氘化物阴极真空弧放电光斑分布

氘化物真空弧放电在许多领域均有应用,如无损检测、石油探井、中子活化分析等。和金属阴极不同,氘化物阴极放电时会释放大量的气体分子,表现出许多不同性质。采用放大镜头和ICCD相机观察了氘化物阴极真空弧放电光斑分布。测量系统的空间分辨率约为5 μm,时间分辨率最小2 ns。放电脉冲半高全宽（FWHM）0.9 μs,弧流波形为半周期正弦波。实验结果表明,氘化物真空弧放电时,所有阴极斑聚集为一个群落,表现为一个大光斑;在液滴作用下,阴极斑群落偶尔也会分裂为两个或多个群落;光斑形状不受弧流影响,但面积和亮度会随弧流增加而增大。氘化物阴极放电斑点聚集有利于产生高密度等离子体,提高放电效率。     

色噪声背景下正弦参量估计的互谱矩和SVD方法

互谱估计方法是用于色噪声背景下正弦信号参量估计的一个十分有效的方法。但以往互谱估计都是采用FFT方法和互周期图法。本文首次将现代谱估计方法引入到互谱估计中,从理论上建立了互相关函数的Yule-Walker方程,并在此基础上进而提出了互谱估计的矩估计法和SVD方法。给出了仿真实例结果。     

可用于动目标探测的新型电光扫描装置

目标探测器是导弹的重要组成部分。在对空中动目标探测时，由于导弹与目标在空中遭遇的随机性与瞬时性，要求主动光学目标探测器全方位快速扫描与探测。现有的定制扫描探测技术，不能窄波束动态扫描。技术发展需要寻求二维平面成像甚至三维立体成像高分辨率的扫描探测新体制。文中介绍了一种新型的激光扫描装置一电光扫描阵列装置。简要阐述了其工作原理，分析了器件结构、光波导效应对扫描特性的影响，研制了4光波导阵列芯片及相应驱动电源，并成功地进行了初步的试验，验证了该器件快速广角扫描的可行性。该技术必将为主动光学目标探测器的激光成像探测新体制提供新型扫描技术与器件。     

新加坡发布IP电话管制新政策

为了促进新加坡VOIP业务的发展，新加坡电信管制机构IDA于2005年6月中旬宣布，IDA将引入新的IP电话管制框架，为那些有兴趣提供IP电话业务的运营商发放牌照及分配电话号码。IDA希望IP技术的引入能够降低电话业务的成本，从而降低价格及为用户提供更为丰富多彩的业务。IDA的一个发言人表示，为IP电话提供电话号码为用户带来了方便，     

柔性有机场效应晶体管研究进展

柔性有机场效应晶体管具有可折叠、质量轻、低成本等优点,在柔性显示、柔性传感器、柔性射频标签和柔性集成电路等方面显示了广阔的应用前景.本文在介绍柔性有机场效应 晶体管最新研究进展的基础上, 总结了柔性有机场效应晶体管的器件结构和柔性有机场效应晶体管所使用的衬底材料、 栅绝缘层材料、有源层材料及电极材料, 阐述了柔性有机场效应晶体管的制备工艺, 并讨论了不同的弯曲方式对柔性有机场效应晶体管性能的影响, 最后总结和展望了柔性有机场效应晶体管的应用领域. 关键词： 柔性 晶体管 有机/聚合物 溶液加工     

基于特征投影图的小麦近红外光谱变量选择方法研究

为了简化模型,提高模型预测精度,利用特征投影图(LPG)进行变量选择。对原始光谱进行连续小波变换(CWT),利用主成分分析(PCA)得到LPG,假定LPG中共线性光谱变量对建模作用相同,选出少数特征光谱变量建立预测模型,所得模型预测均方根误差(RMSEP)为0.345 4,优于其他建模方法,研究结果表明,LPG变量选择可有效简化近红外光谱模型,提高模型预测精度。     

高能X射线源焦斑尺寸的时间分辨诊断

将门控分幅相机与快闪烁晶体结合,构成时间分辨X射线诊断系统,对神龙一号直线感应加速器产生的高能脉冲X射线源焦斑进行了测量,在时间间隔为10 ns的情况下,获得了焦斑尺寸随时间的变化曲线。在此基础上,设计了单像素尺寸为0.78 mm×0.78 mm的LYSO闪烁晶体阵列,并进行了X射线照射晶体阵列发光的初步实验,结果表明该阵列可用于高能X射线源焦斑的时间分辨诊断,并能显著提高成像的空间分辨力。     

窄带滤光片设计中通带半宽度、矩形度和陡度的影响因素研究

窄带滤光片设计中的一些参数,会对其性能产生影响。为了揭示它们之间的变化关系,在光学薄膜设计软件Essential Macleod中进行了模拟实验。主要针对窄带膜系中的高低折射率之差,干涉级次,反射层层数和腔数对其通带半宽度、矩形度和陡度的影响进行了分析,并得到了它们的影响规律。对于进行窄带滤光片的设计有一定的指导作用。     

全息片质量对原子全息光刻图形影响的模拟研究

全息片质量是影响原子全息光刻再现图形质量的关键因素，然而其制作工艺复杂，工序繁多，质量难以控制，模拟研究有助于把握全息片制作工艺中的关键环节，提高全息片的质量。详细模拟了全息片的三个主要质量指标：刻透率、分辨力以及薄膜厚度对再现像质的影响，结果表明：刻透率控制在90％左右即可满足要求，分辨率应优于0．1μm，膜层应尽量均匀。