不同基底上SiO_2薄膜红外波段的水吸收特性

研究了SiO2薄膜的微结构与水吸收特性之间的内在联系,分别在Si、Al2O3和JGS3基底应用电子束蒸发沉积SiO2薄膜。实验用原位傅里叶红外漫反射光谱(in-situ DRIFTS)检测薄膜水吸收特性,并结合原子力显微镜(AFM)进行微结构分析。实验发现:常温吸附状态时,薄膜表面的孔隙数目越多,SiO2薄膜水吸收量越大;薄膜表面粗糙度影响薄膜水吸收特性;升温过程薄膜出现退吸附现象以及蓝移效应。     

《光学学报》与上海光机所光学薄膜的发展

《光学学报》创刊已经30年了.30年来,《光学学报》在各个方面都得到令人瞩目的进步和发展,成为国内外最有影响的中文光学期刊之一.在这30年里,中国科学院上海光学精密机械研究所(简称上海光机所)光学薄膜实验室有近百篇学术论文发表在《光学学报》上,有力地推动了光学薄膜研究工作的进展,见证了光学薄膜实验室的发展历程.在《光学...     

飞秒脉冲激光系统中Gires-Tournois镜的设计

介绍了Gires-Tournois镜的基本结构,运用薄膜光学理论计算了Gires-Tournois镜的色散,分析了各个组成部分对Gires-Tournois镜性能的影响.结果表明:高反射膜堆的选择影响Gires-Tournois镜的反射率性能,高反射膜堆的周期数取值在20～30之间能得到较理想的Gires-Tournois镜设计性能;Gires-Tournois腔的厚度影响Gires-Tournois镜的色散性能,Gires-Tournois腔的光学厚度通常选择为四分之一中心波长的2或4倍,部分反射膜堆的结构影响Gires-Tournois镜的色散性能,部分反射膜堆的周期数应小于5.     

Influence of APS bias voltage on properties of HfO_2 and SiO_2 single layer deposited by plasma ion-assisted deposition

HfO2 and SiO2 single layer is deposited on glass substrate with plasma ion assistance provided by Leybold advanced plasma source (APS). The deposition is performed with a bias voltage in the range of 70-130 V for HfO2, and 70-170 V for SiO2. Optical, structural, mechanical properties, as well as absorption and laser induced damage threshold at 1064 nm of HfO2 and SiO2 single layer deposited with the plasma ion assistance are systematically investigated. With the increase of APS bias voltage, coatings with higher refractive index, reduced surface roughness, and higher laser-induced damage threshold (LIDT) are obtained, and no significant change of the absorption at 1064 nm is observed. For HfO2, a bias voltage can be identified to achieve coatings without any stress. However, too-high bias voltage can cause the increase of surface roughness and stress, and decrease the LIDT. The bias voltage can be properly identified to achieve coatings with desired properties.     

光学薄膜及其进展

对光学薄膜的性能及制备技术等方面进行了简要的评述,并指出随着科学技术的进步,光学薄膜及相关技术不论从广度还是深度来看都得到了显著发展.     

用气相化学沉积法制备光学薄膜

用气相化学沉积法制备薄膜的过程，包括薄膜制备工艺本身和制备高纯度易挥发的原始材料(有机化合物，氢化物和卤化物）以及有关化学动力学和催化剂等理论问题的研究。对气相化学沉积法的巨大兴趣是用来制备光学参数较好的薄膜。一般情况下其性能大大优于用其他方法，如真空热蒸发、阴极或磁控溅射、离子辐射以及化学方法制备的薄膜。     

离子束溅射法薄膜生长中结瘤微缺陷的生长机理

用离子束溅射法制备了锆单层薄膜.用设计新型夹具和预置种子方法，对薄膜中结瘤微缺陷的生长过程进行了研究.在高分辨率光学显微镜和扫描电子显微镜下观察发现，结瘤在其生长初期呈现出分形的特征.用分子动力学和薄膜生长的扩散限制聚集模型，薄膜中结瘤微缺陷成核时的分形现象得到了很好的解释. 关键词： 结瘤微缺陷 锆薄膜 扩散限制聚集模型     

紫外反射膜

对短于360亳微米波长的光学薄膜的需求，在薄膜的设计和生产方面形成了困难，但是可以克服的问题。     

TeSeIn相变记录薄膜的微观特性研究

TeSeIn是一种可逆光存贮介质.分别用单源热蒸发和磁控溅射制备TeSeIn膜.利用透射电镜(TEM)研究了膜的结构和微观形貌.利用俄歇剖面技术(AES-PRO)给出了膜的组分深度剖面,分析了TeSeIn记录介质膜与ZnS保护膜界面间的互扩散大小.利用X光电子能谱(XPS)分析了组元深能级结合能的化学位移.最后根据上面实验结果简要讨论了制备稳定的多元记录介质膜的方法.     

Modelling Analysis of Influence of Substrate Surface Defect on Optical Characteristics of Single-Layer Coating

A simple and practical model is used to analyse the influence of substrate surface defect on the optical characteristics of a single-layer coating. A single-layer coating is prepared and its optical properties are fitted. Some explanations for the origin of the transition layer are presented. It is concluded that there is a transition layer forming between the substrate and coating, which is attributed to substrate surface defects, and its refractive index change is nearly of linearity.