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41.
42.
通过分析脱模过程的摩擦力,讨论了模具表面处理工艺与压模质量的关系,给出了降低脱膜过程摩擦力的工艺方法.实验结果表明,用类聚四氟乙烯膜作为脱模剂能大大减小模具表面与聚合物表面的摩擦力.研究了压模、脱模工艺参数对实验结果的影响,基于HEX-02塑铸系统,真空条件下,在压模温度为195℃,模压压强为8 MPa的环境下,利用热压印技术在PMMA薄膜上复制出周期为120 nm的纳米光栅.  相似文献   
43.
分析了菲涅耳近似模型在接近式光刻模拟中的应用和误差起源 ,并根据光的标量衍射理论 ,对菲涅耳近似模型进行了修正 ,得到了更加准确的类菲涅耳近似模型 ;并对这两种模型的模拟结果进行了比较  相似文献   
44.
分析了菲涅耳近似模型在接近式光刻模拟中的应用和误差起源,并根据光的标量衍射理论,对菲涅耳近似模型进行了修正,得到了更加准确的类菲涅耳近似模型;并对这两种模型的模拟结果进行了比较.  相似文献   
45.
LIGA技术制造微流量计的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
介绍了利用LIGA技术中的同步辐射光刻、微电铸技术和微装配技术制作微流量计的研究,讨论了微流量计的结构和工作原理。设计和研制了一种微流量计。  相似文献   
46.
The copolymers of chloroethyl methacrylate (CMA), glycidyl methacry-late (GMA), and methyl methacrylate (MMA) were synthesized in benzene solution. Theirbreadths of the molecular weight distributions are 2.1 and 2.3, respectively The ther-mal stability of P(GMA-CMA) is superior to that of P(CMA-MMA). The resolutionsof P(CMA-MMA) and P(GMA-CMA) photoresists were found to be 0.1~0.16μm and0.17 ~0.2μm, respectively.  相似文献   
47.
田扬超 《物理》2000,29(10):637
20 0 0年全国青年学者同步辐射研讨会于 4月 5日至 6日在中国科学技术大学国家同步辐射实验室召开 .本次研讨会由中国物理学会全国同步辐射专业委员会主办、国家同步辐射实验室承办 ,第二届同步辐射专业委员会主任委员张新夷教授任会议主席 .参加会议的有来自中国科学院高能物理研究所、上海同步辐射光源、中国科学技术大学国家同步辐射实验室及全国各用户单位的青年学者 6 0余人 .会上 ,冼鼎昌院士和王迅院士分别作了题为“世纪之交的同步辐射应用”和“第三代同步辐射光源与表面物理研究”的特邀报告 ,冼鼎昌院士的报告对同步辐射的 50年…  相似文献   
48.
作为应用于第三代同步辐射光源的一种重要X射线元件,复合折射透镜成为近年来X射线光学研究的热点之一。平面抛物形折射透镜是复合折射透镜的重要一种。研究过程中,考虑到X射线衍射仪的特定检测环境及随后加工上的技术要求,优化设计了透镜各个参数,用ZEMAX软件对透镜进行光线追迹,模拟验证了设计结果。单组透镜的几何孔径为250 μm,焦距为30 cm。共设计30组透镜,透镜个数从1个变化到30个,相应的抛物形顶点处的曲率半径从1.23 μm变化到37 μm。在光子能量为8.05 keV条件下,透镜的理论透过率从43.3%变化到33.2%。焦斑直径均在微米量级。采用紫外光刻微加工技术,制作了SU-8光刻胶平面抛物形折射透镜。透镜厚度为224 μm。透镜光学性能的测试正在进行中。  相似文献   
49.
电子束光刻是微电子技术领域重要的光刻技术之一,它可以制备特征尺寸10nm甚至更小的图形.随着电子束曝光机越来越多地进入科研领域,它在微纳加工、纳米结构的特性研究和纳米器件的制备等方面都呈现出重要的应用价值.本文以几种常见的电子束曝光机为例,说明电子束光刻的工作原理和关键技术,并给出一些它在纳米器件和微纳加工方面的应用实例.  相似文献   
50.
微细加工新方法——LIGA技术   总被引:2,自引:0,他引:2  
田扬超 《物理》1996,25(2):0-0
本文介绍了一种微细加工新方法LIGA(inGerman LIthograhy,GalvanoformungAbformung)技术的基本原理及特点.同时还简单说明了这种方法的技术要求.报道了国内外在这方面开展研究的成果  相似文献   
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