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文献建立了较完善的噪声理论,其显著的优点是使电路或器件的嗓声性能分析及低噪声设计的精度和效率大为提高.本文给出了针对该噪声理论的实验研究,从实测角度证明了该理论的正确性及其相应优点.文中给出的噪声谱测量系统相对已有其它噪声测量仪器具有能对整个低频噪声谱测量,精确度优于4%及自动测量等优点.文中还提出了器件噪声参数测量及优化提取方法.最后,给出了理论与实测结果的对比实例. 相似文献
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并联,反馈环节的噪声系数计算及其噪声设计准则 总被引:1,自引:1,他引:0
本文研究了噪声在电路中的传输特性,对构成任意复杂电路基本环节的噪声系数计算公式进行了推导,从而,解决了任意复杂电路的噪声系数计算问题。文末,还讨论了各种结构,特别是反馈的低噪声设计,得出了一些有实际意义的设计原则。 相似文献
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笔者曾采用94年《家庭电子》杂志第七期周新年同志介绍的低阻耳塞判断法检修彩电遥控器若干,甚感方便。但是有几次,当有按键按下时,耳塞里亦发出“哒哒”声,据上法笔者起初认为遥控器没有故障,浪费了许多时间。后来才发现是遥控器晶体振荡额率发生变化(多数频率变低)所致。实际上,当有按键按下时,无任何声响乃遥控器停振,有“哒哒”声但节奏 相似文献
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在芯片生产过程中,由于工艺的影响,带隙基准电压V_(BG)会存在偏差。在芯片测试阶段,需要对V_(BG)进行trim修调,使其满足芯片参数要求。简要分析了带隙基准电压误差的来源,提出了一种E-Fuse修调电路,通过程序中的代码控制修调电阻的大小,使V_(BG)满足要求。同时,在该修调电路的基础上,采用了一种新型算法,使得测试芯片V_(BG)的时间缩短了近558 ms,减少了测试时间,降低了测试成本。 相似文献
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采用高纯HNO3为氧化剂代替传统的氧化剂,以GeO2为玻璃化试剂,建立了一种简单、高效的硫化物熔融玻璃片的前处理方法。XRF和LA-ICPMS分析结果表明,相对于粉末压片法,熔片法制备的样品具有更好的均一性和可靠性。3种硫化物国家一级标准物质的XRF和LA-ICPMS主次量元素(Si,Al,Fe,Mg,K,Ca,Na,Mn,Cu,Zn)分析测试结果均与推荐值相吻合(Ti缺少推荐值),测定误差都在允许范围内,XRF三次熔片测试结果的精密度RSD<5.6%;LA-ICPMS 15次测试结果精密度RSD<3%。表明建立的硫化物熔融玻璃片的前处理方法可较好的应用于XRF和LA-ICPMS分析硫化物中的主次量元素。 相似文献