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本文利用Brambilla的波导阵列理论,结合HL-1装置的具体参数,计算了2.45 GHz低杂波耦合系统的波谱及波能的总体反射系数与边界等离子体密度剖面的关系。结果表明,要得到好的耦合效率及适合于电流驱动实验的波谱,有必要使波导口伸入孔栏阴影区1—1.5cm,使之尽量突破截止层,同时调节各波导间的相位差在70°—100°之间。 相似文献
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A3M2GeO12石榴石体系中Cr^3+离子的宽带发射光谱 总被引:1,自引:0,他引:1
首次报道在A3M2Ge3O12:Cr(A=Cd^2+,M=Al^3+,Ga^3+,Sc^3+)锗酸盐石榴石体系中,Cr^3+离子室温下的红-近红外宽发射带光谱性质。随位于八面体格位上的Al^3+→Ga^3+→Sc^3+和十二面体格位上的Cd^2+→Ca^2+组成顺序变化,室温下,Cr^3+离子的^4T2→^4A2能级跃迁的R-NIR宽发射带,发射峰及光谱的长波和短波边逐渐向低能长波边移动。 相似文献
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GaN材料作为第三代半导体材料,具有宽禁带、直接带隙、耐腐蚀等优点,是一种非常有前景的MOEMS材料。由于GaN的刻蚀目前尚未成熟,因此图形化外延生长法是一种较好的选择。本文基于SOI(silicon-on-insulator)基片,利用硅的微加工技术和图形化GaN分子束外延生长工艺,设计并加工了工作在太赫兹波段的、可以在二维方向上运动的SOI基GaN光栅。光栅周期为16μm,光栅宽度为6μm,峰值位置为25.901μm。通过仿真优化,设计的微驱动器在水平电压220V时,水平方向上的位移为±7.26μm;垂直方向加200V电压时,垂直位移2.5μm。为了研究在图形化SOI衬底上外延生长的InGaN/GaN量子阱薄膜的光学性能,用激光拉曼光谱仪对薄膜进行了光致发光光谱实验。实验结果表明,InGaN/GaN量子阱薄膜具有良好的发光性能,其发光范围为350~500nm,覆盖了紫外光到黄绿光。由于局域态效应与禁带收缩的作用,随着环境温度由10K升高至室温,薄膜的PL光谱的峰位呈现"S"形变化趋势。 相似文献
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