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在近日甲骨文公司(Oracle)公布的Oracle全球网格指数报告关于中国部分的调查结果显示:由于在实施网格计算的一些必备要素方面得了高分,中国在满分为10分的网格指数中获得了4.74的总分,明显超出了全球4.41分的平均水平并排在东南亚、北欧和澳大利亚/新西兰之后,列全球第四。中国还在标准化和整合程度这一关键领域以好几个点数的优势领先于全球平均水平。Oracle全球网格指数报告是基于独立咨询调查公司QuocircaResearch所实施的调查。Oracle网格指数通过具体的数量指标来反映企业采纳网格计算的历程,这些指标包括投资回报、网格投入程度、… 相似文献
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如果有一天你看到中国移动,中国联通为独立品牌的手机,千万不要大惊小怪,随着移动网络制式由2G,2.5G向3G的过渡,运营商将更多地插手到手机定制环节,在炮制这道菜谱的程序上,运营商会提出做道什么样的菜,最后烹制出一道大餐,不过菜名必须叫“全球通”, 相似文献
53.
改善网络管理的新兴技术正获得广泛关注。近日泛达公司推出一款全新产品——DPoE供电配线架,这是泛达专门设计的一系列管理型网络产品中的关键产品,以提高管理能力、改善投资回报率为主旨。DPoE供电配线架是一种经济可靠的网络器件,以利用数据和以太网在线供电(POE)融合所带来的机会。DPoE不需要单独的电源电缆,为在现有网络中部署PoE提供了经济的、节约空间的解决方案。 相似文献
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很多玩家都知道,PSP有着一块优秀的液晶屏幕,显示效果极佳,同时PSP还拥有一套强大的多媒体信息处理单元,不仅能够给我们带来完美的3D游戏效果,而且也能播放细腻的电影和各种视频文化。似乎一切都很完美,可有一点是PSP不能忽视的软肋,那就是存储空间的问题。[编者按] 相似文献
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C D M A发展组织C D G近日宣布,截至2005年年底,CDMA2000运营商数量已经达到143家,六大洲的67个国家已部署了该项技术。此外,2005年,CDMA20001xEV-DO(简称1xEV-DO)网络的数量也由16个增加到了29个,增长了近一倍,突出显示了该行业向先进宽带无线服务的快速转变。预计2006年,CDMA2000仍将保持强劲势头,将有30家新运营商部署CDMA2000商用网络(去年有20家),目前有21家运营商正在进行测试。未来几个月内,1xEV-DO网络的数量将达到70个,其版本A将进入商用阶段。CDMA2000是专为IMT-2000的新频段而设计的。c d m a O n e、TDMA、… 相似文献
58.
若待解方程满足旋转不变性,则可通过旋转通量法有效消除近似Riemann求解器的激波不稳定现象,抑制非物理现象的产生。针对二维理想磁流体(MHD)方程和浅水波磁流体(SWMHD)方程,构造了通量函数的类旋转矩阵,给出了方程的旋转不变性证明;根据该性质对控制方程做类一维处理,推导了方程的半离散旋转通量格式;利用通量限制器,将熵稳定通量和反扩散通量进行加权组合,得到能够自适应调整耗散量的高分辨率旋转通量格式。数值实验表明,此格式能精确捕捉解的结构,分辨率高、鲁棒性强,且易向高维推广。 相似文献
59.
由聚N,N-二乙基胺基甲基丙烯酸乙酯(PDEAEMA)与铁纳米颗粒复合制得的纳米铁基复合材料。纳米铁微球表面钝化形成Fe3O4后,将多巴胺基引发剂修饰在Fe3O4的表面,通过表面引发原子转移自由基聚合(SI-ATRP)将DEAEMA单体聚合在修饰了多巴胺基引发剂的表面获得Fe-g-PDEAEMA复合微球。显微结果表明修饰PDEAEMA后,复合微球的分散性得到了一定的提高;XRD数据表明在纳米铁表面生成了一层Fe3O4壳。利用透光率测定研究了复合微球的p H敏感性,表明在酸性条件下悬浮性良好,在碱性条件下发生了沉降,复合微球具有p H敏感性。通过还原降解酸性大红染料,表明Fe-g-PDEAEM复合微球与纳米铁相比,其还原性有所提高,合成的Fe-g-PDEAEMA复合微球可用于氯代烃等氯化物污染的水体保护。 相似文献
60.
We have prepared hydrogenated nano-amorph silicon (na-Si:H) films by using a hot-wire-assisted microwave electron-cyclotron-resonance (HW-MWECR) chemical vapour deposition (CVD) system. The films are deposited in two steps: in the first 9rain, a hydrogenated amorphous silicon layer is deposited by using hydrogen-diluted silane with a concentration of SiH4/(SiH4 H2) = 20%, and then a nanocrystalline silicon (nc-Si) layer is deposited by using various highly hydrogen-diluted silane. The Raman TO-like mode peak of the films was found in the range 497-508cm^-1. When the silane concentration used for preparation of the nc-Si layer is 14.3%, the film has a large crystalline volume fraction of 65.4%, a wide optical band gap of 1.89eV and a low hydrogen content of 9.5 at.%. Moreover, the na-Si:H films rather than nc-Si possess high photosensitivity of about 10^5. 相似文献