的金属Ag薄膜,然后将基片的表面和体区分开考虑,通过TIS测得了基片上下表面的均方根粗糙度, 进而求得基片的总散射和表面散射,最后计算得到了体散射。分别利用TIS和原子力显微镜（AFM）测量了3个样品上表面所镀Ag膜的均方根粗糙度,两种方法所得的均方根粗糙度的数值相差不明显,差值分别为0.08,0.11和0.09 nm, 表明TIS和AFM的测量结果相一致。利用该方法测得3块K9玻璃基片的总散射分别为6.06×10-4,5.84×10-4和6.48×10-4,表面散射介于1.25×10-4~1.56×10-4之间,由此计算得到的体散射分别为3.10×10-4,3.30×10-4和3.61×10-4。     

激光输出特性对介质薄膜损伤的影响

采用输出特性不同的几种激光器测量了多种介质光学薄膜的破坏阈值,并对典型的破坏过程进行显微分析.研究了激光输出特性的不同对薄膜损伤效果的影响在相同能量输出的条件下,脉冲激光比连续激光更容易形成有效的破坏;连续激光则能通过能量积累而更容易对作用目标造成烧蚀破坏.     

激光输出特性对介质薄膜损伤的影响

 采用输出特性不同的几种激光器测量了多种介质光学薄膜的破坏阈值,并对典型的破坏过程进行显微分析。研究了激光输出特性的不同对薄膜损伤效果的影响:在相同能量输出的条件下,脉冲激光比连续激光更容易形成有效的破坏;连续激光则能通过能量积累而更容易对作用目标造成烧蚀破坏。     

正交相AlPO4-5相转变的红外光谱研究

80年代初美国联合碳化物公司(U.C.C)Tarry town 技术中心开发出一系列新型磷酸铝分子筛[1,2],其中的AIPO4-5是分子筛中研究最多、应用最广、最为典型的一种[37].     

优质KTP晶体腔内有效倍频效率及损耗的研究

本文报道一种高效内倍频Ｎｄ：ＹＶＯ４／ＫＴＰ激光器的输出特性以及优质ＫＴＰ晶体腔内有效倍频效率和损耗的研究结果。在泵浦功率为１９Ｗ时获得了５．８５Ｗ的连续绿光输出,相应的光－光转换效率为３０．８％。研究表明,优质ＫＴＰ晶体腔内有效倍频效率超过７０％,最高达到７４．１％;而其损耗仅为０．００７ｃｍ＾－１。     

一种基于肤色和模板的人脸检测方法

提出了一种基于肤色区域和多种模板结合的人脸检测方法,该方法能在复杂背景下很好的检测出人脸位置并且不受人脸旋转或侧转的限制本文方法比传统的方法检测速度快、漏检率低,可以在实时系统中应用。     

HfO2中ZrO2含量对266nm HfO2/SiO2多层膜反射率的影响

用两种不同纯度的HfO2材料与同一纯度的SiO2材料组合,沉积Λ／4规整膜系(HL)^11H形成266nm的紫外反射镜,发现反射率相差0．7％左右。用X光电子能谱法分析了高反膜中表层HfO2中的成分,发现ZrO2的含量相差一个数量级左右。为确定形成这种差别的原因,用辉光放电质谱法测定了这两种HfO2材料中锆(Zr)及其钛(Ti)、铁(Fe)的含量,发现Zr是其中的最主要的杂质,两种HfO2材料中Zr含量有一个数量级的差别。说明在266nm波段,HfO2中ZrO2的含量会对HfO2／SiO2高反膜的反射率造成影响。根据HfO2单层膜的光谱曲线,推算出了这两种材料的消光系数的差别,并用Tfcalc膜系设计软件进行理论和镀制结果的模拟,得到与实验测试一致的结果。     

导数光谱Kalman滤波法校正ICP—AES光谱干扰的研究

本文以导数光谱Ｋａｌｍａｎ滤波法研究了ＩＣＰ－ＡＥ可典型的光谱干扰，考察了该法的检出限和准确度，探讨了该法的影响因素，结果表明，该法能有效地消除和校正光谱干扰，降低检出限，结果准确可靠。     

注频锁相振荡器阵列的低相位噪声信号产生方法

提出了注频锁相振荡器阵列的拓扑结构及相位噪声模型,根据该模型简要推导了注频锁相振荡器阵列相位噪声的计算公式并对整个阵列的相位噪声进行了分析,完成了1×4单元注频锁相振荡器阵列相位噪声的测试,测试结果与理论分析吻合,最终得出了注频锁相振荡器阵列的低相位噪声信号产生方法。