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11.
 采用输出特性不同的几种激光器测量了多种介质光学薄膜的破坏阈值,并对典型的破坏过程进行显微分析。研究了激光输出特性的不同对薄膜损伤效果的影响:在相同能量输出的条件下,脉冲激光比连续激光更容易形成有效的破坏;连续激光则能通过能量积累而更容易对作用目标造成烧蚀破坏。  相似文献   
12.
范瑞瑛  陆月妹 《中国激光》1984,11(11):686-690
本文对双层增透膜的误差进行了分析,指出非λ/4膜系的双层增透膜比λ/4膜系的光学性质有更大的稳定性。用Ta_2O_5和SiO_2作膜料在K_9玻璃基底上制备双层增透膜,其单面反射率小于0.03%,激光破坏阈值大于7千兆瓦/厘米~2(激光波长1.06微米,脉冲宽度1毫微秒)。  相似文献   
13.
薄膜应力研究   总被引:15,自引:0,他引:15  
综述了近几年薄膜应力研究的重点及新进展,探讨了薄膜应力研究的发展方向。  相似文献   
14.
用两种不同纯度的HfO2材料与同一纯度的SiO2材料组合,沉积Λ/4规整膜系(HL)^11H形成266nm的紫外反射镜,发现反射率相差0.7%左右。用X光电子能谱法分析了高反膜中表层HfO2中的成分,发现ZrO2的含量相差一个数量级左右。为确定形成这种差别的原因,用辉光放电质谱法测定了这两种HfO2材料中锆(Zr)及其钛(Ti)、铁(Fe)的含量,发现Zr是其中的最主要的杂质,两种HfO2材料中Zr含量有一个数量级的差别。说明在266nm波段,HfO2中ZrO2的含量会对HfO2/SiO2高反膜的反射率造成影响。根据HfO2单层膜的光谱曲线,推算出了这两种材料的消光系数的差别,并用Tfcalc膜系设计软件进行理论和镀制结果的模拟,得到与实验测试一致的结果。  相似文献   
15.
利用电介质保护膜提高铝镜和硅窗口的抗激光强度   总被引:2,自引:1,他引:1  
从加快热传导及其减小光能吸收两个方面入手,讨论了通过增镀介质膜提高铝镜和硅窗口的激光对抗能力的具体措施及其可行性。在1.06μm红外激光与铜蒸气激光损伤实验中,经过加固的样品的损伤阈值均有所提高,从而验证了加固措施的合理性。  相似文献   
16.
以前发表的文章中报道过用SiO2或Al2O3薄层保护的铝镜在8~12微米范围内在垂直入射时呈现髙反射,而在较大的入射角时呈现为低反射。这是由于在这区域内薄氧化物的光学常数n和k的值小于1所引起的。后来更进一步分析说明这个现象几乎完全依赖于保护层的厚度和光学特性,而且即使保护层是淀积在其它高反射的金属(例如银)上,也将呈现同样的情况。  相似文献   
17.
0.532 μm激光小光斑扫描预处理光学薄膜的研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
围绕着激光预处理的增强机理和具体工艺,进行了小光斑扫描处理的实验探索,对0.532μm波长预处理的实验结果进行了分析,进一步证实了激光预处理对改善光学薄膜质量、提高光学薄膜损伤阈值的有效性和可行性,并从实验角度给予了一定的分析解释。  相似文献   
18.
脉宽压缩光栅用的多层膜设计和性能分析   总被引:6,自引:3,他引:3  
应用于啁啾脉冲放大技术中的脉宽压缩光栅是基于多层膜作为基底,利用全息干涉技术和离子束技术刻蚀而成。脉宽压缩光栅的衍射效率和抗激光损伤阈值一方面依赖于光栅结构的设计,另一方面很大程度上取决于作为基底的多层膜的设计。给出了以413.1nm作为写入波长,1053nm作为使用波长的多层介质光栅膜的设计,样品在ZZS-800F型真空镀膜机上采用电子束蒸发方式沉积而成,并给出了膜系结构对光学性能影响因素的详细分析,结果表明膜系H3L(H2L)9H0.5L2.03H满足光栅膜的指标。给出了样品光学特性测试,其使用波长处的透射率<0.5%,写入波长处的透射率>90%,测试表明样品满足设计要求且实验结果和理论设计符合得很好。  相似文献   
19.
ZrO2薄膜残余应力实验研究   总被引:15,自引:3,他引:15  
采用ZYGO MarkⅢ-GPI数字波面干涉仪对电子束蒸发方法制备的ZrO2薄膜中的残余应力进行了研究,讨论了沉积温度、沉积速率等工艺参量对ZrO2薄膜残余应力的影响。实验结果表明:随着沉积温度及沉积速率的升高,ZrO2薄膜中残余应力状态由张应力变为压应力,且压应力值随着沉积温度升高而增大。同时用X射线衍射技术测量分析了不同沉积条件下ZrO2薄膜的微结构组织,探讨了ZrO2薄膜微结构与其应力的对应关系。  相似文献   
20.
微缺陷对薄膜滤光片环境稳定性的影响   总被引:4,自引:2,他引:2  
用热蒸发方法沉积了薄膜滤光片.并将样品分别在去离子水中浸泡10天和30天.通过分光光度计、光学暗场显微镜、及扫描电子显微镜等多种测试手段,对诱导透射滤光片在潮湿环境下的稳定性进行了研究.实验发现,在潮湿环境下滤光片产生的膜层分离都是从薄膜中微缺陷点处开始发生和发展的,微缺陷是影响滤光片环境稳定性的重要原因之一,其中杂质和针孔是滤光片中两种最常见的微缺陷.EDS能谱分析进一步表明,薄膜中杂质缺陷成分即为Al2O3膜料本身,所以不能推测,薄膜沉积中的喷溅可能是微缺陷产生的根本原因,抑制喷溅可以有效提高薄膜滤光片的环境稳定性.最后还用扩散理论对微缺陷引起滤光片失效的机理进行了分析.  相似文献   
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