不锈钢在14.6MeV中子轰击下质子发射的能谱和角分布

描述了用多路望远镜系统测量不锈钢在快中子辐照下质子发射的双微分截面,所测量的16个反应角的范围为25°—165°,平均分辨约为12°.并由此得到了出射质子的能谱、角分布和总发射截面.     

4-烷氧/苄氧基苯基四唑和1,3,4-噁二唑类化合物的合成及除草活性

以4-氰基苯酚为起始原料,在4-烷氧基/苄氧基苯甲脒结构基础上,设计合成了5个4-烷氧基/苄氧基苯基四唑及17个新型2-取代-5-(4-烷氧基/苄氧基)苯基噁二唑类化合物,通过元素分析、1H NMR和MS对所合成的新化合物进行了结构表征.初步除草活性测试结果表明,部分化合物对双子叶油菜和单子叶稗草表现出较好的生长抑制活性.     

不同形貌Ag_3PO_4的表面自由能及原位光催化过程的热力学和动力学参数

<正>目前,在利用表面能研究纳米催化剂形貌效应时,多以催化剂表面原子排布或不同晶面的夹角与密勒指数间的关系来定性描述表面能高低[1,2],或利用密度泛函理论对表面能进行理论计算[3,4],但其数值可能会因计算方法和模型不符而与真实值存在偏差,而表面能的实验测定至今仍无精确、可靠、通用的方法[5].因此发展一种准确获取表面能的普适性方法并与材料的催化性能相关联非常必要.微量热技术能对体系变化过程进行实时监测,通过体系变化过程的热力学和动力学参数获取纳米材料的     

全局参数自动估计的彩色图像偏振去雾方法

雾天环境下由于大气粒子对光线的散射作用导致成像质量下降, 针对雾霾等天气下图像退化问题, 提出了一种全局参数自动估计的彩色图像偏振去雾方法。利用不同角度的3幅偏振图像, 自动估算无穷远处的大气光和大气光的偏振度, 根据大气散射模型得到去雾后的图像。从RGB 3个色彩通道分别计算相应的参数, 使得算法适用于彩色领域。首先使用暗通道方法估计无穷远处的大气光和传输图, 并通过导向滤波对传输图优化; 然后基于大气光和目标光的不相关性, 采用全局搜索的方法估计大气光的偏振度; 最后根据大气散射模型恢复出清晰目标图像, 并利用对数变换进行增强。本文方法在雾霾天气下能够得到清晰的去雾图像, 且在浓雾天气下, 去雾图像的信息熵提升了约21%, 平均梯度提升了约2倍多, 标准差提升了约12%。实验结果表明, 本文方法较好地解决了人工取景估计参数不佳的问题, 提高了复原目标图像的清晰度和对比度, 可以用于彩色图像的目标探测与识别。     

基于FPGA的CMOS图像感器IA_G3驱动电路的研究

在分析DALSA公司的IA_G3 COMS面阵传感器驱动时序基础上,设计了SPI模式的寄存器配置电路,实现了CMOS图像传感器的成像功能.通过开窗口技术,方便地实现了感兴趣区域图像的读出.选用现场可编程门阵列(FPGA)作为载体,使用VHDL语言对驱动时序发生器进行了硬件描述.采用Quartus II 7.1软件对所做的设计进行功能仿真后,将程序烧写入FPGA(ALTERA公司的EP2C20F484C8)内,对IA_G3图像传感器进行配置,实验结果表明,上述电路满足CMOS相机的驱动要求.     

两步合金法制作p-GaN高反电极

利用两步合金法获得了能与p-GaN形成良好欧姆接触的高反射电极.电极的构成采用透明电极 高反射金属方案,厚的Ag层或Al层覆盖在合金后的Ni/Au上以提高电极的反射率,以Pt和Au作为覆盖层,可有效地防止Ag的氧化和团聚,短时间的热处理有助于Ag基电极反射率的提高.可靠性测试表明Ag基电极的稳定性较好,对于Al基电极,热处理后反射镜上出现暗斑,导致其反射率的下降.最终获得了波长在460nm处反射率为74%的Ag基高反射电极.     

电感耦合等离子体质谱法测定高锰酸钾中7种元素

<正>水处理方法有物理法、化学法、物理化学法和生物法等,不同的污染物可用不同的方法进行去除。选择污染物的处理方法不仅要考虑技术可行性,还要考虑经济合理性以及其对环境的影响[1]。高锰酸钾作为饮用水处理行业广泛使用的一种化学氧化剂,常用于水的除铁、除锰、除臭和除味等净水工艺中[1]。其成品中残留的少量重金属元素会随着药剂的投加进入饮用水中,给人体健康带来潜在危害。因此,国家标准GB 2513-2004[2]中规定高锰酸钾     

椭圆微带线色散特性的直线法分析＊

本文用直线法对椭圆微带线的色散特性进行了研究,导出了色散特性方程.在共焦椭圆情况下,当频率较低时,本文结果与准TEM波分析结果趋于一致。同时给出了两种微带结构的色散曲线。     

偏光棱镜调制器调制光强扰动的理论分析

以格兰-泰勒棱镜为例，根据实验现象对透射光强随旋转角扰动的原因进行了理论分析。实验中发现，透射光强曲线随着入射角的微小变化而偏离马吕斯定律，出现了周期性扰动。通过格兰-泰勒棱镜的单色偏振光束产生的干涉，再加上晶体-空气隙界面处反射比的因素，使得出射光强依赖于入射角。引入了扰动因子的概念，并系统讨论了扰动因子所造成的影响，从而得出了减小扰动的方法。理论研究结果与实验符合较好。为偏光棱镜的优化设计、生产及使用提供了理论基础。     

Forouhi-Bloomer离散方程在低k材料光学表征上的应用

半导体工艺中对低k介质材料的精确表征是工艺监控的重要环节,传统方法如扫描电子显微镜和透射电子显微镜存在耗时长和破坏性等缺点。使用一种结合了Forouhi-Bloomer离散方程组和宽光谱分光光度法的新方法,对低k薄膜进行光学表征,得到薄膜的折射率n、消光系数k和膜厚d,并将结果与椭偏仪的测量进行比较,证明了使用F-B方程在半导体工艺中精确表征低k材料的能力和这种方法快速无损的优点。