SCDMA系统上行联合检测Midamble设计与性能仿真

SCDMA系统在进行信道估计的同时,需要考虑终端兼容的问题,这势必要考虑相应位置互相关性、自相关性的问题。同时,不同PN训练序列的选择,对SCDMA系统的影响以及信道评估的准确性、抗噪声的能力进行评估。此外,在SCDMA系统中基于训练序列来进行SCDMA系统信道评估,特别需要评估SCDMA系统采用了B.Steiner等人在文献中提出的适用于同步CDMA系统的低代价上行信道估计方法的主要性能。由于SCDMA系统为非周期性CDMA系统,它既不同于TD-SCDMA系统周期性CDMA系统,又不同于完全意义上为随机PN码非周期性系统。因此,如何在SCDMA系统进行联合检测也是本文的一个重要内容。     

无偏置ν-SVM分类优化问题研究

在高维空间中,分类超平面倾向于通过原点,即不需要偏置(b)。为了研究在ν-SVM分类问题中是否需要b,该文提出了无(b)的ν-SVM的对偶优化问题并给出了其优化问题求解方法。该方法通过有效集策略将对偶优化问题转化为等式约束子优化问题,然后通过拉格朗日乘子法将子优化问题转化为线程方程组来求解。实验表明偏置(b)的存在会降低ν-SVM的泛化性能,ν-SVM只能得到无(b)ν-SVM的次优解。     

流向磁场抑制Kelvin-Helmholtz不稳定性机理研究

采用CTU + CT (corner transport upwind + constrained transport)算法对磁流体动力学方程组进行求解, 分别对有无磁场控制条件下开尔文-赫姆霍兹(Kelvin-Helmholtz, KH)不稳定性的演化过程进行数值模拟. 数值结果分析了磁场(MA=3.33)对混合层流...     

浅谈数字微波通信技术在电视直播中的运用

数字微波通信技术为当前的电视直播提供了强有力的技术支持,本文在问要分析了无线摄像机数字微波通信技术原理的基础上,探讨了无线摄像机数字微波系统应用的具体要点,希望给我们的工作起到一定的指导作用。     

数字图像技术在地质勘探中的应用

随着数字图像处理技术的迅速发展,地震勘探方法已经从早期的模拟信号时代发展到了现在的高精度的数字信号时代,其计算效率也得到了大幅度的提高。当今数字信息处理技术从二维向三维迅速发展,模拟解析出的地质结构图像也更加清晰。基于网格剖分的走时线性插值算法具有较高的追踪精度和计算效率,在二维的条件下取得了广泛的应用,其三维算法也在不断探索中。论文在线性走时插值的基础上,提出了二次插值方法。该方法在原有算法的基础上,改善了走时场近场的走时计算精度。文章通过计算实例,验证了新算法的有效性。     

计算机硬件设备常见故障原理及维修

计算机的应用在当前已极为普及,而在应用过程中计算机故障也极为常见,其中硬件设备方面出现的问题尤为突出。笔者就此分析了计算机硬件设备的常见故障原理,探讨了其维修策略,希望有所指导和帮助。     

三网融合模式下全链路双备份路由

在三网融合模式下,利用全链路双备份路由方式,让用户体验到全年几乎零故障率的网络服务质量,并使得运行维护方面可以有充分的时间做出更合理、更优质的网络。介绍全链路双备份路由的具体构成。     

ARINC429总线信号数据的解析探析

通过本课题的研究和通用ARINC429总线数据解析的研究,实现了对多种外场可更换单元的ARINC429总线接口测试以及相应的ARINC429通讯板卡数据的解析解决方案的实验。     

空心结构NaYF4∶Yb,Er上转换材料的制备

以稀土三氟乙酸盐、氟化钠和三氟乙酸钠为原料通过溶剂热法成功制备出了空心结构的Na YF4∶Yb,Er上转换材料,探索了反应温度、钠离子浓度对产物形貌、晶相及发光性能的影响。利用扫描电镜,透射电镜,X射线衍射和发光光谱对产物的形貌、物相结构及荧光性能进行表征。结果表明,当Na F和Y3+的摩尔比为2.5,220℃溶剂热反应12 h时,可得到空心结构的上转换材料,该结构兼具上转换荧光、载药双重功能。     

过渡层（SiO2,TiO2）对F掺杂SnO2薄膜的光电性能影响研究

采用喷雾热解法分别在普通钠钙玻璃、含Si O2过渡层与Ti O2过渡层的玻璃上制备了F掺杂Sn O2薄膜,比较了不同过渡层上生长的F掺杂Sn O2薄膜的表面形貌特点,分析了过渡层对F掺杂Sn O2膜层的光电性能的影响。结果表明,过渡层种类对F掺杂Sn O2薄膜各项性能影响很大,在Si O2薄膜过渡层上制备的F掺杂Sn O2薄膜晶粒最小且表面致密,在Ti O2过渡层制备的F掺杂Sn O2薄膜晶粒最大,在玻璃上生长的F掺杂Sn O2薄膜较为疏松,以Si O2为过渡层制备的F掺杂Sn O2薄膜光电性能最佳,其平均可见光透过率为82.9%,电阻率为5.33×10-4Ω·cm,适合喷雾热解法制备性能优良的玻璃基F掺杂Sn O2薄膜。