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A two-dimensional supramolecular compound di-n-butyltin piperonylate, {(μ_3-O)(μ_2-OMe)(n-Bu_2Sn)_2[O_2CAr(C_2H_4O)]}_2 constructed by hydrogen bonds with a Sn_4O_4 ladder-like framework, was obtained by the microwave-assisted solvothermal reaction of di-n-butyltin oxide precursor with the piperonylic acid in methanol environments. The composite was characterized by elemental analysis and IR(~1H, ~(13)C and ~(119)Sn) NMR spectra. The compound crystallizes in monoclinic system, space group P21/n with a = 13.3690(12), b = 14.1442(14), c = 16.4022(16) ?, β = 107.191(6)°, V = 2963.0(5) ?~3, Z = 2, Dc = 1.520 g/cm~3, F(000) = 1368, μ = 1.719 mm~(-1), Mo Kα radiation(λ = 0.71073 ?), the final R = 0.0495 and w R = 0.1260 for 6780 observed reflections with I 2σ(I). Its X-ray crystallography diffraction analyses show a Sn_4O_4 ladder-like skeleton, in which two endocyclic tin and one exo tin atoms are bonded to the μ_3-O atom. In addition, one endocyclic tin and one exo tin atoms are respectively bonded to the μ_2-O atom from methanol. The ladder-like molecule has a three-ring fused skeleton, which is almost coplanar. The endocyclic and exocyclic tin atoms were all five-coordinated with distorted trigonal bipyramidal geometry. The antitumor activity showed that the compound had higher activities than cisplatin in HT-29, HepG2, MCF-7, KB and A549 cell line in vitro. 相似文献
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通过阐述通信施工与维护安全管理的重要性以及任务和特征,针对施工与安全维护管理过程中可能存在的问题,探析了在施工维护方面的策略和在现场的安全管理方面的策略。 相似文献
75.
文章主要讨论中立型分数阶微分滑模控制系统的稳定性问题.首先介绍分数阶积分、微分及广义Gronwall不等式的一些定义,然后构造切换面,给出控制律,最后通过李雅普诺夫定理来证明切换面存在,并得出系统的稳定性成立. 相似文献
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室温下,采用脉冲直流反应磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了氧化钒薄膜.研究了脉冲调制功率占空比对薄膜物相、表面形貌、组分和热敏电学性能的影响.X射线衍射测试结果表明在室温及不同占空比下生长的氧化钒薄膜均为非晶结构;原子力显微镜表面形貌测试表明降低占空比可以得到更加光滑的薄膜表面;X射线光电子能谱测试表明降低占空比能够在反应溅射气氛不变的情况下促进钒的氧化;对薄膜的热敏电学特性测试发现,在293~368 K,小极化子跳跃是脉冲反应磁控溅射氧化钒薄膜中主要的导电机制. 相似文献
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【摘要】:厅堂响度是厅堂音质的重要参量。基于厅堂脉冲响应能量的强度因子G作为厅堂响度客观评价参量,由于未考虑人耳的听觉特性与主观响度不一致。本文基于Moore时变响度模型计算了厅堂脉冲响应的响度,以厅堂脉冲响应的最大响度值作为厅堂响度参量,并分析了其在实际厅堂中的分布。 相似文献
79.
残影不良分析及改善对策研究 总被引:1,自引:1,他引:0
通过对大量残影不良样品进行分析,找到了残影不良产生的原因,并基于分析结果设计了改善残影的实验。通过分析发现:残影不良产生的原因是彩膜侧像素与黑矩阵之间的段差过大,在摩擦工程时段差过大区域形成了摩擦弱区,摩擦弱区内的液晶分子配向较弱,导致不良产生。为降低残影不良进行实验,结果显示:在彩膜侧加覆盖层可以有效降低残影不良的发生率,但不适用于量产;通过采用高预倾角的配向膜材料,同时控制配向膜工程到摩擦工程的时间,可使残影不良发生率由28.2%降低至0.2%,为企业的稳定高效生产奠定了基础。 相似文献
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