国产KDS-1型精密线切片仪介绍

在材料科学中,样品的切割是一个重要的问题.目前常用的方法有电火花切割、超声切割、慢速锯切割等.这些方法普遍存在的一些问题是,切片较厚,精度难以控制,切口大,同时由于切割时的激烈振动产生形变和缺陷.这对于制备需要进行材料结构分析的样品来说是必须解决的难点.1987年10月在北京举办的第二届北京仪器分析测试国际会议和展览会上,波兰人民共和国科学院高压研究所推出的线锯引起国内科研机构的关注,但鉴于价格昂贵很难在国内推广使用.根据这一信息,在吸收消化进口仪器特点的基础上,中国科学技术大学与安徽省合肥市红旗木村厂协作,试制该…     

Er2O3单晶薄膜的生长及Er2O3/Si异质结的能带偏移

利用分子束外延方法在p型Si(001)和Si (111)衬底上，在700℃ 0.93mPa的条件下实现了Er2O3单晶薄膜的生长.薄膜的结晶情况依赖于薄膜的生长温度和氧气压.较低的温度和氧气压下在薄膜内易生成硅化铒，薄膜也趋于多晶化.还利用光电子能谱对Er2O3/Si异质结的能带偏差进行了初步的研究.     

铒铥共掺氧化锌薄膜近红外宽带发射及变温行为的研究

采用磁控共溅射技术制备了铒铥共掺杂氧化锌发光薄膜. 通过优化退火温度, 实现了薄膜的近红外 平坦宽带发射, 总带宽可达到~ 500 nm, 覆盖了光通信S+C+L+U 区波段. 此发射带由Er³⁺ 的1535 nm (⁴I_13/2 → ⁴I_15/2) 发射峰及Tm³⁺ 的1460 nm (³H₄ → ³F₄), 1640 nm (¹G₄ → ³F₂), 1740 nm (³F₄ → ³H₆) 发射峰组成. 研究表明: 退火温度低于800 ℃ 时, 没有观察到薄膜样品明显的光致发光现象; 随着退火温度 从800 ℃ 升高到1000 ℃, I₁₆₄₀/I₁₅₃₅ 发射峰强度比从0.2 升高到0.3, I₁₇₄₀/I₁₅₃₅ 发射峰强度比从0.5 降低 到0.4, 发射峰强度比均基本保持稳定; 当退火温度高于1000 ℃ 时, I₁₆₄₀/I₁₅₃₅ 发射峰强度比从0.3 升高到 0.6, I₁₇₄₀/I₁₅₃₅ 发射峰强度比从0.4 升高到0.8, 发射峰强度比均急剧增加. 变温行为表明: 随着温度从10 K 逐渐升高到300 K, 谱线的总带宽基本不变, 在340—360 nm 之间; Tm³⁺ 在1640 和1740 nm 处的发射峰强度 分别降低了2/3 和1/2, Er³⁺ 在1535 nm 的发射峰强度增大了1.2 倍. 这是因为随着温度的升高, 声子数目增 多, Er³⁺ 与Tm³⁺ 离子之间发生能量传递的概率不断变大, 并且在Tm³⁺ 离子之间没有发生交叉弛豫现象.     

Compositional and structural evolution of the titanium dioxide formation by thermal oxidation

Titanium oxide films were prepared by annealing DC magnetron sputtered titanium films in an oxygen ambient. X-ray diffraction （XRD）, Auger electron spectroscopy （AES） sputter profiling, MCs^＋-mode secondary ion mass spectrometry （MCs^＋-SIMS） and atomic force microscopy （AFM） were employed, respectively, for the structural, com- positional and morphological characterization of the obtained films. For temperatures below 875 K, titanium films could not be fully oxidized within one hour. Above that temperature, the completely oxidized films were found to be rutile in structure. Detailed studies on the oxidation process at 925K were carried out for the understanding of the underlying mechanism of titanium dioxide （TiO2） formation by thermal oxidation. It was demonstrated that the formation of crystalline TiO2 could be divided into a short oxidation stage, followed by crystal forming stage. Relevance of this recognition was further discussed.     

锗硅双层量子点的光电流特性

在分子束外延 (MBE)系统上用自组织方式生长了硅基双层锗量子点结构 ,并对样品进行光电流谱的测试。通过调节不同外加偏压来改变量子点中的费米能级位置 ,量子点中载流子所处束缚能级将随之发生变化 ,所得到的光电流谱的峰位也将因此而改变。由光电流谱得到的实验结果与常规的光致发光谱的结果相吻合。与单层锗量子点结构相比 ,双层结构的样品在光电特性上有着明显不同 :光电流谱中 ,在 0 .767e V及 0 .869e V处出现了两个峰 ,分别对应于载流子在不同的量子点层中的吸收。用这种结构的样品制成的红外光探测器能够同时对两种不同波长的光进行探测响应     

SiGe/Si多重超晶格的声学声子光散射谱

ＳｉＧｅ／Ｓｉ多重超晶格的声学声子光散射谱黄大鸣刘晓晗王兴军朱海军蒋最敏（复旦大学物理系和应用表面物理国家重点实验室上海２００４３３）ＬｉｇｈｔＳｃａｔｅｒｉｎｇｆｒｏｍＡｃｏｕｓｔｉｃＰｈｏｎｏｎｓｉｎＭｕｌｔｉｐｌｅＳｉＧｅ／ＳｉＳｕｐｅｒｌａｔ...     

Transient Hole Trapping in Individual GeSi Quantum Dot Grown on Si（001） Studied by Conductive Atomic Force Microscopy

Electrical properties of individual self-assembled GeSi quantum dots grown on Si substrates are investigated by using conductive atomic force microscopy at room temperature. By controlling the bias voltage sweep in a certain fast sweep rate range, a novel current peak is observed in the current-voltage characteristics of the quantum dots. The current peaks are detectable only during the backward voltage sweep immediately after a forward sweep. The current peak position and intensity are found to depend strongly on the voltage sweep conditions. This kind of current-voltage characteristic under fast sweep is very different from the ordinary steady state current behaviour of quantum dots measured previously. trapping in the potential well formed bottom Si substrate. The origin of this phenomenon by the quantum dot sandwiched can be attributed to the transient hole between the native oxide layer and the     

在大学物理力学中的课程思政实践

课程思政建设是为了在尊重课程自身建设规律的前提下,实现价值引领、知识传授、能力培养三位一体的课程目标.课程思政建设和课程质量提升的内在目标应是一致的.我们以"大学物理A:力学"课程中变质量体系和角动量守恒定律的教学实践为例,对教学内容深化、拓展,结合中国火箭技术发展和矢量发动机研制成果以及在脉冲星导航技术研究方面的探索...     

电子束蒸发制备HfO2高k薄膜的结构特性

使用高真空电子束蒸发在p型Si（100）衬底上制备了高k HfO2薄膜.俄歇电子能谱证实薄膜组分符合化学配比；x射线衍射测量表明刚沉积的薄膜是近非晶的，高温退火后发生部分晶化；原子力显微镜和扫描电子显微镜检测显示在高温退火前后薄膜均具有相当平整的表面，表明薄膜具有优良的热稳定性；椭偏测得在600?nm处薄膜折射率为2.09；电容电压测试得到的薄膜介电常数为19.这些特性表明高真空电子束蒸发是一种很有希望的制备作为栅介质的HfO2薄膜的方法. 关键词： 高k薄膜 HfO2 电子束蒸发