基于机器学习和第一性原理计算构建双电子转移通道加速CO2光还原(英文)

光催化还原CO₂技术可以将CO₂转化为高附加值化学品,在解决日益严重的环境污染和能源危机方面具有巨大潜力.然而,CO₂分子较高的C=O键键能(750 kJ mol^-1)为其活化和还原带来了挑战.因此,构建具有新型电子转移路径的光催化剂具有重要意义.与传统的单电子传输通道相比,层状材料的多电子传输通道在改善载流子传输能力方面具有明显的优势.然而,设计具有合适参数的多电子通道光催化剂模型仍是重要挑战.本文首先采用理论计算预测了具有双电子转移通道、参数匹配的三元异质结BiOBr-Bi-g-C₃N₄;然后,通过机器学习探讨了各种实验参数对双电子传输通道的光催化活性影响的线性规律,优化了实验参数,制备了光催化活性较高的BiOBr-Bi-g-C₃N₄催化剂;最后,结合第一性原理计算和实验表征结果揭示了其光催化机理.理论计算结果表明,BiOBr-Bi-g-C₃N₄异质结具有最佳的吉布...     

IM-5分子筛在Ni-Cu催化剂甲烷热裂解制氢反应中的作用研究

甲烷热裂解制氢并生成高附加值的纳米碳材料,被认为是极具发展前景的氢气生产途径,但高性能催化剂的研发仍存在诸多挑战.我们选择多种载体(TS-1、 IM-5、 Y、介孔SiO₂、 γ-Al₂O₃、 CNTs),采用浸渍法制备Ni-Cu负载催化剂,通过低温N2吸附-脱附、 XRD、 SEM和H₂-TPR等系列表征方法对样品进行分析,考察不同载体对催化剂甲烷裂解制氢和纳米碳材料的影响.实验结果发现,分子筛载体独特的孔道结构有利于金属颗粒的分散,能有效避免反应中界面效应导致的催化剂失活,可提高催化剂反应活性并延长反应寿命,也显著提高了其碳产率.其中以IM-5分子筛为载体的催化剂表现最佳,在反应温度为700℃时, NiCu/IM-5催化剂甲烷转化率高达80%,氢气选择性达100%,反应400 min后活性未见明显降低. NiCu/IM-5催化剂碳产率高达1 446 g_C/g_cat,是NiCu/SiO₂催化剂的5.7倍, NiCu/γ-Al     

杨村烟煤与石油渣油共处理反应特性的研究

用共振搅拌反应器研究了山东兖州杨村的烟煤与北京燕山石化公司的石油渣油共处理液化的反应过程，考察了反应温度和反应时间对煤液化转化率及产物中前涸青烯，苯可溶组分的影响。     

含苯环亲水共聚物形态及溶液荧光

研究含芳环（生色团）的亲水性高分子对于了解高分子结构和性质之间的关系，开发新型发光材料很有意义[1.2]．前文[3.4]借报道了N-乙烯基咋冷丙烯酸共聚物（NVC－AA）的合成及发光性能研究，本文报道含苯环亲水高分子苯乙烯一丙烯酸共聚物（ST－AA）的微观结构与荧光特性?..     

日本工业标准(有色金属部分)中译本即将出版

为促进分析技术情报资料的交流,由冶金部情报标准研究总所组织,有色金属研究总院编译的《日本工业标准(有色金属部分)》即将由冶金工业出版社出版。内容包括轻金属、重金属、贵金属、难熔金属、稀有金属,及其合金等有色金属锭、棒、带、板、丝、粉的132个迄今沿用的标准分析检测方法,每个标准方法都附有相应的注释和说明。这些方法涉及重量法、容量法、分     

Novel optical lithography using silver superlens

This work has demonstrated that with silver superlens,the resolution of conventional optical lithography can be improved significantly.Experimental and simulative results are given to verify the facts that the resolution and the pattern fidelity are sensitive to the contact tightness between layers.     

急性低氧条件下人脑电图的变化及低氧耐受能力与高山适应能力的关系

本文研究了低压舱急性低氧条件下,人的脑电图变化、低氧耐受能力与高山适应能力之间的关系,并根据18名受试者的测量结果,证明它们之间关系密切。     

Structure Characterization of HSQ Films for Low Dielectrics Using D5 as Sacrificial Porous Materials

Low-density materials, commercially available hydrogensilsesquioxane （HSQ） offer a low dielectric constant. HSQ films can be obtained by spin on deposition （SOD）. In this work, low-dielectric-constant HSQ films are prepared by using D5 （decamethylcyclopentasiloxane） as sacrificiaJ porous materials. The dielectric constant of silica films significantly changes from 3.0 to 2.4. We report the structural aspects of the films in relation to their composition after annealed at 300℃, 400℃, and 500℃ for 1.5h in nitrogen ambient and annealed at 400℃ for 1.5h in vacuum. Si-OH appears after annealed at 400℃ for 1.5h in vacuum. The results indicate that the proper condition is in nitrogen ambient. Intensity of the Sill peak increases with the increasing temperature. Fourier transform infrared spectroscopy is used to identify the network structure and cage structure of Si-O-Si bonds and other possible bonds. Dielectric constant k is significantly lowered by annealing at 350℃ for 1.5h in nitrogen ambient. The I-V and C-V measurements are used to determine the dielectric constant, the electric resistivity and the breakdown electric field.     

断言技术在SOC验证中的应用

主要阐述了基于断言技术新硬件验证平台用于实时监测设计描述是否违反了设计目标,提出了OVA的特点及应用,并以LCD controller的sharp接口时序为实例讲解了该方法的优点。