利用FPGA实现红外焦平面器件的非均匀性校正

与红外单元器件系统相比,焦平面面阵测器的一个最大的缺点是其固有的非均匀性,尽管现在面阵探测器的非均匀性有了很大改进,但是非均匀性仍然限制凝视红色系统的探测性能。实用化、、实时的非均匀性校正是红外焦平面器件应用的一个关键技术,尽管现在已经有很多种基于场景的非均匀性校正方法,但是两点校正算法仍然是基础的校正方法,有不可替代的价值。两点校正算法的流程简单固定,非常适合用ＦＰＧＡ实现。文章介绍了利用ＦＰＧ     

晶体管收音机功率放大级的原理与故障检修

<正> 晶体管收音机的功率放大级的主要任务,是把由前置放大级送来的低频信号进一步加以放大,并以足够的功率推动扬声器发声。常用的功率放大电路有甲类功率放大、乙类推挽功率放大、无输出变压器和无变压器的OTL电路等几种类型,尤以乙类推挽功率放大电路和无变压器的OTL电路应用最为广泛。本文叙述它们的电路结构、基本原理与故障检修。     

硅基多层布线集成组装技术

本文叙述了多芯片组件和多层布线集成组装技术的研究和进展,介绍了硅基多层布线集成组装技术的特点和设计考虑,扼要地叙述了硅基多层布线的制造工艺,并讨论了工艺中所出现的问题。     

夜视技术的应用发展及对策

本文叙述了微光夜视技术及红外夜视技术的应用与发展并对抗敌夜视器材进行了探讨。     

双台面工艺

在混合或其他电路中,无封装的半导体片虽然能减少器件封装的费用,但大多数器件都相当脆弱,必须非常仔细地操作才不致损坏或沾污。采用的玻璃钝化虽然减少捐坏,但是在热应力下器件边缘会发生少量的碎裂现象,并引起器件沾污。对杂质极为敏威的三端交流开关器件尤为麻烦。在玻璃纯化半导体开关元件中,通常在有源区周围淀积玻璃槽,将结隔离开。但是,在     

一个不正确的图

索科罗夫教授编的八年级用的物理课本中有一个不正确的图,这就是图163(即人民教育出版社的高中课本第一册的图174——译者)。课本正文中在这个地方说的是:“我们可以用一个最简单的例子来说明向心力的发生。球穿在一个可绕轴旋转的棍上,在棍的另一端有一个小钩(图168)。如果棍开始由图中的水平位置沿顺时针方向转动,那么,在开始的瞬刻棍上的各点和小球就得到了速度,球的速度的方向用箭头AB画出。小球的惯性使它沿棍运动;球依次占有的位置是A_1、A_2、A_3,一直达到棍的末端。当小球与钩接触时,它在原来方向上的运动随即终上。……”     

金属-半导体和金属-绝缘体界面处势垒高度的介质理论

已知金属-半导体和金属-绝缘体界面处势垒高度φB 同金属的功函数φ_M 大致成线性关系式中 S 和φ_O 是半导体和绝缘体的特征常数。斜率 S 随离子性由0.1(共价材料)增到1(离子材料)。     

压电型惯性微驱动器研究

提出基于惯性-摩擦的新型压电驱动方式,设计出可实现直线运动和圆周运动的压电微型驱动器。对微驱动器进行了动力学建模,给出了试验结果及分析,并讨论了驱动器的应用方向。     

N2分压对ZrN/WN纳米多层膜缺陷性质与力学性能的影响

利用射频磁控溅射系统在不同N₂分压的条件下，制备了一系列ZrN/WN纳米多层膜.借助慢正电子湮没技术分析了样品的缺陷性质，采用纳米压痕仪研究了多层膜的力学性能.结果发现：N₂分压为0.4Pa的多层膜具有最小的空位型缺陷浓度，其中心层和膜基结合层的平均S参数分别为0.4402和0.4641，而较低或较高的N₂分压都可能导致空位型缺陷浓度的增加.随着空位型缺陷浓度的减小，多层膜的硬度和临界载荷增大.对于空位型缺陷浓度最小的多层膜，其硬度和临界载荷达到最大值，分别为34.8GPa和100mN，说明较低的缺陷浓度有利于提高多层膜的力学性能. 关键词： ZrN/WN纳米多层膜 缺陷性质 力学性能 慢正电子湮没